真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)的區(qū)別：真空磁控濺射涂層技術(shù)不同于真空蒸發(fā)涂層技術(shù),。濺射是指荷能顆粒轟擊固體表面，使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象,。大多數(shù)粒子是原子狀態(tài),，通常稱(chēng)為濺射原子。用于轟擊目標(biāo)的濺射顆?？梢允请娮?、離子或中性顆粒，因?yàn)殡x子很容易加速電場(chǎng)下所需的動(dòng)能,，所以大多數(shù)都使用離子作為轟擊顆粒,。濺射過(guò)程是基于光放電，即濺射離子來(lái)自氣體放電,。不同的濺射技術(shù)使用不同的光放電方法,。直流二極濺射采用直流光放電，三極濺射采用熱陰極支撐光放電,，射頻濺射采用射頻光放電,，磁控濺射采用環(huán)磁場(chǎng)控制的光放電。真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)相比有許多優(yōu)點(diǎn),。如任何物質(zhì)都能濺射,，特別是高熔點(diǎn)和低蒸汽壓力的元素和化合物；濺射膜與基板附著力好,；膜密度高,；膜厚可控，重復(fù)性好,。此外,，蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合，即離子鍍,。該方法具有附著力強(qiáng),、沉積率高、膜密度高等優(yōu)點(diǎn),。交流磁控濺射和直流濺射相比交流磁控濺射采 用交流電源代替直流電源,解決了靶面的異常放電現(xiàn)象,。福建智能磁控濺射處理

磁控濺射技術(shù)不只是科學(xué)研究和精密電子制造中常用的薄膜制備工藝技術(shù),，經(jīng)過(guò)多年的不斷完善和發(fā)展，該技術(shù)也已經(jīng)成為重要的工業(yè)化大面積真空鍍膜技術(shù)之一,，普遍應(yīng)用于玻璃,、汽車(chē)、醫(yī)療衛(wèi)生,、電子工業(yè)等工業(yè)和民生領(lǐng)域,。例如，采用磁控濺射工藝生產(chǎn)鍍膜玻璃,，其膜層可以由多層金屬或金屬氧化物祖成,，允許任意調(diào)節(jié)能量通過(guò)率、反射率,，具有良好的美觀效果,，被越來(lái)越多的被應(yīng)用于現(xiàn)代建筑領(lǐng)域。再比如,，磁控濺射技術(shù)也能夠應(yīng)用于織物涂層,，這些織物涂層可以應(yīng)用于安全領(lǐng)域，如防電擊,、電磁屏蔽和機(jī)器人防護(hù)面料等,，也可用于染料制作。這樣的涂層織物在醫(yī)療衛(wèi)生,、環(huán)境保護(hù),、電子工業(yè)等領(lǐng)域都有重要的應(yīng)用。山東專(zhuān)業(yè)磁控濺射優(yōu)點(diǎn)直流濺射方法用于被濺射材料為導(dǎo)電材料的濺射和反應(yīng)濺射鍍膜中,，其工藝設(shè)備簡(jiǎn)單,，有較高的濺射速率。

用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,，點(diǎn)火和濺射很方便,。這是因?yàn)榘校帢O），等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路,。但若濺射絕緣體（如陶瓷）,，則回路斷了。于是人們采用高頻電源,，回路中加入很強(qiáng)的電容,，這樣在絕緣回路中靶材成了一個(gè)電容。但高頻磁控濺射電源昂貴,，濺射速率很小,，同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問(wèn)題,，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶,，加入氬氣和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕?。?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物,。

