微納加工：干法刻蝕VS濕法刻蝕,！刻蝕工藝：用化學或物理方法有選擇性地從某一材料表面去除不需要那部分的過程,，獲得目標圖形,。在半導體制造中有兩種基本的刻蝕工藝：干法刻蝕和濕法刻蝕,。干法刻蝕的刻蝕劑是等離子體,，是利用等離子體和表面薄膜反應,，形成揮發(fā)性物質(zhì),，或直接轟擊薄膜表面使之被刻蝕的工藝,。特點：能實現(xiàn)各向異性刻蝕,，從而保證細小圖形轉(zhuǎn)移后的保真性,。缺點：造價高。濕法刻蝕是通過化學刻蝕液和被刻蝕物質(zhì)之間的化學反應將被刻蝕物質(zhì)剝離下來的方法,。大多數(shù)濕法刻蝕是不容易控制的各向同性刻蝕,。特點：適應性強，表面均勻性好,、對硅片損傷少,，幾乎適用于所有的金屬,、玻璃、塑料等材料,。缺點：圖形刻蝕保真想過不理想,，刻蝕圖形的小線難以掌控。 微納制造技術(shù)研發(fā)和應用標志著人類可以在微,、納米尺度認識和改造世界,。衢州電子微納加工

        微納加工是指制造特征尺寸以納米為單位的結(jié)構(gòu)，尤其是側(cè)面小于20納米的結(jié)構(gòu),。目前的技術(shù)大多只允許在二維意義上進行微納加工,。納加工通常用于制造計算機芯片，傳統(tǒng)的光刻技術(shù)是計算機行業(yè)的支柱,，可用于創(chuàng)建尺寸小于22m的特征,，雖然這是非常昂貴的，而目且目前還不被認為是經(jīng)濟有效的,。廣東省科學院半導體研究所微納加工平臺,，面向半導體光電子器件、功率電子器件,、MEMS,、生物芯片等前沿領域,，致力于打造高級的公益性,、開放性、支撐性樞紐中心,。平臺擁有半導體制備工藝所需的整套儀器設備,，建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸）,，同時形成了一支與硬件有機結(jié)合的專業(yè)人才隊伍,。平臺當前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務，面向國內(nèi)外高校,、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,，為技術(shù)咨詢、創(chuàng)新研發(fā),、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供技術(shù)支持,。運城電子微納加工未來幾年微納制造系統(tǒng)和平臺的發(fā)展前景包括的方面：智能的、可升級的和適應性強的微納制造系統(tǒng),！

     在過去的50多年中,，微納加工技術(shù)的進步極大地促進了微電子技術(shù)和光電子技術(shù)的發(fā)展。微電子技術(shù)的發(fā)展以超大規(guī)模集成電路為,，集成度以每18個月翻一番的速度提高,，使得以90nm為小電路尺寸的集成電路芯片已經(jīng)開始批量生產(chǎn).以光刻與刻蝕為基礎的平面為加工技術(shù)已經(jīng)成為超大規(guī)模集成電路的技術(shù),，隨著電子束光刻技術(shù)和電感耦合等離子體(ICP)刻蝕技術(shù)的出現(xiàn)，平面微納加工工藝正在推動以單電子器件與自旋電子器件為的新一代納米電子學的發(fā)展.

    光刻是半導體制造中常用的技術(shù)之一,，是現(xiàn)代光電子器件制造的基礎,。實際應用中存在兩個主要挑戰(zhàn)：一是與FIB和EBL相比，分辨率還不夠高,；二是由于直接的激光寫入器逐點生成圖案,，因此吞吐量是一個很大的挑戰(zhàn)。對于上述兩個挑戰(zhàn)：分辨率方面,，一是可以通過原子力顯微鏡（AFM）或掃描近場顯微鏡（SNOM）等近場技術(shù)來提高,，二是可以通過使用短波長光源來提高，三是可以通過非線性吸收實現(xiàn)超分辨率成像或制造,；制造速度方面,，除了工程學方法外，隨著激光技術(shù)的發(fā)展,，主要是提出了包括自組裝微球激光加工,、激光干涉光刻、多焦陣列激光直寫等并行激光加工方法來提高制造速度,。并行激光加工技術(shù)可以將二維加工技術(shù)擴展到三維加工,，為未來微納加工技術(shù)的發(fā)展提供新的方向；同時可以地廣泛應用于傳感,、太陽能電池和超材料領域的表面處理和功能器件制造,，對生物醫(yī)學器件制造、光通信,、傳感,、以及光譜學等領域得發(fā)展研究具有重要意義。 目前微納制造領域較常用的一種微細加工技術(shù)是LIGA,！

