微納制造的加工材料多種多樣，相對金屬材料與硅和玻璃等無機(jī)材料而言，聚合物基材廉價(jià)易得且具有更好的生物兼容性,、電絕緣隔離性,、熱隔離性等性能。近年來,，基于聚合物的微加工制造技術(shù)已成為微細(xì)加工中的又一研究熱點(diǎn),。大量學(xué)者對基于聚合物的微加工技術(shù)如微注射成型技術(shù)、微鑄造技術(shù)及微壓印技術(shù)進(jìn)行了深入的研究,。由于聚合物材料提供了相當(dāng)普遍的物理及化學(xué)性質(zhì),，同時(shí)具有成本低及適用于大批量制造等眾多優(yōu)點(diǎn),，因而隨著微納米技術(shù)的不斷發(fā)展，聚合物材料在光學(xué),、化學(xué),、生物及微機(jī)電領(lǐng)域中獲得了越來越普遍的應(yīng)用，不同微納結(jié)構(gòu)制品具有不同的性能與應(yīng)用場合,。微納制造技術(shù)是指尺度為毫米,、微米和納米量級(jí)的零件。景德鎮(zhèn)高精度微納加工

    光刻是半導(dǎo)體制造中常用的技術(shù)之一,，是現(xiàn)代光電子器件制造的基礎(chǔ),。實(shí)際應(yīng)用中存在兩個(gè)主要挑戰(zhàn)：一是與FIB和EBL相比，分辨率還不夠高,；二是由于直接的激光寫入器逐點(diǎn)生成圖案,，因此吞吐量是一個(gè)很大的挑戰(zhàn)。對于上述兩個(gè)挑戰(zhàn)：分辨率方面,，一是可以通過原子力顯微鏡（AFM）或掃描近場顯微鏡（SNOM）等近場技術(shù)來提高,，二是可以通過使用短波長光源來提高，三是可以通過非線性吸收實(shí)現(xiàn)超分辨率成像或制造,；制造速度方面,，除了工程學(xué)方法外，隨著激光技術(shù)的發(fā)展,，主要是提出了包括自組裝微球激光加工,、激光干涉光刻、多焦陣列激光直寫等并行激光加工方法來提高制造速度,。并行激光加工技術(shù)可以將二維加工技術(shù)擴(kuò)展到三維加工,，為未來微納加工技術(shù)的發(fā)展提供新的方向；同時(shí)可以地廣泛應(yīng)用于傳感,、太陽能電池和超材料領(lǐng)域的表面處理和功能器件制造,，對生物醫(yī)學(xué)器件制造、光通信,、傳感,、以及光譜學(xué)等領(lǐng)域得發(fā)展研究具有重要意義。 景德鎮(zhèn)高精度微納加工在微納加工過程中,，薄膜的形成方法主要為物理沉積,、化學(xué)沉積和混合方法沉積。

    微納加工：干法刻蝕VS濕法刻蝕,！刻蝕工藝：用化學(xué)或物理方法有選擇性地從某一材料表面去除不需要那部分的過程,，獲得目標(biāo)圖形。在半導(dǎo)體制造中有兩種基本的刻蝕工藝：干法刻蝕和濕法刻蝕,。干法刻蝕的刻蝕劑是等離子體,，是利用等離子體和表面薄膜反應(yīng),，形成揮發(fā)性物質(zhì)，或直接轟擊薄膜表面使之被刻蝕的工藝,。特點(diǎn)：能實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕,，從而保證細(xì)小圖形轉(zhuǎn)移后的保真性。缺點(diǎn)：造價(jià)高,。濕法刻蝕是通過化學(xué)刻蝕液和被刻蝕物質(zhì)之間的化學(xué)反應(yīng)將被刻蝕物質(zhì)剝離下來的方法,。大多數(shù)濕法刻蝕是不容易控制的各向同性刻蝕。特點(diǎn)：適應(yīng)性強(qiáng),，表面均勻性好,、對硅片損傷少，幾乎適用于所有的金屬,、玻璃,、塑料等材料。缺點(diǎn)：圖形刻蝕保真想過不理想,，刻蝕圖形的小線難以掌控,。

基于掩模板圖形傳遞的光刻工藝可制作宏觀尺寸的微細(xì)結(jié)構(gòu)，受光學(xué)衍射的極限,，*適用于微米以上尺度的微細(xì)結(jié)構(gòu)制作,，部分優(yōu)化的光刻工藝可能具有亞微米的加工能力。例如,，接觸式光刻的分辨率可能到達(dá)0.5μm，采用深紫外曝光光源可能實(shí)現(xiàn)0.1μm,。但利用這種光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)宏觀面積的納米/亞微米圖形結(jié)構(gòu)的制作是可欲而不可求的,。近年來，國內(nèi)外比較多學(xué)者相繼提出了超衍射極限光刻技術(shù),、周期減小光刻技術(shù)等,，力求通過曝光光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)大面積的亞微米結(jié)構(gòu)制作，但這類新型的光刻技術(shù)尚處于實(shí)驗(yàn)室研究階段,。微納加工技術(shù)指尺度為亞毫米,、微米和納米量級(jí)元件的優(yōu)化設(shè)計(jì)、加工,、組裝,、系統(tǒng)集成與應(yīng)用技術(shù)。

