磁控濺射法：磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,，在陰極和陽極之間施加幾百K直流電壓，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電,，使氬氣發(fā)生電離,。優(yōu)勢特點：較常用的制備磁性薄膜的方法是磁控濺射法。氬離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面,，將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜,。通過更換不同材質(zhì)的靶和控制不同的濺射時間，便可以獲得不同材質(zhì)和不同厚度的薄膜,。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結(jié)合力強,、鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點,。濺射是指荷能顆粒轟擊固體表面,，使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。遼寧高溫磁控濺射用途

磁控濺射的工藝研究：1,、功率：每一個陰極都具有自己的電源,。根據(jù)陰極的尺寸和系統(tǒng)設(shè)計，功率可以在0~150KW之間變化,。電源是一個恒流源,。在功率控制模式下，功率固定同時監(jiān)控電壓,，通過改變輸出電流來維持恒定的功率,。在電流控制模式下，固定并監(jiān)控輸出電流,，這時可以調(diào)節(jié)電壓,。施加的功率越高，沉積速率就越大,。2,、速度：另一個變量是速度。對于單端鍍膜機，鍍膜區(qū)的傳動速度可以在每分鐘0~600英寸之間選擇,。對于雙端鍍膜機,，鍍膜區(qū)的傳動速度可以在每分鐘0~200英寸之間選擇。在給定的濺射速率下,，傳動速度越低則表示沉積的膜層越厚,。3、氣體：較后一個變量是氣體,，可以在三種氣體中選擇兩種作為主氣體和輔氣體來進行使用,。湖南高溫磁控濺射優(yōu)點濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好,、成膜均勻性好,。

磁控濺射技術(shù)的應(yīng)用：主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜,、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮,、美觀、價廉的塑料,陶瓷表面金屬化制品,。普遍應(yīng)用于工藝美術(shù),、裝璜裝飾、燈具,、家具,、玩具、酒瓶蓋,、女式鞋后跟等領(lǐng)域,，JTPZ多功能鍍膜技術(shù)及設(shè)備,，針對汽車,、摩托車燈具而設(shè)計的，在一個真空室內(nèi)完成蒸發(fā)鍍鋁和射頻等離子體鍍保護膜,，這種鍍膜后燈具具有“三防”功能,。射頻等離子體聚合膜還應(yīng)用于光學產(chǎn)品、磁記錄介質(zhì),、**保護膜,；防潮增透膜；防銹抗腐蝕,；耐磨增硬膜,。用戶選擇在燈具基體上噴底漆、鍍鋁膜,、鍍保護膜或燈具基體在真空室進行前處理,、鍍鋁膜、鍍保護膜工藝。

磁控濺射的工藝研究：1,、傳動速度：玻璃基片在陰極下的移動是通過傳動來進行的,。低傳動速度使玻璃在陰極范圍內(nèi)經(jīng)過的時間更長，這樣就可以沉積出更厚的膜層,。不過,，為了保證膜層的均勻性，傳動速度必須保持恒定,。鍍膜區(qū)內(nèi)一般的傳動速度范圍為每分鐘0~600英寸之間,。根據(jù)鍍膜材料、功率,、陰極的數(shù)量以及膜層的種類的不同,，通常的運行范圍是每分鐘90~400英寸之間。2,、距離與速度及附著力：為了得到較大的沉積速率并提高膜層的附著力,，在保證不會破壞輝光放電自身的前提下，基片應(yīng)當盡可能放置在離陰極較近的地方,。濺射粒子和氣體分子的平均自由程也會在其中發(fā)揮作用,。當增加基片與陰極之間的距離，碰撞的幾率也會增加,，這樣濺射粒子到達基片時所具有的能力就會減少,。所以，為了得到較大的沉積速率和較好的附著力,，基片必須盡可能地放置在靠近陰極的位置上,。磁控濺射的優(yōu)點：膜的牢固性好。

真空磁控濺射鍍膜技術(shù)的特點：1,、沉積速率大：由于采用高速磁控電極,，可獲得的離子流很大，有效提高了此工藝鍍膜過程的沉積速率和濺射速率,。與其它濺射鍍膜工藝相比,，磁控濺射的產(chǎn)能高、產(chǎn)量大,、于各類工業(yè)生產(chǎn)中得到普遍應(yīng)用,。2、功率效率高：磁控濺射靶一般選擇200V-1000V范圍之內(nèi)的電壓,，通常為600V,，因為600V的電壓剛好處在功率效率的較高有效范圍之內(nèi)。3,、濺射能量低：磁控靶電壓施加較低,，磁場將等離子體約束在陰極附近,，可防止較高能量的帶電粒子入射到基材上。向脈沖更多地用于雙靶閉合式非平衡磁控濺射系統(tǒng),，系統(tǒng)中的兩個磁控靶連接在同一脈沖電源上,。廣東脈沖磁控濺射流程

磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態(tài)磁控陰極和非平衡態(tài)磁控陰極,。遼寧高溫磁控濺射用途

磁控濺射的優(yōu)點：（1）基板有低溫性,。相對于二級濺射和熱蒸發(fā)來說，磁控濺射加熱少,。（2）有很高的沉積率,。可濺射鎢,、鋁薄膜和反應(yīng)濺射TiO2,、ZrO2薄膜。（3）環(huán)保工藝,。磁控濺射鍍膜法生產(chǎn)效率高,，沒有環(huán)境污染。（4）涂層很好的牢固性,，濺射薄膜與基板,，機械強度得到了改善，更好的附著力,。（5）操作容易控制,。鍍膜過程，只要保持壓強,、電功率濺射條件穩(wěn)定,，就能獲得比較穩(wěn)定的沉積速率。（6）成膜均勻,。濺射的薄膜密度普遍提高,。（7）濺射的金屬膜通常能獲得良好的光學性能、電學性能及某些特殊性能,。（8）濺射可連續(xù)工作,，鍍膜過程容易自動控制,，工業(yè)上流水線作業(yè),。遼寧高溫磁控濺射用途