真空鍍膜：真空濺射法：真空濺射法是物理的氣相沉積法中的后起之秀,。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展，濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展,，在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨到之處,。其原理為：稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下，對陰極靶材料表面進行轟擊,，把靶材料表面的分子,、原子、離子及電子等濺射出來,，被濺射出來的粒子帶有一定的動能,，沿一定的方法射向基體表面，在基體表面形成鍍層,。特點為：鍍膜層與基材的結(jié)合力強,；鍍膜層致密、均勻,；設(shè)備簡單,，操作方便，容易控制。主要的濺射方法有直流濺射,、射頻濺射,、磁控濺射等。目前應(yīng)用較多的是磁控濺射法,。真空鍍膜在鋼材,、鎳、鈾,、金剛石表面鍍鈦金屬薄膜,提高了鋼材,、鈾、金剛石等材料的耐腐蝕性能,。平頂山真空鍍膜

基片溫度對薄膜結(jié)構(gòu)有較大影響,，基片溫度高，使吸附原子的動能增大,，跨越表面勢壘的幾率增多,，容易結(jié)晶化，并使薄膜缺陷減少,，同時薄膜內(nèi)應(yīng)力也會減少,，基片溫度低，則易形成無定形結(jié)構(gòu)膜,。 材料飽和蒸汽壓隨溫度的上升而迅速增大,，所以實驗時必須控制好蒸發(fā)源溫度。蒸發(fā)鍍膜常用的加熱方法時電阻大電流加熱,，采用鎢,，鉬，鉑等高熔點的金屬,。真空鍍膜時,，飛抵基片的氣化原子或分子，一部分被反射,，一部分被蒸發(fā)離開,，剩下的要么結(jié)合在一起，再捕獲其他原子或分子,，使得自己增大,；或者單個原子或分子在基片上自由擴散，逐漸生長,，覆蓋整個基片,，形成鍍膜。注意的是基片的清潔度和完整性將影響到鍍膜的形成速率和質(zhì)量廣州小家電真空鍍膜真空鍍膜機硬化膜沉積技術(shù)目前較成熟的是cvd,、pvd,。

真空鍍膜：等離子體鍍膜：每個弧斑存在極短時間,，爆發(fā)性地蒸發(fā)離化陰極改正點處的鍍料,，蒸發(fā)離化后的金屬離子,，在陰極表面也會產(chǎn)生新的弧斑，許多弧斑不斷產(chǎn)生和消失,，所以又稱多弧蒸發(fā),。較早設(shè)計的等離子體加速器型多弧蒸發(fā)離化源，是在陰極背后配置磁場,，使蒸發(fā)后的離子獲得霍爾(Hall)加速對應(yīng)效應(yīng),，有利于離子增大能量轟擊量體，采用這種電弧蒸發(fā)離化源鍍膜,，離化率較高,，所以又稱為電弧等離子體鍍膜。由于等離子體鍍膜常產(chǎn)生多弧斑,，所以也稱多弧蒸發(fā)離化過程,。

磁控濺射包括很多種類各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用,，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材,。靶源分平衡和非平衡式,，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強,。平衡靶源多用于半導體光學膜,，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同,，大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極,。具體應(yīng)用需選擇不一樣的磁控設(shè)備類型。真空濺鍍通常指的是磁控濺鍍,，屬于高速低溫濺鍍法,。

磁控濺射的工作原理是指電子在外加電場的作用下，在飛向襯底過程中與氬原子發(fā)生碰撞,，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子,；新電子飛向襯底，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,，并以高能量轟擊靶表面,，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,，而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用,，被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，以近似擺線形式在靶表面做圓周運動,，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材,，從而實現(xiàn)了高的沉積速率。隨著碰撞次數(shù)的增加,，二次電子的能量消耗殆盡,，逐漸遠離靶表面，并在電場的作用下沉積在襯底上,。由于該電子的能量很低,，傳遞給襯底的能量很小，致使襯底溫升較低,。真空鍍膜技術(shù)首先用于生產(chǎn)光學鏡片,。汕尾真空鍍膜

真空鍍膜過程可以實現(xiàn)連續(xù)化。平頂山真空鍍膜

真空鍍膜：技術(shù)原理：PVD(PhysicalVaporDeposition)即物理的氣相沉積,，分為：真空蒸發(fā)鍍膜,、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜,，指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍,；通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜,。真空蒸鍍基本原理：在真空條件下,，使金屬、金屬合金等蒸發(fā),，然后沉積在基體表面上,，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料,，使蒸發(fā)成氣相,，然后沉積在基體表面，歷史上,，真空蒸鍍是PVD法中使用較早的技術(shù),。平頂山真空鍍膜