磁控濺射是在陰極靶的表面上方形成一個(gè)正交電磁場(chǎng),，當(dāng)濺射產(chǎn)生的二次電子在陰極位降區(qū)內(nèi)被加速為高能電子后,，并不直接飛向陽極,，而是在正交電磁場(chǎng)作用下作來回振蕩的近似擺線的運(yùn)動(dòng),。高能電子不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并向后者轉(zhuǎn)移能量，使之電離而本身變成低能電子,。這些低能電子較終沿磁力線漂移到陰極附近的陽極而被吸收,，避免高能電子對(duì)極板的強(qiáng)烈轟擊，消除了二極濺射中極板被轟擊加熱和被電子輻照引起的損傷,，體現(xiàn)出磁控濺射中極板“低溫”的特點(diǎn),。由于外加磁場(chǎng)的存在，電子的復(fù)雜運(yùn)動(dòng)增加了電離率,，實(shí)現(xiàn)了高速濺射,。磁控濺射的技術(shù)特點(diǎn)是要在陰極靶面附件產(chǎn)生與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng)，一般采用永久磁鐵實(shí)現(xiàn),。磁控濺射的原理是：靶材背面加上強(qiáng)磁體，形成磁場(chǎng),。河南真空磁控濺射鍍膜

磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,，在陰極和陽極之間施加幾百K直流電壓,，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，使氬氣發(fā)生電離,。磁控濺射法優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)：較常用的制備磁性薄膜的方法是磁控濺射法,。氬離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜,。通過更換不同材質(zhì)的靶和控制不同的濺射時(shí)間,，便可以獲得不同材質(zhì)和不同厚度的薄膜。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結(jié)合力強(qiáng),、鍍膜層致密,、均勻等優(yōu)點(diǎn)。安徽雙靶磁控濺射流程磁控濺射是在外加電場(chǎng)的兩極之間引入一個(gè)磁場(chǎng),。

磁控濺射方法可用于制備多種材料,，如金屬、半導(dǎo)體,、絕緣子等,。它具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制,、涂覆面積大,、附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。磁控濺射發(fā)展至今,，除了上述一般濺射方法的優(yōu)點(diǎn)外,，還實(shí)現(xiàn)了高速、低溫,、低損傷,。磁控濺射鍍膜常見領(lǐng)域應(yīng)用：1、各種功能薄膜,。如具有吸收,、透射、反射,、折射,、偏振等功能。例如,，在低溫下沉積氮化硅減反射膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率,。2、微電子,?？勺鳛榉菬徨兡ぜ夹g(shù)，主要用于化學(xué)氣相沉積。3,、裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用：如各種全反射膜和半透明膜,；比如手機(jī)殼、鼠標(biāo)等,。

濺射技術(shù)是指使得具有一定能量的粒子轟擊材料表面,，使得固體材料表面的原子或分子分離，飛濺落于另一物體表面形成鍍膜的技術(shù),。被粒子轟擊的材料稱為靶材,，而被鍍膜的固體材料稱為基片。首先由極板發(fā)射出粒子,，這些粒子一般是電子,，接著使它們?cè)谕怆妶?chǎng)加速下與惰性氣體分子一般是氬氣分子（即Ar原子）碰撞，使得其電離成Ar離子和二次電子,。Ar離子會(huì)受到電場(chǎng)的作用,，以高速轟擊靶材，使靶材表面原子或分子飛濺出去,，落于基片表面沉積下來形成薄膜,。磁控濺射適用于制備大面積均勻薄膜，并能實(shí)現(xiàn)單機(jī)年產(chǎn)上百萬平方米鍍膜的工業(yè)化生產(chǎn),。

磁控直流濺射法要求靶材能夠?qū)碾x子轟擊過程中得到的正電荷傳遞給與其緊密接觸的陰極,，從而該方法只能濺射導(dǎo)體材料，不適于絕緣材料,。因?yàn)檗Z擊絕緣靶材時(shí),，表面的離子電荷無法中和，這將導(dǎo)致靶面電位升高,，外加電壓幾乎都加在靶上,，兩極間的離子加速與電離的機(jī)會(huì)將變小，甚至不能電離,，導(dǎo)致不能連續(xù)放電甚至放電停止,，濺射停止。故對(duì)于絕緣靶材或?qū)щ娦院懿畹姆墙饘侔胁?，須用射頻濺射法,。濺射過程中涉及到復(fù)雜的散射過程和多種能量傳遞過程：入射粒子與靶材原子發(fā)生彈性碰撞，入射粒子的一部分動(dòng)能會(huì)傳給靶材原子,；某些靶材原子的動(dòng)能超過由其周圍存在的其它原子所形成的勢(shì)壘（對(duì)于金屬是5-10eV）,，從而從晶格點(diǎn)陣中被碰撞出來，產(chǎn)生離位原子,；這些離位原子進(jìn)一步和附近的原子依次反復(fù)碰撞,，產(chǎn)生碰撞級(jí)聯(lián),；當(dāng)這種碰撞級(jí)聯(lián)到達(dá)靶材表面時(shí)，如果靠近靶材表面的原子的動(dòng)能大于表面結(jié)合能（對(duì)于金屬是1-6eV）,，這些原子就會(huì)從靶材表面脫離從而進(jìn)入真空,。磁控濺射鍍膜的應(yīng)用領(lǐng)域：高級(jí)產(chǎn)品零/部件表面的裝飾鍍中的應(yīng)用,。海南直流磁控濺射鍍膜

磁控濺射鍍膜產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)：幾乎所有材料都可以通過磁控濺射沉積,，而不論其熔化溫度如何。河南真空磁控濺射鍍膜

磁控濺射設(shè)備的主要用途有哪些呢,？1,、被應(yīng)用于裝飾領(lǐng)域，被制成全反射及半透明膜,，比如我們常用常換常買的手機(jī)殼,，沒想到吧；2,、被應(yīng)用于機(jī)械加工行業(yè)中提高涂層產(chǎn)品的壽命壽命,。因?yàn)闉R射磁控鍍膜能夠有效提高表面硬度、韌性,、耐磨抗損以及耐化學(xué)侵蝕,、耐高溫，從而達(dá)到提高產(chǎn)品壽命的作用,；3,、被應(yīng)用于微電子領(lǐng)域。在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù),，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積（CVD）或金屬有機(jī),；4、被應(yīng)用于在高溫超導(dǎo)薄膜,、鐵電體薄膜,、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池等方面的研究,，發(fā)揮了非常重大且重要的作用,。河南真空磁控濺射鍍膜