高能脈沖磁控濺射技術(shù)是利用較高的脈沖峰值功率和較低的脈沖占空比來產(chǎn)生高濺射金屬離化率的一種磁控濺射技術(shù),。電源與等離子體淹沒離子注入沉積方法相結(jié)合,，形成一種新穎的成膜過程與質(zhì)量調(diào)控技術(shù),，是可應(yīng)用于大型矩形靶的離化率可控磁控濺射新技術(shù),，填補了國內(nèi)在該方向的研究空白,。將高能沖擊磁控濺射與高壓脈沖偏壓技術(shù)復(fù)合,，利用其高離化率和淹沒性的特點,，通過成膜過程中入射粒子能量與分布的有效操控,，實現(xiàn)高膜基結(jié)合力,、高質(zhì)量、高均勻性薄膜的制備,。同時結(jié)合全新的粒子能量與成膜過程反饋控制系統(tǒng),，開展高離化率等離子體發(fā)生,、等離子體的時空演變及荷能粒子成膜物理過程控制等方面的研究與工程應(yīng)用。其中心技術(shù)具有自主知識產(chǎn)權(quán),，已申請相關(guān)發(fā)明專利兩項,。該項技術(shù)對實現(xiàn)PVD沉積關(guān)鍵瓶頸問題的突破具有重大意義，有助于提升我國在表面工程加工領(lǐng)域的國際競爭力,。如在交通領(lǐng)域,，該技術(shù)用于汽車發(fā)動機三部件，可降低摩擦25%,，減少油耗3%,；機械加工領(lǐng)域，沉積先進(jìn)鍍層可使刀具壽命提高2～10倍,，加工速度提高30-70%,。脈沖磁控濺射可以有效地抑制電弧產(chǎn)生進(jìn)而消除由此產(chǎn)生的薄膜缺陷。安徽平衡磁控濺射鍍膜

真空磁控濺射技術(shù)是指一種利用陰極表面配合的磁場形成電子陷阱,，使在E×B的作用下電子緊貼陰極表面飄移,。設(shè)置一個與靶面電場正交的磁場，濺射時產(chǎn)生的快電子在正交的電磁場中作近似擺線運動,，增加了電子行程,，提高了氣體的離化率，同時高能量粒子與氣體碰撞后失去能量,，基體溫度較低,，在不耐溫材料上可以完成鍍膜。這種技術(shù)是玻璃膜技術(shù)中的較較好技術(shù),，是由航天工業(yè),、兵器工業(yè)、和核工業(yè)三個方面相結(jié)合的至好技術(shù)的民用化,，民用主要是通過這種技術(shù)達(dá)到節(jié)能,、環(huán)保等作用。湖南高溫磁控濺射方案磁控濺射技術(shù)得以普遍的應(yīng)用是由該技術(shù)有別于其它鍍膜方法的特點所決定的,。

磁控濺射又稱為高速低溫濺射,，在磁場約束及增強下的等離子體中的工作氣體離子，在靶陰極電場的加速下,，轟擊陰極材料,，使材料表面的原子或分子飛離靶面，穿越等離子體區(qū)以后在基片表面淀積,、遷移較終形成薄膜,。與二極濺射相比較，磁控濺射的沉積速率高,，基片升溫低,，膜層質(zhì)量好,，可重復(fù)性好，便于產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn),。它的發(fā)展引起了薄膜制備工藝的巨大變革,。磁控濺射源在結(jié)構(gòu)上必須具備兩個基本條件：(1)建立與電場垂直的磁場；(2)磁場方向與陰極表面平行,，并組成環(huán)形磁場,。

磁控濺射是一種基于等離子體的沉積過程，其中高能離子向目標(biāo)加速,。離子撞擊目標(biāo),，原子從表面噴射。這些原子向基板移動并結(jié)合到正在生長的薄膜中,。磁控濺射是一種涉及氣態(tài)等離子體的沉積技術(shù),，該等離子體產(chǎn)生并限制在包含要沉積的材料的空間內(nèi)。靶材表面被等離子體中的高能離子侵蝕,，釋放出的原子穿過真空環(huán)境并沉積到基板上形成薄膜,。在典型的濺射沉積工藝中，腔室首先被抽真空至高真空,，以較小化所有背景氣體和潛在污染物的分壓,。達(dá)到基本壓力后，包含等離子體的濺射氣體流入腔室,，并使用壓力控制系統(tǒng)調(diào)節(jié)總壓力-通常在毫托范圍內(nèi),。磁控濺射技術(shù)在光學(xué)薄膜,、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等方面也得到應(yīng)用,。

用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便,。這是因為靶,，等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體,，則回路斷了,。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容,，這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容,。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小,，同時接地技術(shù)很復(fù)雜,，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題,，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射,。就是用金屬靶,，加入氬氣和反應(yīng)氣體如氮氣或氧氣。當(dāng)金屬靶材撞向零件時由于能量轉(zhuǎn)化,，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物,。磁控濺射可以分為直流(DC)磁控濺射、中頻(MF)磁控濺射,、射頻(RF)磁控濺射,。安徽磁控濺射分類

磁控濺射的原理是電子在電場的作用下，在飛向基材過程中與氬原子發(fā)生碰撞,，電離出氬正離子和新的電子,。安徽平衡磁控濺射鍍膜

磁控濺射鍍膜常見領(lǐng)域應(yīng)用：1、一些不適合化學(xué)氣相沉積的材料可以通過磁控濺射沉積,，這種方法可以獲得均勻的大面積薄膜,。2、機械工業(yè),。如表面功能膜,、超硬膜、自潤滑膜等,。這些膜能有效提高表面硬度,、復(fù)合韌性、耐磨性和高溫化學(xué)穩(wěn)定性,，從而大幅度提高產(chǎn)品的使用壽命,。3、光領(lǐng)域,。閉場非平衡磁控濺射技術(shù)也已應(yīng)用于光學(xué)薄膜,、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃，特別是,，透明導(dǎo)電玻璃普遍應(yīng)用于平板顯示器件,、太陽能電池、微波和射頻屏蔽器件和器件,、傳感器等,。安徽平衡磁控濺射鍍膜