直流濺射的結(jié)構(gòu)原理：真空室中裝有輝光放電的陰極,，靶材就裝在此極表面上,，接受離子轟擊；安裝鍍膜基片或工件的樣品臺以及真空室接地,，作為陽極。操作時將真空室抽至高真空后,，通入氬氣,，并使其真空度維持在1.0Pa左右，再加上2-3kV的直流電壓于兩電極之上,，即可產(chǎn)生輝光放電,。此時，在靶材附近形成高密度的等離子體區(qū),，即負輝區(qū)該區(qū)中的離子在直流電壓的加速下轟擊靶材即發(fā)生濺射效應(yīng),。由靶材表面濺射出來的原子沉積在基片或工件上，形成鍍層,。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜,，非平衡多用于磨損裝飾膜。福建磁控濺射特點

磁控濺射的濺射技術(shù)：直流磁控濺射技術(shù)：為了解決陰極濺射的缺陷,，人們在20世紀70年發(fā)出了直流磁控濺射技術(shù),，它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的弱點，因而獲得了迅速發(fā)展和普遍應(yīng)用,。其原理是：在磁控濺射中,，由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運動,，其運動路徑變長,，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高,，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作,，降低薄膜污染的傾向；另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量,，因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量,。同時，經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時,，已變成低能電子,，從而不會使基片過熱。因此磁控濺射法具有“高速,、“低溫”的優(yōu)點,。湖南非金屬磁控濺射磁控濺射是由二極濺射基礎(chǔ)上發(fā)展而來。

磁控濺射就是在外加電場的兩極之間引入一個磁場,。這個磁場使得電子受到洛倫茲力的束縛作用,，其運動路線受到控制，因此大幅度增加了電子與Ar分子（原子）碰撞的幾率,，提高了氣體分子的電離程度,，從而使濺射效率得到很大的提升。濺射現(xiàn)象自發(fā)現(xiàn)以來己被普遍應(yīng)用在多種薄膜的制備中,，如制備金屬,、半導(dǎo)體、合金,、氧化物以及化合物半導(dǎo)體等,。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象,。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率,。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材,。磁控濺射在技術(shù)上可以分為直流(DC)磁控濺射、中頻(MF)磁控濺射,、射頻(RF)磁控濺射,。

反應(yīng)磁控濺射：以金屬、合金,、低價金屬化合物或半導(dǎo)體材料作為靶陰極,，在濺射過程中或在基片表面沉積成膜過程中與氣體粒子反應(yīng)生成化合物薄膜，這就是反應(yīng)磁控濺射,。反應(yīng)磁控濺射普遍應(yīng)用于化合物薄膜的大批量生產(chǎn),，這是因為：(1)反應(yīng)磁控濺射所用的靶材料和反應(yīng)氣體純度很高,，因而有利于制備高純度的化合物薄膜。(2)通過調(diào)節(jié)反應(yīng)磁控濺射中的工藝參數(shù),可以制備化學(xué)配比或非化學(xué)配比的化合物薄膜,，通過調(diào)節(jié)薄膜的組成來調(diào)控薄膜特性,。(3)反應(yīng)磁控濺射沉積過程中基板升溫較小，而且制膜過程中通常也不要求對基板進行高溫加熱,，因此對基板材料的限制較少,。真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)相比有許多優(yōu)點。

磁控濺射的濺射技術(shù)：直流濺射法：直流濺射法要求靶材能夠?qū)碾x子轟擊過程中得到的正電荷傳遞給與其緊密接觸的陰極,，從而該方法只能濺射導(dǎo)體材料,。因為轟擊絕緣靶材時，表面的離子電荷無法中和,，這將導(dǎo)致靶面電位升高,，外加電壓幾乎都加在靶上，兩極間的離子加速與電離的機會將變小,，甚至不能電離,，導(dǎo)致不能連續(xù)放電甚至放電停止，濺射停止,。故對于絕緣靶材或?qū)щ娦院懿畹姆墙饘侔胁?，須用射頻濺射法。濺射過程中涉及到復(fù)雜的散射過程和多種能量傳遞過程：入射粒子與靶材原子發(fā)生彈性碰撞,，入射粒子的一部分動能會傳給靶材原子,；某些靶材原子的動能超過由其周圍存在的其它原子所形成的勢壘，從而從晶格點陣中被碰撞出來,，產(chǎn)生離位原子；這些離位原子進一步和附近的原子依次反復(fù)碰撞,，產(chǎn)生碰撞級聯(lián),；當(dāng)這種碰撞級聯(lián)到達靶材表面時，如果靠近靶材表面的原子的動能大于表面結(jié)合能,，這些原子就會從靶材表面脫離從而進入真空,。單向脈沖正電壓段的電壓為零!濺射發(fā)生在負電壓段。福建磁控濺射特點

中頻交流磁控濺射在單個陰極靶系統(tǒng)中,，與脈沖磁控濺射有同樣的釋放電荷,、防止打弧作用。福建磁控濺射特點

磁控濺射技術(shù)是一門起源較早,，但至今仍能夠發(fā)揮很大作用的技術(shù),。它的優(yōu)越性不只體現(xiàn)在鍍膜方面，更滲透到各個行業(yè)領(lǐng)域,。時至如今,，我國的濺射技術(shù)水平較之以前有了很大的突破,。隨著時代進步和現(xiàn)代工業(yè)化生產(chǎn)需求，社會對磁控濺射工藝的要求也越來越高,，這就需要廣大科研人員不斷深入探究,，對這項技術(shù)進行進一步研究和改良，增強其精度和功能,，滿足日益增長的現(xiàn)代工業(yè)需求,，更好的為社會發(fā)展和科學(xué)進步貢獻力量。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所,。福建磁控濺射特點

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是一家服務(wù)型類企業(yè),，積極探索行業(yè)發(fā)展，努力實現(xiàn)產(chǎn)品創(chuàng)新,。公司致力于為客戶提供安全,、質(zhì)量有保證的良好產(chǎn)品及服務(wù)，是一家****企業(yè),。公司擁有專業(yè)的技術(shù)團隊,，具有微納加工技術(shù)服務(wù)，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)等多項業(yè)務(wù)。廣東省半導(dǎo)體所以創(chuàng)造***產(chǎn)品及服務(wù)的理念,，打造高指標的服務(wù),，引導(dǎo)行業(yè)的發(fā)展。