微納加工技術(shù)是先進(jìn)制造的重要組成部分,，是衡量國家高級(jí)制造業(yè)水平的標(biāo)志之一,，具有多學(xué)科交叉性和制造要素極端性的特點(diǎn)，在推動(dòng)科技進(jìn)步,、促進(jìn)產(chǎn)業(yè)發(fā)展,、拉動(dòng)科技進(jìn)步,、保障**安全等方面都發(fā)揮著關(guān)鍵作用。微納加工技術(shù)的基本手段包括微納加工方法與材料科學(xué)方法兩種,。比較顯然,，微納加工技術(shù)與微電子工藝技術(shù)有密切關(guān)系。微納加工大致可以分為“自上而下”和“自下而上”兩類,?！白陨隙隆笔菑暮暧^對象出發(fā)，以光刻工藝為基礎(chǔ),，對材料或原料進(jìn)行加工,，較小結(jié)果尺寸和精度通常由光刻或刻蝕環(huán)節(jié)的分辨力決定?！白韵露稀奔夹g(shù)則是從微觀世界出發(fā),，通過控制原子、分子和其他納米對象的相互作用力將各種單元構(gòu)建在一起,，形成微納結(jié)構(gòu)與器件,。目前微納制造領(lǐng)域較常用的一種微細(xì)加工技術(shù)是LIGA。景德鎮(zhèn)高精度微納加工

高精度的微細(xì)結(jié)構(gòu)具有比較高的曝光精度,，但這兩種方法制作效率極低,。景德鎮(zhèn)高精度微納加工

微納制造技術(shù)是指尺度為毫米、微米和納米量級(jí)的零件,，以及由這些零件構(gòu)成的部件或系統(tǒng)的設(shè)計(jì),、加工、組裝,、集成與應(yīng)用技術(shù),。傳統(tǒng)“宏”機(jī)械制造技術(shù)已不能滿足這些“微”機(jī)械和“微”系統(tǒng)的高精度制造和裝配加工要求，必須研究和應(yīng)用微納制造的技術(shù)與方法,。微納制造技術(shù)是微傳感器,、微執(zhí)行器、微結(jié)構(gòu)和功能微納系統(tǒng)制造的基本手段和重要基礎(chǔ),。不同的表面微納結(jié)構(gòu)可以呈現(xiàn)出相應(yīng)的功能,，隨著科技的發(fā)展，不同功能的微納結(jié)構(gòu)及器件將會(huì)得到更多的應(yīng)用,。目前表面功能微納結(jié)構(gòu)及器件,，諸如超材料、超表面等充滿“神奇”力量的結(jié)構(gòu)或器件,，的發(fā)展仍受到微納加工技術(shù)的限制,。因此，研究功能微納結(jié)構(gòu)及器件需要從微納結(jié)構(gòu)的加工技術(shù)方面進(jìn)行普遍深入的研究，提高微納加工技術(shù)的加工能力和效率是未來微納結(jié)構(gòu)及器件研究的重點(diǎn)方向,。景德鎮(zhèn)高精度微納加工

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所一直專注于面向半導(dǎo)體光電子器件,、功率電子器件、MEMS,、生物芯片等前沿領(lǐng)域,，致力于打造***的公益性、開放性,、支撐性樞紐中心,。平臺(tái)擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備，建立了一條實(shí)驗(yàn)室研發(fā)線和一條中試線,，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸）,，同時(shí)形成了一支與硬件有機(jī)結(jié)合的專業(yè)人才隊(duì)伍。平臺(tái)當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù),，面向國內(nèi)外高校,、科研院所以及企業(yè)提供開放共享，為技術(shù)咨詢,、創(chuàng)新研發(fā),、技術(shù)驗(yàn)證以及產(chǎn)品中試提供支持。,，是一家電子元器件的企業(yè),，擁有自己**的技術(shù)體系。公司目前擁有較多的高技術(shù)人才,，以不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競爭力,，加快企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新，實(shí)現(xiàn)穩(wěn)健生產(chǎn)經(jīng)營,。誠實(shí),、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求，也是我們做人的基本準(zhǔn)則,。公司致力于打造***的微納加工技術(shù)服務(wù)，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)。公司深耕微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù)，材料刻蝕技術(shù)服務(wù),，正積蓄著更大的能量,，向更廣闊的空間、更寬泛的領(lǐng)域拓展。