光刻膠的技術(shù)壁壘包括配方技術(shù),，質(zhì)量控制技術(shù)和原材料技術(shù),。配方技術(shù)是光刻膠實現(xiàn)功能的中心,，質(zhì)量控制技術(shù)能夠保證光刻膠性能的穩(wěn)定性而***的原材料則是光刻膠性能的基礎(chǔ),。配方技術(shù)：由于光刻膠的下游用戶是半導(dǎo)體制造商,，不同的客戶會有不同的應(yīng)用需求,，同一個客戶也有不同的光刻應(yīng)用需求,。一般一塊半導(dǎo)體芯片在制造過程中需要進(jìn)行10-50道光刻過程,，由于基板不同、分辨率要求不同,、蝕刻方式不同等,，不同的光刻過程對光刻膠的具體要求也不一樣,，即使類似的光刻過程，不同的廠商也會有不同的要求,。針對以上不同的應(yīng)用需求,，光刻膠的品種非常多，這些差異主要通過調(diào)整光刻膠的配方來實現(xiàn),。負(fù)膠光刻的基本流程：襯底清洗,、前烘以及預(yù)處理、涂膠,、軟烘,、曝光、后烘,、顯影,、圖形檢查。福建光刻工藝

一般微電子化學(xué)品具有一定的腐蝕性,，對生產(chǎn)設(shè)備有較高的要求,，且生產(chǎn)環(huán)境需要進(jìn)行無塵或微塵處理。制備較優(yōu)微電子化學(xué)品還需要全封閉,、自動化的工藝流程,，以避免污染，提高質(zhì)量,。因此,，光刻膠等微電子化學(xué)品生產(chǎn)在安全生產(chǎn)、環(huán)保設(shè)備,、生產(chǎn)工藝系統(tǒng),、過程控制體系以及研發(fā)投資等方面要求較高。如果沒有強(qiáng)大的資金實力,，企業(yè)就難以在設(shè)備,、研發(fā)和技術(shù)服務(wù)上取得競爭優(yōu)勢，以提升可持續(xù)發(fā)展能力,。因此,，光刻膠這樣的微電子化學(xué)品行業(yè)具備較高的資金壁壘。圖形光刻實驗室光刻膠又稱光致抗蝕劑,，是一種對光敏感的混合液體,。

光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的35%，并且耗費時間約占整個芯片工藝的40%-50%,。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%,，市場巨大。因此光刻膠是半導(dǎo)體集成電路制造的中心材料,。按顯示效果分類,；光刻膠可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠,。負(fù)性光刻膠顯影時形成的圖形與光罩（掩膜版）相反；正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同,。兩者的生產(chǎn)工藝流程基本一致,，區(qū)別在于主要原材料不同。按照化學(xué)結(jié)構(gòu)分類,；光刻膠可以分為光聚合型,，光分解型，光交聯(lián)型和化學(xué)放大型,。

整個光刻顯影過程中，TMAH沒有同PHS發(fā)生反應(yīng),。負(fù)性光刻膠的顯影液,。二甲苯。清洗液為乙酸丁脂或乙醇,、三氯乙烯,。顯影中的常見問題：a、顯影不完全（IncompleteDevelopment）,。表面還殘留有光刻膠,。顯影液不足造成；b,、顯影不夠（UnderDevelopment）,。顯影的側(cè)壁不垂直，由顯影時間不足造成,；c,、過度顯影（OverDevelopment）?？拷砻娴墓饪棠z被顯影液過度溶解,，形成臺階。顯影時間太長,。硬烘方法：熱板,，100～130C（略高于玻璃化溫度Tg），1～2分鐘,。目的：完全蒸發(fā)掉光刻膠里面的溶劑（以免在污染后續(xù)的離子注入環(huán)境,，例如DNQ酚醛樹脂光刻膠中的氮會引起光刻膠局部爆裂）；邊緣的光刻膠一般涂布不均勻,，產(chǎn)生邊緣效應(yīng),，不能得到很好的圖形，而且容易發(fā)生剝離而影響其它部分的圖形,。

光刻膠旋轉(zhuǎn)速度,，速度越快,，厚度越薄,；影響光刻膠均勻性的參數(shù)：旋轉(zhuǎn)加速度,，加速越快越均勻；與旋轉(zhuǎn)加速的時間點有關(guān),。一般旋涂光刻膠的厚度與曝光的光源波長有關(guān)（因為不同級別的曝光波長對應(yīng)不同的光刻膠種類和分辨率）：I-line較厚,，約0.7～3μm；KrF的厚度約0.4～0.9μm,；ArF的厚度約0.2～0.5μm,。軟烘方法：真空熱板，85～120C,30～60秒,；目的：除去溶劑（4～7%）,；增強(qiáng)黏附性；釋放光刻膠膜內(nèi)的應(yīng)力,；防止光刻膠玷污設(shè)備,；邊緣光刻膠的去除：光刻膠涂覆后，在硅片邊緣的正反兩面都會有光刻膠的堆積,。在掩膜板與光刻膠之間使用透鏡聚集光實現(xiàn)曝光,。天津數(shù)字光刻

接觸式光刻機(jī)，曝光時,，光刻版壓在涂有光刻膠的襯底上,，優(yōu)點是設(shè)備簡單，分辨率高,，沒有衍射效應(yīng),。福建光刻工藝

光刻膠行業(yè)具有極高的行業(yè)壁壘，因此在全球范圍其行業(yè)都呈現(xiàn)寡頭壟斷的局面,。光刻膠行業(yè)長年被日本和美國專業(yè)公司壟斷,。目前**大廠商就占據(jù)了全球光刻膠市場87%的份額，行業(yè)集中度高,。并且高分辨率的KrF和ArF半導(dǎo)體光刻膠中心技術(shù)亦基本被日本和美國企業(yè)所壟斷,，產(chǎn)品絕大多數(shù)出自日本和美國公司。整個光刻膠市場格局來看,，日本是光刻膠行業(yè)的巨頭聚集地,。目前中國大陸對于電子材料，特別是光刻膠方面對國外依賴較高,。所以在半導(dǎo)體材料方面的國產(chǎn)代替是必然趨勢,。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所。福建光刻工藝

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是一家從事微納加工技術(shù)服務(wù)，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)研發(fā)、生產(chǎn),、銷售及售后的服務(wù)型企業(yè),。公司坐落在長興路363號，成立于2016-04-07,。公司通過創(chuàng)新型可持續(xù)發(fā)展為重心理念,，以客戶滿意為重要標(biāo)準(zhǔn)。在孜孜不倦的奮斗下,，公司產(chǎn)品業(yè)務(wù)越來越廣,。目前主要經(jīng)營有微納加工技術(shù)服務(wù)，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)等產(chǎn)品，并多次以電子元器件行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),、客戶需求定制多款多元化的產(chǎn)品,。芯辰實驗室,微納加工為用戶提供真誠,、貼心的售前,、售后服務(wù)，產(chǎn)品價格實惠,。公司秉承為社會做貢獻(xiàn),、為用戶做服務(wù)的經(jīng)營理念，致力向社會和用戶提供滿意的產(chǎn)品和服務(wù),。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所注重以人為本,、團(tuán)隊合作的企業(yè)文化，通過保證微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù),，紫外光刻技術(shù)服務(wù)，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)產(chǎn)品質(zhì)量合格,，以誠信經(jīng)營,、用戶至上、價格合理來服務(wù)客戶,。建立一切以客戶需求為前提的工作目標(biāo),，真誠歡迎新老客戶前來洽談業(yè)務(wù)。