      在微納加工過程中,，薄膜的形成方法主要為物理沉積、化學沉積和混合方法沉積,。蒸發(fā)沉積（熱蒸發(fā),、電子束蒸發(fā)）和濺射沉積是典型的物理方法，主要用于沉積金屬單質(zhì)薄膜,、合金薄膜,、化合物等。熱蒸發(fā)是在高真空下,，利用電阻加熱至材料的熔化溫度,，使其蒸發(fā)至基底表面形成薄膜，而電子束蒸發(fā)為使用電子束加熱；磁控濺射在高真空,，在電場的作用下,，Ar氣被電離為Ar離子高能量轟擊靶材，使靶材發(fā)生濺射并沉積于基底,；磁控濺射方法沉積的薄膜純度高,、致密性好，熱蒸發(fā)主要用于沉積低熔點金屬薄膜或者厚膜,；化學氣相沉積（CVD）是典型的化學方法而等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）是物理與化學相結(jié)合的混合方法,，CVD和PECVD主要用于生長氮化硅、氧化硅等介質(zhì)膜,。提高微納加工技術(shù)的加工能力和效率是未來微納結(jié)構(gòu)及器件研究的重點方向,！池州微納加工工藝

微納加工平臺，主要是兩個方面：微納加工,、微納檢測,！衢州電子微納加工

高精度的微細結(jié)構(gòu)可以通過電子束直寫或激光直寫制作，這類光刻技術(shù),，像“寫字”一樣,，通過控制聚焦電子束（光束）移動書寫圖案進行曝光，具有很高的曝光精度,，但這兩種方法制作效率極低,，尤其在大面積制作方面捉襟見肘，目前直寫光刻技術(shù)適用于小面積的微納結(jié)構(gòu)制作,。近年來,，三維浮雕微納結(jié)構(gòu)的需求越來越大，如閃耀光柵,、菲涅爾透鏡,、多臺階微光學元件等,。據(jù)悉,，蘋果公司新上市的手機產(chǎn)品中人臉識別模塊就采用了多臺階微光學元件，以及當下如火如荼的無人駕駛技術(shù)中激光雷達光學系統(tǒng)也用到了復雜的微光學元件,。這類精密的微納結(jié)構(gòu)光學元件需采用灰度光刻技術(shù)進行制作,。直寫技術(shù)，通過在光束移動過程中進行相應的曝光能量調(diào)節(jié),，可以實現(xiàn)良好的灰度光刻能力,。衢州電子微納加工

廣東省科學院半導體研究所發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大，現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團隊,，各種專業(yè)設備齊全,。芯辰實驗室,微納加工是廣東省科學院半導體研究所的主營品牌，是專業(yè)的面向半導體光電子器件,、功率電子器件,、MEMS,、生物芯片等前沿領域，致力于打造***的公益性,、開放性,、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導體制備工藝所需的整套儀器設備,，建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線,，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸），同時形成了一支與硬件有機結(jié)合的專業(yè)人才隊伍,。平臺當前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務,，面向國內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,，為技術(shù)咨詢,、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供支持,。公司,，擁有自己**的技術(shù)體系。我公司擁有強大的技術(shù)實力,，多年來一直專注于面向半導體光電子器件,、功率電子器件、MEMS,、生物芯片等前沿領域,，致力于打造***的公益性、開放性,、支撐性樞紐中心,。平臺擁有半導體制備工藝所需的整套儀器設備，建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線,，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸）,，同時形成了一支與硬件有機結(jié)合的專業(yè)人才隊伍。平臺當前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務,，面向國內(nèi)外高校,、科研院所以及企業(yè)提供開放共享，為技術(shù)咨詢,、創(chuàng)新研發(fā),、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供支持。的發(fā)展和創(chuàng)新,，打造高指標產(chǎn)品和服務,。自公司成立以來，一直秉承“以質(zhì)量求生存，以信譽求發(fā)展”的經(jīng)營理念,，始終堅持以客戶的需求和滿意為重點,，為客戶提供良好的微納加工技術(shù)服務，真空鍍膜技術(shù)服務,，紫外光刻技術(shù)服務,，材料刻蝕技術(shù)服務，從而使公司不斷發(fā)展壯大,。