磁控濺射粉體鍍膜技術已經(jīng)實現(xiàn)了銀包銅粉、銀包鋁粉,、鋁包硅粉等多種微納米級粉體的量產(chǎn).由該技術得到的功能性復合粉體具有優(yōu)異的分散性,鍍層均勻度較高,鍍層與粉體的結合緊密度較高,。磁控濺射鍍膜可以賦予超細粉體新的特性,例如在微米級二氧化硅表面鍍鋁,得到的復合粉體不但具有良好的分散性,好具有優(yōu)異的光學性能,可以作為一種特殊效果顏料用于高級塑料制品加工中.相較于傳統(tǒng)的鋁粉顏料,該特殊效果顏料不但有效改善了塑料制品的注塑缺陷(流痕\熔接線),還使得制品外觀質感更加高級,。磁控濺射包括很多種類，各有不同工作原理和應用對象,。遼寧單靶磁控濺射分類

真空磁控濺射技術的原理：濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下,，對陰極靶材表面進行轟擊，把靶材表面的分子,、原子,、離子及電子等濺射出來，被濺射出來的粒子帶有一定的動能,，沿一定的方向射向基體表面,，在基體表面形成鍍層。濺射鍍膜較初出現(xiàn)的是簡單的直流二極濺射,，它的優(yōu)點是裝置簡單,，但是直流二極濺射沉積速率低；為了保持自持放電,，不能在低氣壓下進行,；在直流二極濺射裝置中增加一個熱陰極和陽極，就構成直流三極濺射,。增加的熱陰極和陽極產(chǎn)生的熱電子增強了濺射氣體原子的電離,，這樣使濺射即使在低氣壓下也能進行;另外,，還可降低濺射電壓，使濺射在低氣壓,，低電壓狀態(tài)下進行;同時放電電流也增大,，并可單獨控制，不受電壓影響,。在熱陰極的前面增加一個電極,，構成四極濺射裝置，可使放電趨于穩(wěn)定,。但是這些裝置難以獲得濃度較高的等離子體區(qū),，沉積速度較低，因而未獲得普遍的工業(yè)應用,。遼寧真空磁控濺射流程磁控濺射靶材的分類：根據(jù)材料的成分不同，靶材可分為金屬靶材,、合金靶材,、無機非金屬靶材等。

磁控濺射鍍膜是現(xiàn)代工業(yè)中不可缺少的技術之一,，磁控濺射鍍膜技術正普遍應用于透明導電膜,、光學膜、超硬膜,、抗腐蝕膜,、磁性膜、增透膜,、減反膜以及各種裝飾膜,，在**和國民經(jīng)濟生產(chǎn)中的作用和地位日益強大。鍍膜工藝中的薄膜厚度均勻性,，沉積速率,，靶材利用率等方面的問題是實際生產(chǎn)中十分關注的。解決這些實際問題的方法是對涉及濺射沉積過程的全部因素進行整體的優(yōu)化設計,，建立一個濺射鍍膜的綜合設計系統(tǒng),。薄膜厚度均勻性是檢驗濺射沉積過程的較重要參數(shù)之一，因此對膜厚均勻性綜合設計的研究具有重要的理論和應用價值,。

特殊濺射沉積技術：以上面幾種做基礎,，為達到某些特殊目的而產(chǎn)生的濺射技術。1,、反應濺射：可分為兩類，第一種情況是靶為純金屬,、合金或混合物,，通入的氣體是反應氣體，或Ar加上一部分反應氣體；第二種情況是靶為化合物,，在純氬氣氣氛中濺射產(chǎn)生分解,，使膜內缺少一種或多種靶成分，在濺射時需要補充反應氣體以補償損失的成分,。常用的反應氣體有氧,、氮、氧+氮,、乙炔,、甲烷等。1）反應過程,，反應發(fā)生在表面--靶或基體上,，活性氣體也可以形成活性基團，濺射原子與活性基團碰撞也會形成化合物沉積在基體上,。當通入的反應氣體壓強很低,，或靶的濺射產(chǎn)額很高時化合物的合成發(fā)生在基體上，而且化合物的成分取決于濺射粒子和反應氣體到達基體的相對速度,，這種條件下,，靶面的化學反應消失或者是化合物分解的速度遠大于合成的速度；當氣體壓強繼續(xù)升高,，或濺射產(chǎn)額降低時化合反應達到某個域值,，此后在靶上的化學合成速度大于逸出速度，認為化合物在靶面進行,。濺射是指荷能顆粒轟擊固體表面,，使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。

高速率磁控濺射的一個固有的性質是產(chǎn)生大量的濺射粒子而獲得高的薄膜沉積速率,。高的沉積速率意味著高的粒子流飛向基片,，導致沉積過程中大量粒子的能量被轉移到生長薄膜上，引起沉積溫度明顯增加,。由于濺射離子的能量大約70%需要從陰極冷卻水中帶走,，薄膜的較大濺射速率將受到濺射靶冷卻的限制。冷卻不但靠足夠的冷卻水循環(huán),，還要求良好的靶材導熱率及較薄膜的靶厚度,。同時高速率磁控濺射中典型的靶材利用率只有20%～30%，因而提高靶材利用率也是有待于解決的一個問題,。磁控濺射法實現(xiàn)了高速,、低溫、低損傷,。江蘇射頻磁控濺射價格

真空磁控濺射鍍膜技術所鍍玻璃多用于建筑玻璃和汽車玻璃這兩大用處,。遼寧單靶磁控濺射分類

非平衡磁控濺射離子轟擊在鍍膜前可以起到清洗工件的氧化層和其他雜質,，活化工件表面的作用，同時在工件表面上形成偽擴散層,，有助于提高膜層與工件表面之間的結合力,。在鍍膜過程中，載能的帶電粒子轟擊作用可達到膜層的改性目的,。比如,，離子轟擊傾向于從膜層上剝離結合較松散的和凸出部位的粒子，切斷膜層結晶態(tài)或凝聚態(tài)的優(yōu)勢生長,，從而生更致密,，結合力更強，更均勻的膜層,，并可以較低的溫度下鍍出性能優(yōu)良的鍍層,。非平衡磁控濺射技術的運用，使平衡磁控濺射遇到的沉積致密,、成分復雜薄膜的問題得以解決,。遼寧單靶磁控濺射分類

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