磁控濺射技術(shù)是一門起源較早,，但至今仍能夠發(fā)揮很大作用的技術(shù),。它的優(yōu)越性不只體現(xiàn)在鍍膜方面,，更滲透到各個(gè)行業(yè)領(lǐng)域。時(shí)至如今,，我國的濺射技術(shù)水平較之以前有了很大的突破,。隨著時(shí)代進(jìn)步和現(xiàn)代工業(yè)化生產(chǎn)需求，社會(huì)對(duì)磁控濺射工藝的要求也越來越高,，這就需要廣大科研人員不斷深入探究,，對(duì)這項(xiàng)技術(shù)進(jìn)行進(jìn)一步研究和改良，增強(qiáng)其精度和功能,，滿足日益增長的現(xiàn)代工業(yè)需求,，更好的為社會(huì)發(fā)展和科學(xué)進(jìn)步貢獻(xiàn)力量。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所,。磁控濺射屬于輝光放電范疇,，利用陰極濺射原理進(jìn)行鍍膜,。黑龍江真空磁控濺射實(shí)驗(yàn)室

磁控濺射應(yīng)用：（1）磁控濺射技術(shù)在光學(xué)薄膜(如增透膜),、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等方面也得到應(yīng)用。在透明導(dǎo)電玻璃在玻璃基片或柔性襯底上,濺射制備SiO2薄膜和摻雜ZnO或InSn氧化物(ITO)薄膜,，使可見光范圍內(nèi)平均光透過率在90%以上,。（2）在現(xiàn)代機(jī)械加工工業(yè)中,利用磁控濺射技術(shù)制作表面功能膜、超硬膜,自潤滑薄膜,能有效的提高表面硬度,、復(fù)合韌性,、耐磨損性和抗高溫化學(xué)穩(wěn)定性能,從而大幅度地提高涂層產(chǎn)品的使用壽命。磁控濺射除上述已被大量應(yīng)用的領(lǐng)域,還在高溫超導(dǎo)薄膜,、鐵電體薄膜,、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料,、太陽能電池,、記憶合金薄膜研究方面發(fā)揮重要作用。貴州多功能磁控濺射平臺(tái)磁控濺射鍍膜的適用范圍：建材及民用工業(yè)中,。

脈沖磁控濺射是采用矩形波電壓的脈沖電源代替?zhèn)鹘y(tǒng)直流電源進(jìn)行磁控濺射沉積,。脈沖濺射可以有效地抑制電弧產(chǎn)生進(jìn)而消除由此產(chǎn)生的薄膜缺陷，同時(shí)可以提高濺射沉積速率,，降低沉積溫度等一系列明顯的優(yōu)點(diǎn),，是濺射絕緣材料沉積的首先選擇的工藝過程,。高功率脈沖磁控濺射技術(shù)作為一種高離化率物理中氣相沉積技術(shù)，可以明顯提高薄膜結(jié)構(gòu)可控性,，進(jìn)而獲得優(yōu)異的薄膜性能,，對(duì)薄膜工業(yè)的發(fā)展有重要意義。近幾年來,，高功率脈沖磁控濺射技術(shù)在國內(nèi)外研究領(lǐng)域和工業(yè)界受到了普遍關(guān)注和重視,。

磁控濺射的原理：靶材背面加上強(qiáng)磁體，形成磁場(chǎng),。在正負(fù)電極間施以高的電壓產(chǎn)生等離子體,，使氬氣發(fā)生輝光放電。等離子體中的電子在相互垂直的電場(chǎng)和磁場(chǎng)的共同作用下做螺旋式運(yùn)動(dòng),，飛向正電極,，在運(yùn)動(dòng)過程中與氬氣原子發(fā)生碰撞，產(chǎn)生Ar離子和電子,，帶負(fù)電的電子又在相互垂直的電場(chǎng)和磁場(chǎng)的共同作用下向正電級(jí)做螺旋式運(yùn)動(dòng),，電子再次與氬氣原子發(fā)生碰撞，隨著碰撞次數(shù)的增大,，電子的能量逐漸降低,，較后落在襯底上，這就使得高速電子對(duì)襯底轟擊產(chǎn)生的溫升大幅度降低,。Ar離子向負(fù)極加速運(yùn)動(dòng),，與靶材發(fā)生碰撞。能量適當(dāng)?shù)腁r離子離子轟擊靶材后使得靶材原子脫離靶材表面,，較后沉積在襯底上形成薄膜,。磁控濺射既降低濺射過程中的氣體壓力，也同時(shí)提高了濺射的效率和沉積速率,。

磁控濺射的優(yōu)點(diǎn)：（1）操作易控,。鍍膜過程，只要保持工作壓強(qiáng),、電功率等濺射條件相對(duì)穩(wěn)定,，就能獲得比較穩(wěn)定的沉積速率。（2）沉積速率高,。在沉積大部分的金屬薄膜,，尤其是沉積高熔點(diǎn)的金屬和氧化物薄膜時(shí)，如濺射鎢,、鋁薄膜和反應(yīng)濺射TiO2,、ZrO2薄膜，具有很高的沉積率,。（3）基板低溫性,。相對(duì)二極濺射或者熱蒸發(fā),，磁控濺射對(duì)基板加熱少了，這一點(diǎn)對(duì)實(shí)現(xiàn)織物的上濺射相當(dāng)有利,。（4）膜的牢固性好,。濺射薄膜與基板有著極好的附著力，機(jī)械強(qiáng)度也得到了改善,。磁控濺射的原理：靶材背面加上強(qiáng)磁體,，形成磁場(chǎng)。黑龍江真空磁控濺射實(shí)驗(yàn)室

磁控濺射技術(shù)得以普遍的應(yīng)用,是由該技術(shù)有別于其它鍍膜方法的特點(diǎn)所決定的,。黑龍江真空磁控濺射實(shí)驗(yàn)室

真空磁控濺射鍍膜工藝具備以下特點(diǎn)：1,、沉積速率大。由于采用高速磁控電極,，可獲得的離子流很大,，有效提高了此工藝鍍膜過程的沉積速率和濺射速率。與其它濺射鍍膜工藝相比,，磁控濺射的產(chǎn)能高,、產(chǎn)量大、于各類工業(yè)生產(chǎn)中得到普遍應(yīng)用,。2,、功率效率高。磁控濺射靶一般選擇200V-1000V范圍之內(nèi)的電壓,，通常為600V,，因?yàn)?00V的電壓剛好處在功率效率的較高有效范圍之內(nèi)。3,、濺射能量低,。磁控靶電壓施加較低,，磁場(chǎng)將等離子體約束在陰極附近,，可防止較高能量的帶電粒子入射到基材上。黑龍江真空磁控濺射實(shí)驗(yàn)室

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所屬于電子元器件的高新企業(yè),，技術(shù)力量雄厚,。公司致力于為客戶提供安全、質(zhì)量有保證的良好產(chǎn)品及服務(wù),，是一家****企業(yè),。公司始終堅(jiān)持客戶需求優(yōu)先的原則，致力于提供高質(zhì)量的微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù)，材料刻蝕技術(shù)服務(wù),。廣東省半導(dǎo)體所順應(yīng)時(shí)代發(fā)展和市場(chǎng)需求,，通過**技術(shù),，力圖保證高規(guī)格高質(zhì)量的微納加工技術(shù)服務(wù)，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)。