微納加工中蒸鍍的物理過程包括：沉積材料蒸發(fā)或升華為氣態(tài)粒子→氣態(tài)粒子快速從蒸發(fā)源向基片表面輸送→氣態(tài)粒子附著在基片表面形核,、長大成固體薄膜→薄膜原子重構或產生化學鍵合,。將襯底放入真空室內，以電阻,、電子束,、激光等方法加熱膜料,，使膜料蒸發(fā)或升華，氣化為具有一定能量（～eV）的粒子（原子,、分子或原子團）,。氣態(tài)粒子以基本無碰撞的直線運動飛速傳送至襯底，到達襯底表面的粒子一部分被反射,，另一部分吸附在襯底上并發(fā)生表面擴散,，沉積原子之間產生二維碰撞，形成簇團,，有的可能在表面短時停留后又蒸發(fā),。粒子簇團不斷地與擴散粒子相碰撞，或吸附單粒子,，或放出單粒子,。此過程反復進行，當聚集的粒子數超過某一臨界值時就變?yōu)榉€(wěn)定的核,，再繼續(xù)吸附擴散粒子而逐步長大,，終通過相鄰穩(wěn)定核的接觸、合并,，形成連續(xù)薄膜。膜方法簡單,、薄膜純度和致密性高,、膜結構和性能獨特等優(yōu)點。所謂濺射鍍膜是指在真空室中,，利用荷能粒子（如正離子）轟擊靶材,，使靶材表面原子或原子團逸出，逸出的原子在工件的表面形成與靶材成分相同的薄膜,，這種制備薄膜的方法稱為濺射鍍膜,。目前，濺射法主要用于形成金屬或合金薄膜,，特別是用于制作電子元件的電極和玻璃表面紅外線反射薄膜,。 新一代微納制造系統(tǒng)應滿足的要求：能生產多種多樣高度復雜的微納產品！常州電子微納加工

納秒和飛秒之間,皮秒激光微納加工應用獨具優(yōu)勢,！與傳統(tǒng)的微納加工技術相比,，激光微納加工具有如下獨特的優(yōu)點：非接觸加工不損壞工具、能量可調,、加工方式靈活,、可實現(xiàn)柔性加工等,。其中全固態(tài)皮秒激光具有極窄的脈沖寬度(皮秒)、極高的峰值功率(兆瓦)以及優(yōu)異的光束質量,，被廣泛應用于各種金屬,、非金屬材料的精密加工。研究表明,，脈沖寬度高于10ps的皮秒激光加工過程中有明顯的熱效應存在,，而且隨著激光與材料作用時間的增加，工件表面會產生微裂紋以及再鑄層,；脈沖寬度低于5ps的皮秒激光與材料作用時會產生非線性效應,，這對金屬材料的加工非常不利。因此,，適合微納精密加工用的皮秒激光的脈沖寬度在5~10ps之間,。為了提高加工效率，重復頻率一般設定在十萬赫茲量級,，而平均功率則根據所加工材料的燒蝕閾值而定,。合肥微納加工設備高精度的微細結構通過控制聚焦電子束（光束）移動書寫圖案進行曝光！

       當微納加工技術應用到光電子領域,，就形成了新興的納米光電子技術,，主要研究納米結構中光與電子相互作用及其能量互換的技術.納米光電子技術在過去的十多年里，一方面,，以低維結構材料生長和能帶工程為基礎的納米制造技術有了長足的發(fā)展,，包括分子束外延(MBE)、金屬有機化學氣相淀積(MOCVD)和化學束外延(CBE),，使得在晶片表面外延生長方向(直方向)的外延層精度控制到單個原子層,，從而獲得了具有量子尺寸效應的半導體材料;另一方面，平面納米加工工藝實現(xiàn)了納米尺度的光刻和橫向刻蝕,，使得人工橫向量子限制的量子線與量子點的制作成為可能.同時,，光子晶體概念的出現(xiàn)，使得納米平面加工工藝廣地應用到光介質材料折射率周期性的改變中,。

