對(duì)于國(guó)產(chǎn)光刻膠來(lái)說(shuō),，今年的九月是極為特殊的一個(gè)月份。9月23日,，發(fā)改委聯(lián)合工信部,、科技部、財(cái)政部共同發(fā)布了《關(guān)于擴(kuò)大戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)投資培育壯大新增長(zhǎng)點(diǎn)增長(zhǎng)極的指導(dǎo)意見》,，《意見》提出,，加快新材料產(chǎn)業(yè)強(qiáng)弱項(xiàng)，具體涉及加快在光刻膠,、大尺寸硅片,、電子封裝材料等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破。而在《意見》還未發(fā)布之前,，部分企業(yè)已經(jīng)聞聲先動(dòng)了,。除了幾家企業(yè)加大投資、研發(fā)國(guó)產(chǎn)光刻膠之外,，還有兩家企業(yè)通過(guò)購(gòu)買光刻機(jī)的方式,，開展光刻膠的研發(fā)。光刻膠產(chǎn)業(yè),，尤其是較優(yōu)光刻膠一直是日本企業(yè)所把持,，這已不是什么鮮為人知的信息了。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所,。正性光刻膠主要應(yīng)用于腐蝕和刻蝕工藝,，而負(fù)膠工藝主要應(yīng)用于剝離工藝。河南光刻加工平臺(tái)

堅(jiān)膜,，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護(hù)下表面的能力,；進(jìn)一步增強(qiáng)光刻膠與硅片表面之間的黏附性；進(jìn)一步減少駐波效應(yīng)（StandingWaveEffect）,。常見問(wèn)題：a,、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強(qiáng)度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻擋能力）,；降低小孔填充能力（GapfillCapabilityfortheneedlehole）,；降低與基底的黏附能力。b,、烘烤過(guò)度（Overbake）,。引起光刻膠的流動(dòng)，使圖形精度降低,，分辨率變差,。另外還可以用深紫外線（DUV，DeepUltra-Violet）堅(jiān)膜,。使正性光刻膠樹脂發(fā)生交聯(lián)形成一層薄的表面硬殼,，增加光刻膠的熱穩(wěn)定性。在后面的等離子刻蝕和離子注入（125～200C）工藝中減少因光刻膠高溫流動(dòng)而引起分辨率的降低,。黑龍江光刻價(jià)格光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一,。

光刻膠若性能不達(dá)標(biāo)會(huì)對(duì)芯片成品率造成重大影響。目前中國(guó)光刻膠國(guó)產(chǎn)化水平嚴(yán)重不足,，重點(diǎn)技術(shù)差距在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域,，有2-3代差距，隨著下游半導(dǎo)體行業(yè),、LED及平板顯示行業(yè)的快速發(fā)展,，未來(lái)國(guó)內(nèi)光刻膠產(chǎn)品國(guó)產(chǎn)化替代空間巨大。同時(shí),，國(guó)內(nèi)光刻膠企業(yè)積極抓住中國(guó)晶圓制造擴(kuò)產(chǎn)的百年機(jī)遇,，發(fā)展光刻膠業(yè)務(wù)，力爭(zhēng)早日追上國(guó)際先進(jìn)水平,，打進(jìn)國(guó)內(nèi)新建晶圓廠的供應(yīng)鏈,。光刻膠的國(guó)產(chǎn)化公關(guān)正在各方面展開，在面板屏顯光刻膠領(lǐng)域,，中國(guó)已經(jīng)出現(xiàn)了一批有競(jìng)爭(zhēng)力的本土企業(yè),。在半導(dǎo)體和面板光刻膠領(lǐng)域，盡管國(guó)產(chǎn)光刻膠距離國(guó)際先進(jìn)水平仍然有差距,，但是在政策的支持和自身的不懈努力之下,，中國(guó)已經(jīng)有一批光刻膠企業(yè)陸續(xù)實(shí)現(xiàn)了技術(shù)突破。

光刻涂底方法：氣相成底膜的熱板涂底,。HMDS蒸氣淀積,，200～250C,30秒鐘,；優(yōu)點(diǎn)：涂底均勻、避免顆粒污染,；旋轉(zhuǎn)涂底,。缺點(diǎn)：顆粒污染、涂底不均勻,、HMDS用量大,。目的：使表面具有疏水性，增強(qiáng)基底表面與光刻膠的黏附性旋轉(zhuǎn)涂膠方法：a,、靜態(tài)涂膠（Static）,。硅片靜止時(shí)，滴膠,、加速旋轉(zhuǎn),、甩膠、揮發(fā)溶劑（原光刻膠的溶劑約占65～85%,旋涂后約占10～20%）,；b,、動(dòng)態(tài)（Dynamic）。低速旋轉(zhuǎn)（500rpm_rotationperminute）,、滴膠,、加速旋轉(zhuǎn)（3000rpm）、甩膠,、揮發(fā)溶劑,。決定光刻膠涂膠厚度的關(guān)鍵參數(shù)：光刻膠的黏度（Viscosity），黏度越低,，光刻膠的厚度越?。还饪唐鋵?shí)就是一個(gè)圖形化轉(zhuǎn)印的過(guò)程,。

