真空鍍膜：真空蒸發(fā)鍍膜法：真空蒸發(fā)法的原理是：在真空條件下,，用蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)材料,，使之蒸發(fā)或升華進入氣相,，氣相粒子流直接射向基片上沉積或結晶形成固態(tài)薄膜；由于環(huán)境是真空,，因此,，無論是金屬還是非金屬，在這種情況下蒸發(fā)要比常壓下容易得多,。真空蒸發(fā)鍍膜是發(fā)展較早的鍍膜技術,，其特點是：設備相對簡單，沉積速率快,，膜層純度高,，制膜材料及被鍍件材料范圍很廣，鍍膜過程可以實現(xiàn)連續(xù)化,，應用相當普遍,。按蒸發(fā)源的不同,，主要分為：電阻加熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā),、電弧蒸發(fā)和激光蒸發(fā)等,。真空鍍膜被稱為可以在任何基板上沉積任何材料的薄膜技術。北京磁控濺射真空鍍膜加工

磁控濺射包括很多種類各有不同工作原理和應用對象,。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用,，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率,。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材,。靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻,，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強,。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜,。磁控陰極按照磁場位形分布不同,，大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。具體應用需選擇不一樣的磁控設備類型,。河北反射濺射真空鍍膜外協(xié)解決靶中毒主要有使用射頻電源進行濺射,、采用閉環(huán)控制反應氣體通入流量,、使用孿生靶交替濺射等,。

針對PVD制備薄膜應力的解決辦法主要有：1.提高襯底溫度,，有利于薄膜和襯底間原子擴散，并加速反應過程,，有利于形成擴散附著,，降低內應力；2.熱退火處理,，薄膜中存在的各種缺陷是產生本征應力的主要原因,，這些缺陷一般都是非平衡缺陷，有自行消失的傾向,，但需要外界給予活化能,。對薄膜進行熱處理，非平衡缺陷大量消失,，薄膜內應力降低,；3.添加亞層控制多層薄膜應力，利用應變相消原理,，在薄膜層之間再沉積一層薄膜,，控制工藝使其呈現(xiàn)與結構薄膜相反的應力狀態(tài)，緩解應力帶來的破壞作用,，整體上抵消內部應力

真空鍍膜技術在國民經濟各個領域有著廣泛應用,，特別是近幾年來,，我國國民經濟的迅速發(fā)展、人民生活水平的不斷提高和高科技薄膜產品的不斷涌現(xiàn),。尤其是在電子材料與元器件工業(yè)領域中占有極其重要的地位。制膜方法可以分為氣相生成法,、氧化法,、離子注人法、擴散法,、電鍍法,、涂布法、液相生長法等,。氣相生成法又可以分為物理沉積法化學沉積法和放電聚合法等,。本次實驗是使用物理沉積法，由于這種方法基本上都是處于真空環(huán)境下進行的,，因此稱它們?yōu)檎婵斟兡ぜ夹g,。真空蒸發(fā)、濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理沉積法,，是基本的薄膜制備技術,。真空蒸發(fā)鍍膜法是在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料,，使其原子或分子從表面氣化逸出,，形成蒸氣流，入射到基片表面,，凝結形成固態(tài)薄膜的方法,。真空鍍膜機壓鑄技術用于生產鋁、鎂,、鋅,、銅基合金鑄件，在機械制造行業(yè)應用已有多年的歷史,。

真空鍍膜：眾所周知,，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜,，就能使材料具有許多新的,、良好的物理和化學性能。20世紀70年代,，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學鍍法,。前者是通過通電，使電解液電解,，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上,，因此這種鍍膜的條件,，基體必須是電的良導體，而且薄膜厚度也難以控制,。后者是采用化學還原法,，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應,，這種鍍膜方法不僅薄膜的結合強度差,，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會產生大量的廢液,，造成嚴重的污染,。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制,。真空鍍膜機的優(yōu)點:具有較佳的金屬光澤,，光反射率可達97%。江西光電器件真空鍍膜外協(xié)

在真空中制備膜層,，包括鍍制晶態(tài)的金屬,、半導體、絕緣體等單質或化合物膜,。北京磁控濺射真空鍍膜加工

真空鍍膜：離子鍍膜法：目前比較常用的組合方式有：射頻離子鍍(RFIP),。利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；依靠射頻等離子體放電使充入的真空Ar及其它惰性氣體,、反應氣體氧氣,、氮氣、乙炔等離化,。這種方法的特點是：基板溫升小,，不純氣體少，成膜好,，適合鍍化合物膜,，但匹配較困難?？蓱糜阱児鈱W器件,、半導體器件、裝飾品,、汽車零件等,。此外，離子鍍法還包括有低壓等離子體離子鍍,，感應離子加熱鍍,，集團離子束鍍和多弧離子鍍等多種方法。北京磁控濺射真空鍍膜加工

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