物相沉積的基本特點：物相沉積技術(shù)工藝過程簡單,，對環(huán)境改善,，無污染，耗材少,，成膜均勻致密,，與基體的結(jié)合力強,。該技術(shù)普遍應用于航空航天、電子,、光學,、機械、建筑,、輕工,、冶金、材料等領(lǐng)域,，可制備具有耐磨,、耐腐蝕、裝飾,、導電,、絕緣、光導,、壓電,、磁性、潤滑,、超導等特性的膜層,。隨著高科技及新興工業(yè)發(fā)展，物相沉積技術(shù)出現(xiàn)了不少新的先進的亮點,，如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術(shù),，大型矩形長弧靶和濺射靶，非平衡磁控濺射靶,，孿生靶技術(shù),，帶狀泡沫多弧沉積卷繞鍍層技術(shù)，條狀纖維織物卷繞鍍層技術(shù)等,，使用的鍍層成套設備,，向計算機全自動,，大型化工業(yè)規(guī)模方向發(fā)展。磁控濺射是在陰極靶的表面上方形成一個正交電磁,。天津高溫磁控濺射

磁控濺射靶材的原理：在被濺射的靶極與陽極之間加一個正交磁場和電場,，在高真空室中充入所需要的惰性氣體，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場,，同高壓電場組成正交電磁場,。在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子,，靶上加有一定的負高壓,，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體,，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面,，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜,。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射,，其中直流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時,，其速率也快,。而射頻濺射的使用范圍更為普遍，除可濺射導電材料外,，也可濺射非導電的材料，同時還可進行反應濺射制備氧化物,、氮化物和碳化物等化合物材料,。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，如今,，常用的有電子回旋共振型微波等離子體濺射,。廣州反應磁控濺射流程在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應用在化學氣相沉積或金屬有機,。

真空磁控濺射鍍膜技術(shù)的特點：1,、基片溫度低：可利用陽極導走放電時產(chǎn)生的電子，而不必借助基材支架接地來完成,，可以有效減少電子轟擊基材,，因而基材的溫度較低，非常適合一些不太耐高溫的塑料基材鍍膜,。2,、磁控濺射靶表面不均勻刻蝕：磁控濺射靶表面刻蝕不均是由靶磁場不均所導致，靶的局部位置刻蝕速率較大,，使靶材有效利用率較低,。因此,，想要提高靶材利用率，需要通過一定手段將磁場分布改變,，或者利用磁鐵在陰極中移動,，也可提高靶材利用率。

真空磁控濺射鍍膜技術(shù)的特點：1,、沉積速率大：由于采用高速磁控電極,，可獲得的離子流很大，有效提高了此工藝鍍膜過程的沉積速率和濺射速率,。與其它濺射鍍膜工藝相比,，磁控濺射的產(chǎn)能高、產(chǎn)量大,、于各類工業(yè)生產(chǎn)中得到普遍應用,。2、功率效率高：磁控濺射靶一般選擇200V-1000V范圍之內(nèi)的電壓,，通常為600V,，因為600V的電壓剛好處在功率效率的較高有效范圍之內(nèi)。3,、濺射能量低：磁控靶電壓施加較低,，磁場將等離子體約束在陰極附近，可防止較高能量的帶電粒子入射到基材上,。磁控濺射是物相沉積的一種,。

磁控濺射的優(yōu)點：（1）基板有低溫性。相對于二級濺射和熱蒸發(fā)來說,，磁控濺射加熱少,。（2）有很高的沉積率?？蔀R射鎢,、鋁薄膜和反應濺射TiO2、ZrO2薄膜,。（3）環(huán)保工藝,。磁控濺射鍍膜法生產(chǎn)效率高，沒有環(huán)境污染,。（4）涂層很好的牢固性,，濺射薄膜與基板，機械強度得到了改善,，更好的附著力,。（5）操作容易控制。鍍膜過程，只要保持壓強,、電功率濺射條件穩(wěn)定,，就能獲得比較穩(wěn)定的沉積速率。（6）成膜均勻,。濺射的薄膜密度普遍提高,。（7）濺射的金屬膜通常能獲得良好的光學性能、電學性能及某些特殊性能,。（8）濺射可連續(xù)工作,，鍍膜過程容易自動控制，工業(yè)上流水線作業(yè),。真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)相比有許多優(yōu)點,。上海高溫磁控濺射用處

在直流二極濺射裝置中增加一個熱陰極和陽極，就構(gòu)成直流三極濺射,。天津高溫磁控濺射

熱式氣體流量控制器在雙靶磁控濺射儀的應用：雙室磁控濺射沉積系統(tǒng)是帶有進樣室的高真空多功能磁控濺射鍍膜設備,。它可用于在高真空背景下，充入高純氬氣,，采用磁控濺射方式制備各種金屬膜,、介質(zhì)膜、半導體膜,。雙靶磁控濺射儀是一款高真空鍍膜設備,，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜,、合金薄膜,、半導體薄膜、陶瓷薄膜,、介質(zhì)薄膜,、光學薄膜、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜,、聚四氟乙烯薄膜等,。本公司生產(chǎn)的DC系列的數(shù)字型熱式氣體流量控制器在該設備中使用,，產(chǎn)品采用全數(shù)字架構(gòu)，新型的傳感制作工藝,，通訊方式兼容：0-5V,、4-20mA、RS485通訊模式,，一鍵切換通訊信號,，操作簡單方便。天津高溫磁控濺射