光刻膠是光刻工藝中較關(guān)鍵材料,，國(guó)產(chǎn)替代需求緊迫。光刻工藝是指在光照作用下,，借助光刻膠將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到基片上的技術(shù),，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，隨著集成電路線寬縮小,、集成度大為提升,，光刻工藝技術(shù)難度大幅提升，成為延續(xù)摩爾定律的關(guān)鍵技術(shù)之一,。同時(shí),，器件和走線的復(fù)雜度和密集度大幅度提升，較好制程關(guān)鍵層次需要兩次甚至多次曝光來(lái)實(shí)現(xiàn),。其中,，光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能,、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。光刻膠經(jīng)過(guò)幾十年不斷的發(fā)展和進(jìn)步,，應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴(kuò)大,，衍生出非常多的種類。不同用途的光刻膠曝光光源,、反應(yīng)機(jī)理、制造工藝,、成膜特性,、加工圖形線路的精度等性能要求不同，導(dǎo)致對(duì)于材料的溶解性,、耐蝕刻性,、感光性能、耐熱性等要求不同,。因此每一類光刻膠使用的原料在化學(xué)結(jié)構(gòu),、性能上都比較特殊，要求使用不同品質(zhì)等級(jí)的光刻膠**化學(xué)品,。影響光刻膠均勻性的參數(shù)：旋轉(zhuǎn)加速度,，加速越快越均勻。佛山接觸式光刻

接觸式曝光具有分辨率高,、復(fù)印面積大,、復(fù)印精度好、曝光設(shè)備簡(jiǎn)單,、操作方便和生產(chǎn)效率高等特點(diǎn),。河南光刻加工平臺(tái)

光刻層間對(duì)準(zhǔn)，即套刻精度（Overlay）,，保證圖形與硅片上已經(jīng)存在的圖形之間的對(duì)準(zhǔn),。曝光中較重要的兩個(gè)參數(shù)是：曝光能量（Energy）和焦距（Focus）。如果能量和焦距調(diào)整不好,，就不能得到要求的分辨率和大小的圖形,。表現(xiàn)為圖形的關(guān)鍵尺寸超出要求的范圍。曝光方法：a,、接觸式曝光（ContactPrinting）,。掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來(lái)的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當(dāng),，設(shè)備簡(jiǎn)單,。缺點(diǎn)：光刻膠污染掩膜板；掩膜板的磨損,，壽命很低（只能使用5～25次）,；1970前使用,，分辨率〉0.5μm。b,、接近式曝光（ProximityPrinting）,。河南光刻加工平臺(tái)

廣東省半導(dǎo)體所，2016-04-07正式啟動(dòng),，成立了微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù)，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)等幾大市場(chǎng)布局,，應(yīng)對(duì)行業(yè)變化，順應(yīng)市場(chǎng)趨勢(shì)發(fā)展,，在創(chuàng)新中尋求突破,，進(jìn)而提升芯辰實(shí)驗(yàn)室,微納加工的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力，把握市場(chǎng)機(jī)遇,，推動(dòng)電子元器件產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步,。是具有一定實(shí)力的電子元器件企業(yè)之一，主要提供微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù)，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)等領(lǐng)域內(nèi)的產(chǎn)品或服務(wù),。同時(shí),，企業(yè)針對(duì)用戶，在微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù)，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)等幾大領(lǐng)域,，提供更多,、更豐富的電子元器件產(chǎn)品，進(jìn)一步為全國(guó)更多單位和企業(yè)提供更具針對(duì)性的電子元器件服務(wù),。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所業(yè)務(wù)范圍涉及面向半導(dǎo)體光電子器件,、功率電子器件、MEMS,、生物芯片等前沿領(lǐng)域,，致力于打造***的公益性、開放性,、支撐性樞紐中心,。平臺(tái)擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備，建立了一條實(shí)驗(yàn)室研發(fā)線和一條中試線，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸）,，同時(shí)形成了一支與硬件有機(jī)結(jié)合的專業(yè)人才隊(duì)伍,。平臺(tái)當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù)，面向國(guó)內(nèi)外高校,、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,，為技術(shù)咨詢、創(chuàng)新研發(fā),、技術(shù)驗(yàn)證以及產(chǎn)品中試提供支持,。等多個(gè)環(huán)節(jié)，在國(guó)內(nèi)電子元器件行業(yè)擁有綜合優(yōu)勢(shì),。在微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù)，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)等領(lǐng)域完成了眾多可靠項(xiàng)目。