PVD技術(shù)特征：在真空室內(nèi)充入放電所需要的惰性氣體,，在高壓電場(chǎng)作用下氣體分子因電離而產(chǎn)生大量正離子。帶電離子被強(qiáng)電場(chǎng)加速,，便形成高能量的離子流轟擊蒸發(fā)源材料,。在離子轟擊下，蒸發(fā)源材料的原子將離開(kāi)固體表面,，以高速度濺射到基片上并沉積成薄膜,。RF濺射：RF濺射使用的頻率約為13.56MHz，它不需要熱陰極,，能在較低的氣壓和較低的電壓下進(jìn)行濺射,。RF濺射不只可以沉積金屬膜，而且可以沉積多種材料的絕緣介質(zhì)膜,，因而使用范圍較廣,。電弧離子鍍：陰極弧技術(shù)是在真空條件下，通過(guò)低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態(tài),，從而完成薄膜材料的沉積,，該技術(shù)材料的離化率更高，薄膜性能更加優(yōu)異,。物相沉積技術(shù)普遍應(yīng)用于航空航天,、電子、光學(xué),、機(jī)械,、建筑、輕工,、冶金,、材料等領(lǐng)域。

磁控濺射靶材的分類(lèi)：根據(jù)材料的成分不同,，靶材可分為金屬靶材,、合金靶材、無(wú)機(jī)非金屬靶材等,。其中無(wú)機(jī)非金屬靶材又可分為氧化物,、硅化物、氮化物和氟化物等不同種類(lèi)靶材。根據(jù)幾何形狀的不同,，靶材可分為長(zhǎng)方體形靶材,、圓柱體靶材和不規(guī)則形狀靶材；此外,，靶材還可以分為實(shí)心和空心兩種類(lèi)型靶材,。目前靶材較常用的分類(lèi)方法是根據(jù)靶材應(yīng)用領(lǐng)域進(jìn)行劃分，主要包括半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用靶材,、記錄介質(zhì)應(yīng)用靶材,、顯示薄膜應(yīng)用靶材、光學(xué)靶材,、超導(dǎo)靶材等,。其中半導(dǎo)體領(lǐng)域用靶材、記錄介質(zhì)用靶材和顯示靶材是市場(chǎng)需求規(guī)模較大的三類(lèi)靶材,。磁控濺射具有設(shè)備簡(jiǎn)單,、易于控制、涂覆面積大,、附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),。福建智能磁控濺射處理

在熱陰極的前面增加一個(gè)電極，構(gòu)成四極濺射裝置,，可使放電趨于穩(wěn)定,。福建智能磁控濺射處理

高能脈沖磁控濺射技術(shù)介紹及特點(diǎn)：高能脈沖磁控濺射技術(shù)是利用較高的脈沖峰值功率和較低的脈沖占空比來(lái)產(chǎn)生高濺射金屬離化率的一種磁控濺射技術(shù)。力學(xué)所引進(jìn)德國(guó)電源,，與等離子體淹沒(méi)離子注入沉積方法相結(jié)合,，形成一種新穎的成膜過(guò)程與質(zhì)量調(diào)控技術(shù)，是可應(yīng)用于大型矩形靶的離化率可控磁控濺射新技術(shù),，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)在該方向的研究空白,。將高能沖擊磁控濺射與高壓脈沖偏壓技術(shù)復(fù)合，利用其高離化率和淹沒(méi)性的特點(diǎn),，通過(guò)成膜過(guò)程中入射粒子能量與分布的有效操控,，實(shí)現(xiàn)高膜基結(jié)合力、高質(zhì)量,、高均勻性薄膜的制備,。同時(shí)結(jié)合全新的粒子能量與成膜過(guò)程反饋控制系統(tǒng)，開(kāi)展高離化率等離子體發(fā)生,、等離子體的時(shí)空演變及荷能粒子成膜物理過(guò)程控制等方面的研究與工程應(yīng)用,。其中心技術(shù)具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，已申請(qǐng)相關(guān)發(fā)明專(zhuān)利兩項(xiàng),。該項(xiàng)技術(shù)對(duì)實(shí)現(xiàn)PVD沉積關(guān)鍵瓶頸問(wèn)題的突破具有重大意義,，有助于提升我國(guó)在表面工程加工領(lǐng)域的國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力,。如在交通領(lǐng)域，該技術(shù)用于汽車(chē)發(fā)動(dòng)機(jī)三部件,，可降低摩擦25%,，減少油耗3%；機(jī)械加工領(lǐng)域,，沉積先進(jìn)鍍層可使刀具壽命提高2～10倍,，加工速度提高30-70%。福建智能磁控濺射處理

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