高速率磁控濺射本質(zhì)特點(diǎn)是產(chǎn)生大量的濺射粒子，導(dǎo)致較高的沉積速率,。實(shí)驗(yàn)表明在較大的靶源密度在高速濺射,，靶的濺射和局部蒸發(fā)同時(shí)發(fā)生,，兩種過(guò)程的結(jié)合保證了較大的沉積速率（幾μm/min）并導(dǎo)致薄膜的結(jié)構(gòu)發(fā)生變化。與通常的磁控濺射比較,，高速濺射和自濺射的特點(diǎn)在于較高的靶功率密度Wt=Pd/S>50Wcm-2,，（Pd為磁控靶功率，S為靶表面積）,。高速濺射有一定的限制,，因此在特殊的環(huán)境才能保持高速濺射，如足夠高的靶源密度,，靶材足夠的產(chǎn)額和濺射氣體壓力,，并且要獲得較大氣體的離化率。較大限制高速沉積薄膜的是濺射靶的冷卻,。在各種濺射鍍膜技術(shù)中,，磁控濺射技術(shù)是較重要的技術(shù)之一。湖北陶瓷靶材磁控濺射分類(lèi)

磁控濺射方法可用于制備多種材料,如金屬,、半導(dǎo)體,、絕緣子等,。它具有設(shè)備簡(jiǎn)單,、易于控制,、涂覆面積大,、附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn).磁控濺射發(fā)展至今,，除了上述一般濺射方法的優(yōu)點(diǎn)外,，還實(shí)現(xiàn)了高速、低溫,、低損傷,。磁控濺射鍍膜常見(jiàn)領(lǐng)域應(yīng)用：1.各種功能薄膜：如具有吸收,、透射、反射,、折射、偏振等功能.例如,，在低溫下沉積氮化硅減反射膜以提高太陽(yáng)能電池的光電轉(zhuǎn)換效率.2.微電子：可作為非熱鍍膜技術(shù)，主要用于化學(xué)氣相沉積(CVD).3.裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用：如各種全反射膜和半透明膜,；比如手機(jī)殼,、鼠標(biāo)等.河北真空磁控濺射儀器磁控濺射在靶材表面建立與電場(chǎng)正交磁場(chǎng)，解決了二極濺射沉積速率低,，等離子體離化率低等問(wèn)題,。

磁控濺射就是在外加電場(chǎng)的兩極之間引入一個(gè)磁場(chǎng),。這個(gè)磁場(chǎng)使得電子受到洛倫茲力的束縛作用，其運(yùn)動(dòng)路線受到控制,，因此大幅度增加了電子與Ar分子（原子）碰撞的幾率，提高了氣體分子的電離程度,，從而使濺射效率得到很大的提升。濺射現(xiàn)象自發(fā)現(xiàn)以來(lái)己被普遍應(yīng)用在多種薄膜的制備中,，如制備金屬,、半導(dǎo)體,、合金,、氧化物以及化合物半導(dǎo)體等,。磁控濺射包括很多種類(lèi),。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象,。但有一共同點(diǎn):利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材,。磁控濺射在技術(shù)上可以分為直流(DC)磁控濺射,、中頻(MF)磁控濺射、射頻(RF)磁控濺射,。

真空磁控濺射鍍膜工藝具備以下特點(diǎn)：1,、沉積速率大,。由于采用高速磁控電極,，可獲得的離子流很大,，有效提高了此工藝鍍膜過(guò)程的沉積速率和濺射速率,。與其它濺射鍍膜工藝相比，磁控濺射的產(chǎn)能高,、產(chǎn)量大,、于各類(lèi)工業(yè)生產(chǎn)中得到普遍應(yīng)用。2,、功率效率高。磁控濺射靶一般選擇200V-1000V范圍之內(nèi)的電壓,，通常為600V,，因?yàn)?00V的電壓剛好處在功率效率的較高有效范圍之內(nèi)。3,、濺射能量低。磁控靶電壓施加較低,，磁場(chǎng)將等離子體約束在陰極附近,，可防止較高能量的帶電粒子入射到基材上,。磁控濺射的優(yōu)點(diǎn)：膜的牢固性好。

磁控濺射鍍膜是現(xiàn)代工業(yè)中不可缺少的技術(shù)之一,，磁控濺射鍍膜技術(shù)正普遍應(yīng)用于透明導(dǎo)電膜,、光學(xué)膜,、超硬膜、抗腐蝕膜,、磁性膜、增透膜,、減反膜以及各種裝飾膜,，在**和國(guó)民經(jīng)濟(jì)生產(chǎn)中的作用和地位日益強(qiáng)大,。鍍膜工藝中的薄膜厚度均勻性,，沉積速率,，靶材利用率等方面的問(wèn)題是實(shí)際生產(chǎn)中十分關(guān)注的,。解決這些實(shí)際問(wèn)題的方法是對(duì)涉及濺射沉積過(guò)程的全部因素進(jìn)行整體的優(yōu)化設(shè)計(jì),，建立一個(gè)濺射鍍膜的綜合設(shè)計(jì)系統(tǒng)。薄膜厚度均勻性是檢驗(yàn)濺射沉積過(guò)程的較重要參數(shù)之一,，因此對(duì)膜厚均勻性綜合設(shè)計(jì)的研究具有重要的理論和應(yīng)用價(jià)值,。用真空磁控濺射鍍膜設(shè)備可在車(chē)窗玻璃鍍涂二氧化鈦，這個(gè)鍍層可以賦予車(chē)窗自清潔效果,。湖北陶瓷靶材磁控濺射分類(lèi)

真空磁控濺射技術(shù)是指一種利用陰極表面配合的磁場(chǎng)形成電子陷阱。湖北陶瓷靶材磁控濺射分類(lèi)

脈沖磁控濺射是采用矩形波電壓的脈沖電源代替?zhèn)鹘y(tǒng)直流電源進(jìn)行磁控濺射沉積,。脈沖濺射可以有效地抑制電弧產(chǎn)生進(jìn)而消除由此產(chǎn)生的薄膜缺陷，同時(shí)可以提高濺射沉積速率,，降低沉積溫度等一系列明顯的優(yōu)點(diǎn),，是濺射絕緣材料沉積的首先選擇的工藝過(guò)程,。高功率脈沖磁控濺射技術(shù)作為一種高離化率物理中氣相沉積技術(shù)，可以明顯提高薄膜結(jié)構(gòu)可控性,，進(jìn)而獲得優(yōu)異的薄膜性能，對(duì)薄膜工業(yè)的發(fā)展有重要意義,。近幾年來(lái)，高功率脈沖磁控濺射技術(shù)在國(guó)內(nèi)外研究領(lǐng)域和工業(yè)界受到了普遍關(guān)注和重視,。湖北陶瓷靶材磁控濺射分類(lèi)