物相沉積的基本特點(diǎn)：物相沉積技術(shù)工藝過(guò)程簡(jiǎn)單,，對(duì)環(huán)境改善,，無(wú)污染，耗材少,，成膜均勻致密,，與基體的結(jié)合力強(qiáng),。該技術(shù)普遍應(yīng)用于航空航天、電子,、光學(xué),、機(jī)械、建筑,、輕工,、冶金、材料等領(lǐng)域,，可制備具有耐磨,、耐腐蝕、裝飾,、導(dǎo)電,、絕緣、光導(dǎo),、壓電,、磁性、潤(rùn)滑,、超導(dǎo)等特性的膜層,。隨著高科技及新興工業(yè)發(fā)展，物相沉積技術(shù)出現(xiàn)了不少新的先進(jìn)的亮點(diǎn),，如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術(shù),，大型矩形長(zhǎng)弧靶和濺射靶，非平衡磁控濺射靶,，孿生靶技術(shù),，帶狀泡沫多弧沉積卷繞鍍層技術(shù)，條狀纖維織物卷繞鍍層技術(shù)等,，使用的鍍層成套設(shè)備,，向計(jì)算機(jī)全自動(dòng)，大型化工業(yè)規(guī)模方向發(fā)展,。磁控濺射是在陰極靶的表面上方形成一個(gè)正交電磁,。天津高溫磁控濺射

磁控濺射靶材的原理：在被濺射的靶極與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體,，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場(chǎng),，同高壓電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng),。在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子,，靶上加有一定的負(fù)高壓,，從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體,，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面,，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜,。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射,，其中直流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí),，其速率也快,。而射頻濺射的使用范圍更為普遍，除可濺射導(dǎo)電材料外,，也可濺射非導(dǎo)電的材料,，同時(shí)還可進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料,。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射,，如今,，常用的有電子回旋共振型微波等離子體濺射,。廣州反應(yīng)磁控濺射流程在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積或金屬有機(jī),。

真空磁控濺射鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)：1,、基片溫度低：可利用陽(yáng)極導(dǎo)走放電時(shí)產(chǎn)生的電子，而不必借助基材支架接地來(lái)完成,，可以有效減少電子轟擊基材,，因而基材的溫度較低，非常適合一些不太耐高溫的塑料基材鍍膜,。2,、磁控濺射靶表面不均勻刻蝕：磁控濺射靶表面刻蝕不均是由靶磁場(chǎng)不均所導(dǎo)致，靶的局部位置刻蝕速率較大,，使靶材有效利用率較低,。因此，想要提高靶材利用率,，需要通過(guò)一定手段將磁場(chǎng)分布改變,，或者利用磁鐵在陰極中移動(dòng)，也可提高靶材利用率,。

真空磁控濺射鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)：1,、沉積速率大：由于采用高速磁控電極,，可獲得的離子流很大，有效提高了此工藝鍍膜過(guò)程的沉積速率和濺射速率,。與其它濺射鍍膜工藝相比,，磁控濺射的產(chǎn)能高、產(chǎn)量大,、于各類(lèi)工業(yè)生產(chǎn)中得到普遍應(yīng)用,。2、功率效率高：磁控濺射靶一般選擇200V-1000V范圍之內(nèi)的電壓,，通常為600V,，因?yàn)?00V的電壓剛好處在功率效率的較高有效范圍之內(nèi)。3,、濺射能量低：磁控靶電壓施加較低,，磁場(chǎng)將等離子體約束在陰極附近，可防止較高能量的帶電粒子入射到基材上,。磁控濺射是物相沉積的一種,。

磁控濺射的優(yōu)點(diǎn)：（1）基板有低溫性。相對(duì)于二級(jí)濺射和熱蒸發(fā)來(lái)說(shuō),，磁控濺射加熱少,。（2）有很高的沉積率?？蔀R射鎢,、鋁薄膜和反應(yīng)濺射TiO2、ZrO2薄膜,。（3）環(huán)保工藝,。磁控濺射鍍膜法生產(chǎn)效率高，沒(méi)有環(huán)境污染,。（4）涂層很好的牢固性,，濺射薄膜與基板，機(jī)械強(qiáng)度得到了改善,，更好的附著力,。（5）操作容易控制。鍍膜過(guò)程,，只要保持壓強(qiáng),、電功率濺射條件穩(wěn)定，就能獲得比較穩(wěn)定的沉積速率,。（6）成膜均勻,。濺射的薄膜密度普遍提高。（7）濺射的金屬膜通常能獲得良好的光學(xué)性能、電學(xué)性能及某些特殊性能,。（8）濺射可連續(xù)工作,，鍍膜過(guò)程容易自動(dòng)控制，工業(yè)上流水線(xiàn)作業(yè),。真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)相比有許多優(yōu)點(diǎn),。上海高溫磁控濺射用處

在直流二極濺射裝置中增加一個(gè)熱陰極和陽(yáng)極，就構(gòu)成直流三極濺射,。天津高溫磁控濺射

熱式氣體流量控制器在雙靶磁控濺射儀的應(yīng)用：雙室磁控濺射沉積系統(tǒng)是帶有進(jìn)樣室的高真空多功能磁控濺射鍍膜設(shè)備,。它可用于在高真空背景下，充入高純氬氣,，采用磁控濺射方式制備各種金屬膜,、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜,。雙靶磁控濺射儀是一款高真空鍍膜設(shè)備,，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜,、合金薄膜,、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜,、介質(zhì)薄膜,、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜,、聚四氟乙烯薄膜等。本公司生產(chǎn)的DC系列的數(shù)字型熱式氣體流量控制器在該設(shè)備中使用,，產(chǎn)品采用全數(shù)字架構(gòu),，新型的傳感制作工藝，通訊方式兼容：0-5V,、4-20mA、RS485通訊模式,，一鍵切換通訊信號(hào),，操作簡(jiǎn)單方便。天津高溫磁控濺射