磁控濺射原理：電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子,，電子飛向基片,。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子,，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜,。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場(chǎng)洛倫茲力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,，二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng),，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng)。磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁）之間施加幾百K直流電壓,，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，使氬氣發(fā)生電離,。直流二極濺射采用直流光放電,，三極濺射采用熱陰極支撐光放電。北京非金屬磁控濺射特點(diǎn)

真空磁控濺射的分類：平面磁控濺射：平衡平面濺射是較常用的平面靶磁控濺射,，磁力線有閉合回路且與陰極平行,，即在陰極表面構(gòu)成一個(gè)正交的電磁場(chǎng)環(huán)形區(qū)域。等離子體被束縛在靶表面距離靶面大約60cm的區(qū)域,，通常在基片上加負(fù)偏壓來改善膜與基體的結(jié)合能力,；非平衡平面磁控濺射為了將等離子區(qū)域擴(kuò)展，利用磁體擺放方式的調(diào)整,，可以方便的獲得不同的非平衡磁控源,。圓柱磁控濺射沉積技術(shù)：利用圓柱形磁控陰極實(shí)現(xiàn)濺射的技術(shù)磁控源是關(guān)鍵部分，陰極在中心位置的叫磁控源,；陽極在中心位置的叫反磁控源,。江蘇真空磁控濺射分類磁控濺射涂層有很好的牢固性，濺射薄膜與基板,，機(jī)械強(qiáng)度得到了改善,，更好的附著力。

真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)的區(qū)別：真空磁控濺射涂層技術(shù)不同于真空蒸發(fā)涂層技術(shù),。濺射是指荷能顆粒轟擊固體表面,，使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。大多數(shù)粒子是原子狀態(tài),，通常稱為濺射原子,。用于轟擊目標(biāo)的濺射顆粒可以是電子,、離子或中性顆粒,，因?yàn)殡x子很容易加速電場(chǎng)下所需的動(dòng)能，所以大多數(shù)都使用離子作為轟擊顆粒,。濺射過程是基于光放電,，即濺射離子來自氣體放電。不同的濺射技術(shù)使用不同的光放電方法,。直流二極濺射采用直流光放電,，三極濺射采用熱陰極支撐光放電,，射頻濺射采用射頻光放電，磁控濺射采用環(huán)磁場(chǎng)控制的光放電,。真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)相比有許多優(yōu)點(diǎn),。如任何物質(zhì)都能濺射，特別是高熔點(diǎn)和低蒸汽壓力的元素和化合物,；濺射膜與基板附著力好,；膜密度高；膜厚可控,，重復(fù)性好,。此外，蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合,，即離子鍍,。該方法具有附著力強(qiáng)、沉積率高,、膜密度高等優(yōu)點(diǎn),。

磁控濺射鍍膜注意事項(xiàng)：1、輻射:有些鍍膜要用到射頻電源,如功率大,需做好屏蔽處理.另外,歐洲標(biāo)準(zhǔn)在單室鍍膜機(jī)門框四周嵌裝金屬線屏蔽輻射;2,、金屬污染:鍍膜材料有些(如鉻,、銦、鋁)是對(duì)人體有害的,特別要注意真空室清理過程中出現(xiàn)的粉塵污染;3,、噪音污染:如特別是一些大的鍍膜設(shè)備,機(jī)械真空泵噪音很大,可以把泵隔離在墻外;4,、光污染:離子鍍膜過程中,氣體電離發(fā)出強(qiáng)光,不宜透過觀察窗久看.磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品特點(diǎn)。磁控濺射鍍膜的適用范圍：1,、建材及民用工業(yè)中,；2、在鋁合金制品裝飾中的應(yīng)用,；3,、高級(jí)產(chǎn)品零/部件表面的裝飾鍍中的應(yīng)用；4,、在不銹鋼刀片涂層技術(shù)中的應(yīng)用；5,、在玻璃深加工產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用,。磁控濺射是物理中氣相沉積的一種。

磁控濺射鍍膜常見領(lǐng)域應(yīng)用：1.一些不適合化學(xué)氣相沉積(MOCVD)的材料可以通過磁控濺射沉積,，這種方法可以獲得均勻的大面積薄膜,。2.機(jī)械工業(yè)：如表面功能膜、超硬膜,、自潤滑膜等.這些膜能有效提高表面硬度,、復(fù)合韌性,、耐磨性和高溫化學(xué)穩(wěn)定性，從而大幅度提高產(chǎn)品的使用壽命.3.光領(lǐng)域：閉場(chǎng)非平衡磁控濺射技術(shù)也已應(yīng)用于光學(xué)薄膜(如增透膜),、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃.特別是,，透明導(dǎo)電玻璃普遍應(yīng)用于平板顯示器件、太陽能電池,、微波和射頻屏蔽器件和器件,、傳感器等。濺射所獲得的薄膜純度高,、致密度好,、成膜均勻性好。天津雙靶磁控濺射實(shí)驗(yàn)室

磁控濺射的優(yōu)點(diǎn)：膜的牢固性好,。北京非金屬磁控濺射特點(diǎn)

磁控濺射的種類：用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,，點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘?，等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路,。但若濺射絕緣體，則回路斷了,。于是人們采用高頻電源,，回路中加入很強(qiáng)的電容，這樣在絕緣回路中靶材成了一個(gè)電容,。但高頻磁控濺射電源昂貴,，濺射速率很小，同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜,，因而難大規(guī)模采用,。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射,。就是用金屬靶,，加入氬氣和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕狻．?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化,，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物,。磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易，而實(shí)際操作困難,。主要問題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面,，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面以及靶源表面,，從而引起滅火,，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù),，很好的解決了這個(gè)問題,。其原理是一對(duì)靶源互相為陰陽極,，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是一切源所必需,，因?yàn)槟芰亢艽笠徊糠洲D(zhuǎn)為熱量,，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達(dá)一千度以上從而溶化整個(gè)靶源,。北京非金屬磁控濺射特點(diǎn)

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所主營品牌有芯辰實(shí)驗(yàn)室,微納加工,，發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大，該公司服務(wù)型的公司,。是一家****企業(yè),，隨著市場(chǎng)的發(fā)展和生產(chǎn)的需求，與多家企業(yè)合作研究,，在原有產(chǎn)品的基礎(chǔ)上經(jīng)過不斷改進(jìn),，追求新型，在強(qiáng)化內(nèi)部管理,，完善結(jié)構(gòu)調(diào)整的同時(shí),，良好的質(zhì)量、合理的價(jià)格,、完善的服務(wù),，在業(yè)界受到寬泛好評(píng)。公司業(yè)務(wù)涵蓋微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù)，材料刻蝕技術(shù)服務(wù),，價(jià)格合理,，品質(zhì)有保證，深受廣大客戶的歡迎,。廣東省半導(dǎo)體所以創(chuàng)造***產(chǎn)品及服務(wù)的理念,，打造高指標(biāo)的服務(wù)，引導(dǎo)行業(yè)的發(fā)展,。