常用的光刻膠主要是兩種,，正性光刻膠（positive photoresist）被曝光的部分會被顯影劑去除,，負性光刻膠(negative photoresist)未被曝光的部分會被顯影劑去除。正性光刻膠主要應用于腐蝕和刻蝕工藝,，而負膠工藝主要應用于剝離工藝（lift-off）,。光刻是微納加工當中不可或缺的工藝，主要是起到圖形化轉(zhuǎn)移的作用,。常規(guī)的光刻分為有掩膜光刻和無掩膜光刻,。無掩膜光刻主要是電子束曝光和激光直寫光，有掩膜光刻主要是接觸式曝光,、非接觸式曝光和stepper光刻,。對于有掩膜光刻，首先需要設計光刻版,，常用的設計軟件有CAD,、L-edit等軟件。接觸式曝光和非接觸式曝光的區(qū)別,，在于曝光時掩模與晶片間相對關(guān)系是貼緊還是分開。安徽光刻加工

光刻膠按應用領(lǐng)域分類,，可分為PCB光刻膠,、顯示面板光刻膠、半導體光刻膠及其他光刻膠,。全球市場上不同種類光刻膠的市場結(jié)構(gòu)較為均衡,。智研咨詢的數(shù)據(jù)還顯示，受益于半導體,、顯示面板,、PCB產(chǎn)業(yè)東移的趨勢，自2011年至今,，光刻膠中國本土供應規(guī)模年華增長率達到11%,，高于全球平均5%的增速。2019年中國光刻膠市場本土企業(yè)銷售規(guī)模約70億元,，全球占比約10%,，發(fā)展空間巨大。目前,，中國本土光刻膠以PCB用光刻膠為主,，平板顯示、半導體用光刻膠供應量占比極低,。佛山光刻外協(xié)一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干,、涂底、旋涂光刻膠,、軟烘,、對準曝光,、后烘、顯影,、硬烘等工序,。

光刻技術(shù)是集成電路制造中利用光學- 化學反應原理和化學、物理刻蝕方法,，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上,，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。隨著半導體技術(shù)的發(fā)展,，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級）,，已從常規(guī)光學技術(shù)發(fā)展到應用電子束、 X射線,、微離子束,、激光等新技術(shù)；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數(shù)量級范圍,。光刻技術(shù)成為一種精密的微細加工技術(shù),。光刻技術(shù)是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑（又名光刻膠）將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到基片上的技術(shù),。其主要過程為：首先紫外光通過掩膜版照射到附有一層光刻膠薄膜的基片表面,，引起曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生化學反應；再通過顯影技術(shù)溶解去除曝光區(qū)域或未曝光區(qū)域的光刻膠（前者稱正性光刻膠,，后者稱負性光刻膠）,，使掩膜版上的圖形被復制到光刻膠薄膜上；較后利用刻蝕技術(shù)將圖形轉(zhuǎn)移到基片上,。

接觸式光刻曝光時掩模壓在光刻膠的襯底晶片上,，其主要優(yōu)點是可以使用價格較低的設備制造出較小的特征尺寸。接觸式光刻和深亞微米光源已經(jīng)達到了小于0.1μm的特征尺寸,，常用的光源分辨率為0.5μm左右,。接觸式光刻機的掩模版包括了要復制到襯底上的所有芯片陣列圖形。在襯底上涂上光刻膠,，并被安裝到一個由手動控制的臺子上,，臺子可以進行X、y方向及旋轉(zhuǎn)的定位控制,。掩模版和襯底晶片需要通過分立視場的顯微鏡同時觀察,，這樣操作者用手動控制定位臺子就能把掩模版圖形和襯底晶片上的圖形對準了。經(jīng)過紫外光曝光,，光線通過掩模版透明的部分,，圖形就轉(zhuǎn)移到了光刻膠上。光刻膠若性能不達標會對芯片成品率造成重大影響。

光聚合型,，可形成正性光刻膠,，是通過采用了烯類單體，在光作用下生成自由基從而進一步引發(fā)單體聚合,，較后生成聚合物的過程,；光分解型光刻膠可以制成正性膠，通過采用含有疊氮醌類化合物的材料在經(jīng)過光照后,發(fā)生光分解反應的過程,。光交聯(lián)型,，即采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下,，其分子中的雙鍵被打開,，并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián)，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),，從而起到抗蝕作用,，是一種典型的負性光刻膠。按照應用領(lǐng)域的不同,，光刻膠又可以分為印刷電路板（PCB）用光刻膠,、液晶顯示(LCD）用光刻膠、半導體用光刻膠和其他用途光刻膠,。PCB 光刻膠技術(shù)壁壘相對其他兩類較低,，而半導體光刻膠表示著光刻膠技術(shù)較先進水平。每顆芯片誕生之初,，都要經(jīng)過光刻機的雕刻，精度要達到頭發(fā)絲的千分之一,。功率器件光刻服務價格

堅膜,，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護下表面的能力。安徽光刻加工

光刻膠所屬的微電子化學品是電子行業(yè)與化工行業(yè)交叉的領(lǐng)域,，是典型的技術(shù)密集行業(yè),。從事微電子化學品業(yè)務需要具備與電子產(chǎn)業(yè)前沿發(fā)展相匹配的關(guān)鍵生產(chǎn)技術(shù)，如混配技術(shù),、分離技術(shù),、純化技術(shù)以及與生產(chǎn)過程相配套的分析檢驗技術(shù)、環(huán)境處理與監(jiān)測技術(shù)等,。同時,，下游電子產(chǎn)業(yè)多樣化的使用場景要求微電子化學品生產(chǎn)企業(yè)有較強的配套能力，以及時研發(fā)和改進產(chǎn)品工藝來滿足客戶的個性化需求,。光刻膠的生產(chǎn)工藝主要過程是將感光材料,、樹脂、溶劑等主要原料在恒溫恒濕1000級的黃光區(qū)潔凈房進行混合，在氮氣氣體保護下充分攪拌,，使其充分混合形成均相液體,，經(jīng)過多次過濾，并通過中間過程控制和檢驗,，使其達到工藝技術(shù)和質(zhì)量要求,，較后做產(chǎn)品檢驗，合格后在氮氣氣體保護下包裝,、打標,、入庫。安徽光刻加工

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