真空磁控濺射鍍膜技術(shù)所鍍玻璃多用于建筑玻璃和汽車玻璃這兩大用處,。一般來說這些介質(zhì)膜多是氧化鋅、二氧化錫,、二氧化鈦,、二氧化硅之類的可鍍于玻璃上。真空磁控濺射鍍膜技術(shù)在車窗玻璃上的用處。用真空磁控濺射鍍膜設(shè)備可在車窗玻璃鍍涂二氧化鈦,，這個鍍層可以賦予車窗自清潔效果,，有一定的防霧、防露水的效用,。磁控濺射工藝的主要優(yōu)點是可以使用反應(yīng)性或非反應(yīng)性鍍膜工藝來沉積這些材料的膜層,，并且可以很好地控制膜層成分、膜厚,、膜厚均勻性和膜層機械性能等,。安裝鍍膜基片或工件的樣品臺以及真空室接地，作為陽極,。安徽陶瓷靶材磁控濺射過程

磁控濺射的種類：磁控濺射包括很多種類,。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用,，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材,。靶源分平衡式和非平衡式,，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強,。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜,，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同,，大致可分為平衡態(tài)磁控陰極和非平衡態(tài)磁控陰極,。平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面,，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近,，增加了碰撞幾率，提高了離化效率,，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電,，靶材利用率相對較高。但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面,，基片區(qū)域所受離子轟擊較小,。非平衡磁控濺射技術(shù)，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內(nèi)磁極,，兩極磁力線在靶面不完全閉合,，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片,，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率,。北京雙靶磁控濺射能夠控制鍍層的厚度,，同時可通過改變參數(shù)條件控制組成薄膜的顆粒大小。

磁控濺射設(shè)備的主要用途：（1）各種功能性薄膜：如具有吸收,、透射、反射,、折射,、偏光等作用的薄膜。例如,，低溫沉積氮化硅減反射膜,，以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。（2）裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用,，如各種全反射膜及半透明膜等,，如手機外殼，鼠標等,。（3）在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù),，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積（CVD）或金屬有機。（4）化學(xué)氣相沉積（CVD）生長困難及不適用的材料薄膜沉積,，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜,。（5）在光學(xué)領(lǐng)域：中頻閉合場非平衡磁控濺射技術(shù)也已在光學(xué)薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等方面得到應(yīng)用,。特別是透明導(dǎo)電玻璃普遍應(yīng)用于平板顯示器件,、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件,、傳感器等,。（6）在機械加工行業(yè)中，表面功能膜,、超硬膜,，自潤滑薄膜的表面沉積技術(shù)自問世以來得到長足發(fā)展，能有效的提高表面硬度,、復(fù)合韌性,、耐磨損性和抗高溫化學(xué)穩(wěn)定性能，從而大幅度地提高涂層產(chǎn)品的使用壽命,。

磁控濺射的工藝研究：1,、功率：每一個陰極都具有自己的電源。根據(jù)陰極的尺寸和系統(tǒng)設(shè)計,，功率可以在0~150KW之間變化,。電源是一個恒流源。在功率控制模式下,，功率固定同時監(jiān)控電壓,，通過改變輸出電流來維持恒定的功率。在電流控制模式下，固定并監(jiān)控輸出電流,，這時可以調(diào)節(jié)電壓,。施加的功率越高，沉積速率就越大,。2,、速度：另一個變量是速度。對于單端鍍膜機,，鍍膜區(qū)的傳動速度可以在每分鐘0~600英寸之間選擇,。對于雙端鍍膜機，鍍膜區(qū)的傳動速度可以在每分鐘0~200英寸之間選擇,。在給定的濺射速率下,，傳動速度越低則表示沉積的膜層越厚。3,、氣體：較后一個變量是氣體,，可以在三種氣體中選擇兩種作為主氣體和輔氣體來進行使用。磁控濺射又稱為高速低溫濺射,。

磁控濺射鍍膜注意事項：1,、輻射:有些鍍膜要用到射頻電源,如功率大,需做好屏蔽處理.另外,歐洲標準在單室鍍膜機門框四周嵌裝金屬線屏蔽輻射;2、金屬污染:鍍膜材料有些(如鉻,、銦,、鋁)是對人體有害的,特別要注意真空室清理過程中出現(xiàn)的粉塵污染;3、噪音污染:如特別是一些大的鍍膜設(shè)備,機械真空泵噪音很大,可以把泵隔離在墻外;4,、光污染:離子鍍膜過程中,氣體電離發(fā)出強光,不宜透過觀察窗久看.磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品特點,。磁控濺射鍍膜的適用范圍：1、建材及民用工業(yè)中,；2,、在鋁合金制品裝飾中的應(yīng)用；3,、高級產(chǎn)品零/部件表面的裝飾鍍中的應(yīng)用,；4、在不銹鋼刀片涂層技術(shù)中的應(yīng)用,；5,、在玻璃深加工產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用。磁控濺射設(shè)備的主要用途：裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用,，如各種全反射膜及半透明膜等,，如手機外殼，鼠標等,。山西直流磁控濺射過程

磁控濺射的優(yōu)點：沉積速率高,。安徽陶瓷靶材磁控濺射過程

磁控濺射包括很多種類,，各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用,，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材,。磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易,，而實際操作困難。主要問題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面,，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面以及靶源表面,，從而引起滅火,，靶源和工件表面起弧等。國外發(fā)明的孿生靶源技術(shù),，很好的解決了這個問題,。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化,。安徽陶瓷靶材磁控濺射過程

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