真空鍍膜的方法很多,，計(jì)有：真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13,。3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面,，凝結(jié)而成薄膜。陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面,，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi),，保持壓強(qiáng)約1。33～13,。3Pa,，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電,，帶正電的氬離子撞擊陰極,，使其射出原子，濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基體上形成膜,?；瘜W(xué)氣相沉積：通過(guò)熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過(guò)程,。離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合,，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合,。茂名真空鍍膜儀

真空鍍膜：物理的氣相沉積技術(shù)工藝過(guò)程簡(jiǎn)單,，對(duì)環(huán)境改善,，無(wú)污染,，耗材少,，成膜均勻致密，與基體的結(jié)合力強(qiáng),。該技術(shù)普遍應(yīng)用于航空航天,、電子、光學(xué),、機(jī)械,、建筑、輕工,、冶金,、材料等領(lǐng)域，可制備具有耐磨,、耐腐蝕,、裝飾、導(dǎo)電,、絕緣,、光導(dǎo)、壓電,、磁性,、潤(rùn)滑、超導(dǎo)等特性的膜層,。隨著高科技及新興工業(yè)發(fā)展,，物理的氣相沉積技術(shù)出現(xiàn)了不少新的先進(jìn)的亮點(diǎn)，如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術(shù),，大型矩形長(zhǎng)弧靶和濺射靶,，非平衡磁控濺射靶，孿生靶技術(shù),，帶狀泡沫多弧沉積卷繞鍍層技術(shù),，條狀纖維織物卷繞鍍層技術(shù)等，使用的鍍層成套設(shè)備,，向計(jì)算機(jī)全自動(dòng),，大型化工業(yè)規(guī)模方向發(fā)展。ITO鍍膜真空鍍膜技術(shù)真空鍍膜機(jī),、真空鍍膜設(shè)備爐門采用懸垂吊掛式平移結(jié)構(gòu),，便于爐外料車與爐內(nèi)輥軸的對(duì)接傳遞，減少占地空間,。

電子束蒸發(fā)可以蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料,，比一般電阻加熱蒸發(fā)熱效率高,、 束流密度大、蒸發(fā)速度快,，制成的薄膜純度高,、質(zhì)量好，通過(guò)晶振控制,，厚度可以較準(zhǔn)確地控制,，可以廣泛應(yīng)用于制備高純薄膜和各種光學(xué)材料薄膜。電子束蒸發(fā)的金屬粒子只能考自身能量附著在襯底表面,，臺(tái)階覆蓋性比較差,，如果需要追求臺(tái)階覆蓋性和薄膜粘附力，建議使用磁控濺射,。在蒸發(fā)溫度以上進(jìn)行蒸發(fā)試,，蒸發(fā)源溫度的微小變化即可引起蒸發(fā)速率發(fā)生很大變化。因此,，在鍍膜過(guò)程中,，想要控制蒸發(fā)速率，必須精確控制蒸發(fā)源的溫度,，加熱時(shí)應(yīng)盡量避免產(chǎn)生過(guò)大的溫度梯度,。蒸發(fā)速率正比于材料的飽和蒸氣壓，溫度變化10%左右,，飽和蒸氣壓就要變化一個(gè)數(shù)量級(jí)左右,。

使用磁控濺射法沉積硅薄膜,通過(guò)優(yōu)化薄膜沉積的工藝參數(shù)(包括本地真空、濺射功率,、濺射氣壓等）,以期用濺射法終后制備出高質(zhì)量的器件級(jí)硅薄膜提供科學(xué)數(shù)據(jù),。磁控濺射法是一種簡(jiǎn)單、低溫,、快速的成膜技術(shù),能夠不使用有毒氣體和可燃性氣體進(jìn)行摻雜和成膜,直接用摻雜靶材濺射沉積,此法節(jié)能,、高效、環(huán)保,?？赏ㄟ^(guò)對(duì)氫含量和材料結(jié)構(gòu)的控制實(shí)現(xiàn)硅薄膜帶隙和性能的調(diào)節(jié)。與其它技術(shù)相比,磁控濺射法優(yōu)勢(shì)是它的沉積速率快,具有誘人的成膜效率和經(jīng)濟(jì)效益,，實(shí)驗(yàn)簡(jiǎn)單方便,。化學(xué)氣相沉積是真空鍍膜技術(shù)的一種,。

基片溫度對(duì)薄膜結(jié)構(gòu)有較大影響,，基片溫度高，使吸附原子的動(dòng)能增大,，跨越表面勢(shì)壘的幾率增多,，容易結(jié)晶化,，并使薄膜缺陷減少，同時(shí)薄膜內(nèi)應(yīng)力也會(huì)減少,，基片溫度低,，則易形成無(wú)定形結(jié)構(gòu)膜。 材料飽和蒸汽壓隨溫度的上升而迅速增大,，所以實(shí)驗(yàn)時(shí)必須控制好蒸發(fā)源溫度,。蒸發(fā)鍍膜常用的加熱方法時(shí)電阻大電流加熱,，采用鎢,，鉬，鉑等高熔點(diǎn)的金屬,。真空鍍膜時(shí),，飛抵基片的氣化原子或分子，一部分被反射,，一部分被蒸發(fā)離開(kāi),，剩下的要么結(jié)合在一起，再捕獲其他原子或分子,，使得自己增大,；或者單個(gè)原子或分子在基片上自由擴(kuò)散，逐漸生長(zhǎng),，覆蓋整個(gè)基片,，形成鍍膜。注意的是基片的清潔度和完整性將影響到鍍膜的形成速率和質(zhì)量真空鍍膜機(jī)新型表面功能覆層技術(shù),，其特點(diǎn)是保持基體材料固有的特征,，又賦予表面化所要求的各種性能.廣州真空鍍膜工藝

真空鍍膜機(jī)大功率脈沖磁控濺射技術(shù)的脈沖峰值功率是普通磁控濺射的100倍，在1000~3000W/cm2范圍,。茂名真空鍍膜儀

真空鍍膜：技術(shù)優(yōu)點(diǎn)：鍍層質(zhì)量好：離子鍍的鍍層組織致密,、無(wú)小孔、無(wú)氣泡,、厚度均勻,。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復(fù)，不致形成金屬瘤,。象螺紋一類的零件也能鍍復(fù),，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）,、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn),，膜層的壽命更長(zhǎng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能,。清洗過(guò)程簡(jiǎn)化：現(xiàn)有鍍膜工藝,，多數(shù)均要求事先對(duì)工件進(jìn)行嚴(yán)格清洗,，既復(fù)雜又費(fèi)事。然而,，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用,，并且這一作用還一直延續(xù)于整個(gè)鍍膜過(guò)程。清洗效果極好,，能使鍍層直接貼近基體,，有效地增強(qiáng)了附著力，簡(jiǎn)化了大量的鍍前清洗工作,。茂名真空鍍膜儀