磁控濺射技術是近年來新興的一種材料表面鍍膜技術,該技術實現(xiàn)了金屬,、絕緣體等多種材料的表面鍍膜,具有高速、低溫,、低損傷的特點.利用磁控濺射技術進行超細粉體的表面鍍膜處理,不但能有效提高超細粉體的分散性,大幅度提高鍍層與粉體之間的結合力,還能賦予超細粉體的新的特異性能,。在各種濺射鍍膜技術中，磁控濺射技術是較重要的技術之一,，為了制備大面積均勻且批量一致好的薄膜,，釆用優(yōu)化靶基距、改變基片運動方式,、實行膜厚監(jiān)控等措施,。多工位磁控濺射鍍膜儀器由于其速度比可調以及同時制作多個基片，效率大幅度提高,，被越來越多的重視和使用,。隨著工業(yè)的需求和表面技術的發(fā)展，新型磁控濺射如高速濺射,、自濺射等成為磁控濺射領域新的發(fā)展趨勢,。四川金屬磁控濺射技術

磁控濺射包括很多種類,，各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用,，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材,。磁控反應濺射絕緣體看似容易,，而實際操作困難。主要問題是反應不光發(fā)生在零件表面,，也發(fā)生在陽極,，真空腔體表面以及靶源表面，從而引起滅火,，靶源和工件表面起弧等,。國外發(fā)明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題,。其原理是一對靶源互相為陰陽極,，從而消除陽極表面氧化或氮化。江蘇智能磁控濺射鍍膜磁控濺射靶材的分類：根據(jù)材料的成分不同,，靶材可分為金屬靶材,、合金靶材、無機非金屬靶材等,。

磁控濺射的種類：用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,，點火和濺射很方便。這是因為靶,，等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路,。但若濺射絕緣體，則回路斷了,。于是人們采用高頻電源,，回路中加入很強的電容，這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容,。但高頻磁控濺射電源昂貴,，濺射速率很小，同時接地技術很復雜,，因而難大規(guī)模采用,。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應濺射,。就是用金屬靶,，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化,，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物,。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難,。主要問題是反應不光發(fā)生在零件表面,，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面以及靶源表面,，從而引起滅火,，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術,，很好的解決了這個問題,。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化,。冷卻是一切源所必需,，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足,，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源,。

磁控濺射又稱為高速低溫濺射。在磁場約束及增強下的等離子體中的工作氣體離子,，在靶陰極電場的加速下,，轟擊陰極材料，使材料表面的原子或分子飛離靶面,，穿越等離子體區(qū)以后在基片表面淀積,、遷移較終形成薄膜。與二極濺射相比較,，磁控濺射的沉積速率高,，基片升溫低，膜層質量好,，可重復性好,，便于產業(yè)化生產。它的發(fā)展引起了薄膜制備工藝的巨大變革,。磁控濺射源在結構上必須具備兩個基本條件:(1)建立與電場垂直的磁場;(2)磁場方向與陰極表面平行,，并組成環(huán)形磁場。磁控濺射屬于輝光放電范疇,，利用陰極濺射原理進行鍍膜,。

磁控濺射的基本原理是利用Ar一O2混合氣體中的等離子體在電場和交變磁場的作用下，被加速的高能粒子轟擊靶材表面,，能量交換后,，靶材表面的原子脫離原晶格而逸出，轉移到基體表面而成膜,。磁控濺射的特點是成膜速率高,，基片溫度低,，膜的粘附性好，可實現(xiàn)大面積鍍膜,。該技術可以分為直流磁控濺射法和射頻磁控濺射法,。磁控濺射設備一般根據(jù)所采用的電源的不同又可分為直流濺射和射頻濺射兩種。直流磁控濺射的特點是在陽極基片和陰極靶之間加一個直流電壓,，陽離子在電場的作用下轟擊靶材,，它的濺射速率一般都比較大。但是直流濺射一般只能用于金屬靶材,，因為如果是絕緣體靶材,，則由于陽粒子在靶表面積累，造成所謂的“靶中毒”,，濺射率越來越低,。真空磁控濺射涂層技術與真空蒸發(fā)涂層技術相比有許多優(yōu)點。遼寧脈沖磁控濺射優(yōu)點

磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程,。四川金屬磁控濺射技術

磁控濺射生成的薄膜厚度的均勻性是成膜性質的一項重要指標,，因此有必要研究影響磁控濺射均勻性的因素，以更好的實現(xiàn)磁控濺射均勻鍍膜,。簡單的說磁控濺射就是在正交的電磁場中,，閉合的磁場束縛電子圍繞靶面做螺線運動，在運動過程中不斷撞擊工作氣體氬氣電離出大量的氬離子,，氬離子在電場作用下加速轟擊靶材,，濺射出呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。所以要實現(xiàn)均勻的鍍膜,，就需要均勻的濺射出靶原子（或分子）,，這就要求轟擊靶材的氬離子是均勻的且是均勻的轟擊的。由于氬離子在電場作用下加速轟擊靶材,，所以均勻轟擊很大程度上依賴電場的均勻,。四川金屬磁控濺射技術

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