真空鍍膜技術(shù)：物理的氣相沉積技術(shù)由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下,，因此可作為較終的處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上,。采用物理的氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能,，人們在競相開發(fā)高性能、高可靠性設(shè)備的同時,，也對其應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展,，尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的應(yīng)用進(jìn)行了更加深入的研究,?；瘜W(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng),，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法,，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學(xué)氣相沉積等,。真空鍍膜是在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上,。叉指電極真空鍍膜

電子束蒸發(fā)與熱蒸發(fā)的區(qū)別在于：電子束蒸發(fā)是用一束電子轟擊物體,，產(chǎn)生高能量進(jìn)行蒸發(fā)， 熱蒸發(fā)通過加熱完成這一過程,。與熱蒸發(fā)相比,，電子束蒸發(fā)提供了高能量；但將薄膜的厚度控制在 5nm 量級將是困難的,。在這種情況下,，帶有厚度監(jiān)控器的良好熱蒸發(fā)器將更合適。 與熱蒸發(fā)相比,，電子束蒸發(fā)具有許多優(yōu)點 1,、電子束蒸發(fā)可以將材料加熱到比熱蒸發(fā)更高的溫度。這允許高溫材料和難熔金屬（例如鎢,、鉭或石墨）的非常高的沉積速率和蒸發(fā),。 2、電子束蒸發(fā)可以沉積更薄,、純度更高的薄膜,。坩堝的水冷將電子束加熱嚴(yán)格限制在由源材料占據(jù)的區(qū)域，從而消除了相鄰組件的任何不必要的污染,。 3,、電子束蒸發(fā)源有各種尺寸和配置，包括單腔或多腔,。江門真空鍍膜涂料真空鍍膜在真空條件下制備薄膜,，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染,。

真空鍍膜：物理的氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下采用物理方法將材料源（固體或液體）表面氣化成氣態(tài)原子或分子,，或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程,，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù),，物理的氣相沉積是主要的表面處理技術(shù)之一。PVD(物理的氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類：真空蒸發(fā)鍍膜,、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜,。物理的氣相沉積的主要方法有：真空蒸鍍、濺射鍍膜,、電弧等離子體鍍,、離子鍍膜和分子束外延等。相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備包括真空蒸發(fā)鍍膜機(jī),、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī),。

真空鍍膜：離子鍍膜法：目前比較常用的組合方式有：射頻離子鍍(RFIP)。利用電阻或電子束加熱使膜材氣化,；依靠射頻等離子體放電使充入的真空Ar及其它惰性氣體,、反應(yīng)氣體氧氣,、氮氣、乙炔等離化,。這種方法的特點是：基板溫升小,，不純氣體少，成膜好,，適合鍍化合物膜,，但匹配較困難?？蓱?yīng)用于鍍光學(xué)器件,、半導(dǎo)體器件、裝飾品,、汽車零件等,。此外，離子鍍法還包括有低壓等離子體離子鍍,，感應(yīng)離子加熱鍍,，集團(tuán)離子束鍍和多弧離子鍍等多種方法。真空鍍膜的操作規(guī)程：工作完畢應(yīng)斷電,、斷水,。

真空鍍膜：反應(yīng)磁控濺射法：反應(yīng)磁控濺射沉積過程中基板溫度一般不會有很大的升高，而且成膜過程通常也并不要求對基板進(jìn)行很高溫度的加熱,，因此對基板材料的限制較少,。反應(yīng)磁控濺射適于制備大面積均勻薄膜，并能實現(xiàn)單機(jī)年產(chǎn)上百萬平方米鍍膜的工業(yè)化生產(chǎn),。但是反應(yīng)磁控濺射在20世紀(jì)90年代之前,，通常使用直流濺射電源，因此帶來了一些問題,，主要是靶中毒引起的打火和濺射過程不穩(wěn)定,，沉積速率較低,，膜的缺陷密度較高,，這些都限制了它的應(yīng)用發(fā)展。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下,，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面,。寶雞小家電真空鍍膜

物理的氣相沉積技術(shù)是真空鍍膜技術(shù)的一種。叉指電極真空鍍膜

真空鍍膜：濺射鍍膜：濺射鍍膜是指在真空條件下,，利用獲得功能的粒子（如氬離子）轟擊靶材料表面,，使靶材表面原子獲得足夠的能量而逃逸的過程稱為濺射。在真空條件下充入氬氣(Ar),，并在高電壓下使氬氣進(jìn)行輝光放電,，可使氬(Ar)原子電離成氬離子(Ar+),。氬離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材,，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面,。被濺射的靶材沉積到基材表面，就稱作濺射鍍膜,。濺射鍍膜中的入射離子,，一般采用輝光放電獲得，在10-2Pa～10Pa范圍,。叉指電極真空鍍膜