真空鍍膜的方法：離子鍍：總體來說比較常用的有:直流放電二極型、多陰極型,、活性反應(yīng)蒸鍍(ARE),、空心陰極放電離子鍍(HCD)、射頻放電離子鍍(RFIP),、增強(qiáng)的ARE型,、低壓等離子型離子鍍(LP-PD)、電場蒸發(fā),、感應(yīng)加熱離子鍍,、多弧離子鍍、電弧放電型高真空離子鍍,、離化團(tuán)束鍍等,。由于離子鍍膜層具有非常優(yōu)良的性能,所以越來越受到人們的重視,特別是離子鍍TiN、TiC在工具,、模具的超硬鍍膜,、裝飾鍍膜等領(lǐng)域的應(yīng)用越來越普遍,并將占據(jù)越來越重要的地位。在鐘表行業(yè),因為鈦無毒無污染,與人體皮膚接觸,不會引起過敏等不良反應(yīng),在表帶上沉積一層鈦膜還能起到表面裝飾的作用,可以做成金黃,、黑色,、灰色、紅棕色,、橙色等很多種顏色,增加美觀效果,。真空鍍膜的鍍層質(zhì)量好。山東真空鍍膜加工廠商

影響靶中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例,，反應(yīng)氣體過量就會導(dǎo)致靶中毒,。反應(yīng)濺射工藝進(jìn)行過程中靶表面濺射區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應(yīng)生成物覆蓋或反應(yīng)生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長的過程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率，化合物覆蓋面積增加,。在一定功率的情況下,，參與化合物生成的反應(yīng)氣體量增加，化合物生成率增加,。如果反應(yīng)氣體量增加過度,，化合物覆蓋面積增加，如果不能及時調(diào)整反應(yīng)氣體流量,，化合物覆蓋面積增加的速率得不到抑制,，濺射溝道將進(jìn)一步被化合物覆蓋，當(dāng)濺射靶被化合物全部覆蓋的時候,，靶完全中毒,，不能繼續(xù)濺射山東真空鍍膜加工廠商真空鍍膜的操作規(guī)程：酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行，并要戴橡皮手套,。

真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類,，即物理的氣相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)。物理的氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下,，利用各種物理方法,，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,，直接沉積到基體表面上的方法,。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理的氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程,，如物質(zhì)的熱蒸發(fā),，或受到離子轟擊時物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程,。物理的氣相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好,、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好,、應(yīng)用的靶材普遍,、濺射范圍寬、可沉積厚膜,、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn),。

磁控濺射的工作原理是指電子在外加電場的作用下，在飛向襯底過程中與氬原子發(fā)生碰撞,，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子,；新電子飛向襯底，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,，并以高能量轟擊靶表面,，使靶材發(fā)生濺射,。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,，而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用,，被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，以近似擺線形式在靶表面做圓周運(yùn)動,，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現(xiàn)了高的沉積速率,。隨著碰撞次數(shù)的增加,，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠(yuǎn)離靶表面,，并在電場的作用下沉積在襯底上,。由于該電子的能量很低，傳遞給襯底的能量很小,，致使襯底溫升較低,。真空鍍膜機(jī)大功率脈沖磁控濺射技術(shù)的脈沖峰值功率是普通磁控濺射的100倍，在1000~3000W/cm2范圍,。

電子束蒸發(fā)蒸鍍?nèi)珂u(W）,、鉬（Mo）等高熔點(diǎn)材料，需要在坩堝的結(jié)構(gòu)上做一定的改進(jìn),，以提高鍍膜的效率,。高熔點(diǎn)的材料采用錠或者顆粒狀放在坩堝當(dāng)中，因為水冷坩堝導(dǎo)熱過快,，材料難以達(dá)到其蒸發(fā)的溫度,。經(jīng)過實驗的驗證，蒸發(fā)高熔點(diǎn)的材料可以用薄片來蒸鍍,，將1mm材料薄片架空于碳坩堝上沿,，薄片只能通過坩堝邊沿來導(dǎo)熱，散熱速率慢,，有利于達(dá)到材料蒸發(fā)的熔點(diǎn),。經(jīng)驗證，采用此種方式鍍膜,，薄膜均勻性良好,，采用此方法可滿足蒸鍍50nm以下的材料薄膜。真空鍍膜是一種比較理想的薄膜制備方法,。江西真空鍍膜加工

真空鍍膜在鋼材,、鎳、鈾,、金剛石表面鍍鈦金屬薄膜,提高了鋼材,、鈾,、金剛石等材料的耐腐蝕性能。山東真空鍍膜加工廠商

常用的薄膜制備方式主要有兩種,，其中一種是物理法氣相沉積（PVD）,，PVD的方法有磁控濺射鍍膜、電子束蒸發(fā)鍍膜,、熱阻蒸發(fā)等,。另一種是化學(xué)法氣相沉積（CVD），主要有常壓CVD,、LPCVD（低壓沉積法）,、PECVD（等離子體增強(qiáng)沉積法）等方法。真空鍍膜的工藝流程：真空鍍膜的工藝流程一般依次為：前處理及化學(xué)清洗（材料進(jìn)行有機(jī)清洗和無機(jī)清洗）→襯底真空中烘烤加熱→等離子體清洗→金屬離子轟擊→鍍金屬過渡層→鍍膜（通入反應(yīng)氣體）,。山東真空鍍膜加工廠商