    激光微納加工技術的實現(xiàn)方式：接觸式并行激光加工技術是指利用微球體顆粒進行激光圖案化,。微球激光納米加工的機理。微球激光納米加工技術初源于對激光清潔領域的研究,。研究發(fā)現(xiàn),，基底上的微小球形顆粒在脈沖激光照射后，基底上球形顆粒的中心位置能夠產生亞波長尺寸的微/納孔,。對于金屬顆粒而言,，這是由于顆粒與基底之間的LSPR產生的強電磁場增強造成的；對于介質顆粒而言，由于其大半部分是透明的,，可以將透明顆?？闯蔀槲⑶蛲哥R，入射光在微球形透鏡的底面實現(xiàn)聚焦而引起的電磁場增強,。這一過程可以實現(xiàn)入射光強度的60倍增強,。通過對微球的直徑，折射率,，環(huán)境以及入射的激光強度進行設計,，可以實現(xiàn)在基底上燒蝕出亞波長尺寸的微/納孔。微球激光納米加工的實現(xiàn)方式對于微球激光納米加工技術,，根據操縱微球顆粒排列方式的不同,，可以分為兩類：一是利用光鑷技術操縱微球體顆粒以制造任意圖案；二是利用自組裝技術制造微球體陣列掩模,。這種基于微球體的并行激光加工是納米制造中一種比較經濟的方法,。 高精度的微細結構通過控制聚焦電子束（光束）移動書寫圖案進行曝光。

    微納加工大致可以分為“自上而下”和“自下而上”兩類,?！白陨隙隆笔菑暮暧^對象出發(fā)，以光刻工藝為基礎,，對材料或原料進行加工,，小結果尺寸和精度通常由光刻或刻蝕環(huán)節(jié)的分辨力決定?！白韵露稀奔夹g則是從微觀世界出發(fā),，通過控制原子、分子和其他納米對象的相互作用力將各種單元構建在一起,，形成微納結構與器件,。基于光刻工藝的微納加工技術主要包含以下過程：掩模（mask）制備,、圖形形成及轉移（涂膠、曝光,、顯影）,、薄膜沉積、刻蝕,、外延生長,、氧化和摻雜等。在基片表面涂覆一層某種光敏介質的薄膜（抗蝕膠）,，曝光系統(tǒng)把掩模板的圖形投射在（抗蝕膠）薄膜上,，光（光子）的曝光過程是通過光化學作用使抗蝕膠發(fā)生光化學作用，形成微細圖形的潛像，再通過顯影過程使剩余的抗蝕膠層轉變成具有微細圖形的窗口,，后續(xù)基于抗蝕膠圖案進行鍍膜,、刻蝕等可進一步制作所需微納結構或器件。 微納加工按技術分類,，主要分為平面工藝,、探針工藝、模型工藝,。泰州MENS微納加工

微納加工包括光刻,、磁控濺射、電子束蒸鍍,、濕法腐蝕,、干法腐蝕、表面形貌測量等,。常州電子微納加工

電子元器件制造業(yè)是電子信息產業(yè)的重要組成部分,，是通信、計算機及網絡,、數字音視頻等系統(tǒng)和終端產品發(fā)展的基礎,，其技術水平和生產能力直接影響整個行業(yè)的發(fā)展，對于電子信息產業(yè)的技術創(chuàng)新和做大做強有著重要的支撐作用,。對于下一步發(fā)展計劃,，不少行業(yè)家和企業(yè)表示，后續(xù)將繼續(xù)完善電子信息全產業(yè)鏈的交易服務平臺,，深耕拓展面向半導體光電子器件,、功率電子器件、MEMS,、生物芯片等前沿領域,，致力于打造***的公益性、開放性,、支撐性樞紐中心,。平臺擁有半導體制備工藝所需的整套儀器設備，建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線,，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸）,，同時形成了一支與硬件有機結合的專業(yè)人才隊伍。平臺當前緊抓技術創(chuàng)新和公共服務,，面向國內外高校,、科研院所以及企業(yè)提供開放共享，為技術咨詢,、創(chuàng)新研發(fā),、技術驗證以及產品中試提供支持,。線下授權分銷及上下游相關行業(yè)，完善產業(yè)布局,，通過發(fā)揮華強半導體集團的大平臺優(yōu)勢,，整合優(yōu)化面向半導體光電子器件、功率電子器件,、MEMS,、生物芯片等前沿領域，致力于打造***的公益性,、開放性,、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導體制備工藝所需的整套儀器設備,，建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線,，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸），同時形成了一支與硬件有機結合的專業(yè)人才隊伍,。平臺當前緊抓技術創(chuàng)新和公共服務,，面向國內外高校、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,，為技術咨詢,、創(chuàng)新研發(fā)、技術驗證以及產品中試提供支持,。線下授權分銷業(yè)務內外部資源,。眼下，市場缺口較大的,，還是LCD領域,，由于LCD價格逐漸提高，同時也開始向新的服務型方向發(fā)展,，相應的電子元器件產能并沒有及時跟進,。因此，對于理財者來說,，從這一方向入手,，有望把握下**業(yè)增長的紅利。而LED芯片領域,，隨著產業(yè)從顯示端向照明端演進,，相應的電子元器件廠商也需要優(yōu)化服務型，才能為自身業(yè)務經營帶來確定性,。因此，從需求層面來看,，電子元器件市場的發(fā)展前景極為可觀,。常州電子微納加工

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