真空鍍膜：在真空中制備膜層,，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體,、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜,。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜,。真空鍍膜有三種形式,，即蒸發(fā)鍍膜,、濺射鍍膜和離子鍍,。真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用,，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀80年代,，在電子,、宇航、包裝,、裝潢,、燙金印刷等工業(yè)中取得普遍的應(yīng)用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下,，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬材料）,，屬于物理的氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜,，故也稱真空金屬化,。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍,、離子鍍,、束流沉積鍍以及分子束外延等,。深圳來料真空鍍膜

在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場,，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域來增強電離效率,，增加離子密度和能量,，從而實現(xiàn)高速率濺射的過程。隨著碰撞次數(shù)的增加,，二次電子的能量消耗殆盡,，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下沉積在基片上,。由于該電子的能量很低,，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低,。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程,。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過程，和靶原子碰撞,，把部分動量傳給靶原子,，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯(lián)過程,。在這種級聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量,，離開靶被濺射出來。寧波真空鍍膜工藝流程多弧離子真空鍍膜機鍍膜膜層不易脫落,。

真空鍍膜的方法：濺射鍍膜：在射頻電壓下,利用電子和離子運動特征的不同,在靶表面感應(yīng)出負的直流脈沖,從而產(chǎn)生濺射的射頻濺射,。這種技術(shù)Z早由1965年IBM公司研制,對絕緣體也可以濺射鍍膜。為了在更高的真空范圍內(nèi)提高濺射沉積速率,不是利用導(dǎo)入是氬氣,而是通過部分被濺射的原子(如Cu)自身變成離子,對靶產(chǎn)生濺射實現(xiàn)鍍膜的自濺射鍍膜技術(shù),。在高真空下,利用離子源發(fā)出的離子束對靶濺射,實現(xiàn)薄膜沉積的離子束濺射,。其中由二極濺射發(fā)展而來的磁控濺射技術(shù),解決了二極濺射鍍膜速度比蒸鍍慢得多,、等離子體的離化率低和基片的熱效應(yīng)等明顯問題。磁控濺射是現(xiàn)在用于鈦膜材料的制備Z為普遍的一種真空等離子體技術(shù),實現(xiàn)了在低溫,、低損傷的條件下高速沉積,。自2001年以來,廣大的科技研究者致力于這方面的研究,成果顯著。

磁控濺射一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面,，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。磁控濺射主要利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜,。濺鍍薄膜的性質(zhì),、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢比較多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率,。真空鍍膜機的優(yōu)點:具有較佳的金屬光澤,，光反射率可達97%。

真空鍍膜：離子鍍膜法：目前比較常用的組合方式有：直流二極型(DCIP),。利用電阻或電子束加熱使膜材氣化,；被鍍基體作為陰極，利用高電壓直流輝光放電將充入的氣體氬(Ar)(也可充少量反應(yīng)氣體)離化,。這種方法的特點是：基板溫升大,、繞射性好、附著性好,，膜結(jié)構(gòu)及形貌差,，若用電子束加熱必須用差壓板；可用于鍍耐腐蝕潤滑機械制品,。多陰極型,。利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；依靠熱電子,、陰極發(fā)射的電子及輝光放電使充入的真空惰性氣體或反應(yīng)氣體離化,。這種方法的特點是：基板溫升小，有時需要對基板加熱,；可用于鍍精密機械制品,、電子器件裝飾品。真空鍍膜技術(shù)有真空離子鍍膜,。莆田真空鍍膜機

真空鍍膜的鍍層質(zhì)量好,。深圳來料真空鍍膜

電子束蒸發(fā)是目前真空鍍膜技術(shù)中一種成熟且主要的鍍膜方法，它解決了電阻加熱方式中鎢舟材料與蒸鍍源材料直接接觸容易互混的問題,。同時在同一蒸發(fā)沉積裝置中可以安置多個坩堝,，實現(xiàn)同時或分別蒸發(fā)，沉積多種不同的物質(zhì)。通過電子束蒸發(fā),，任何材料都可以被蒸發(fā),，不同材料需要采用不同類型的坩堝以獲得所要達到的蒸發(fā)速率。在高真空下,，電子燈絲加熱后發(fā)射熱電子,，被加速陽極加速，獲得很大的動能轟擊到的蒸發(fā)材料上,，把動能轉(zhuǎn)化成熱使蒸發(fā)材料加熱氣化,，而實現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜。電子束蒸發(fā)源由發(fā)射電子的熱陰極,、電子加速極和作為陽極的鍍膜材料組成,。電子束蒸發(fā)源的能量可高度集中，使鍍膜材料局部達到高溫而蒸發(fā),。通過調(diào)節(jié)電子束的功率,，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率，特別是有利于高熔點以及高純金屬和化合物材料,。深圳來料真空鍍膜