真空鍍膜：真空蒸鍍基本工藝鍍前處理：包括清洗鍍件和預(yù)處理。具體清洗方法有清洗劑清洗,、化學(xué)溶劑清洗,、超聲波清洗和離子轟擊清洗等。具體預(yù)處理有除靜電,，涂底漆等,。裝爐：包括真空室清理及鍍件掛具的清洗，蒸發(fā)源安裝,、調(diào)試,、鍍件褂卡。抽真空：一般先粗抽至6,。6Pa以上,，更早打開擴(kuò)散泵的前級(jí)維持真空泵，加熱擴(kuò)散泵,。待預(yù)熱足夠后，打開高閥,，用擴(kuò)散泵抽至6×10-3Pa半底真空度,。烘烤：將鍍件烘烤加熱到所需溫度。離子轟擊：真空度一般在10Pa～10-1Pa,，離子轟擊電壓200V～1kV負(fù)高壓,，離擊時(shí)間為5min～30min,預(yù)熔：調(diào)整電流使鍍料預(yù)熔，除氣1min～2min,。蒸發(fā)沉積：根據(jù)要求調(diào)整蒸發(fā)電流,，直到所需沉積時(shí)間結(jié)束。冷卻：鍍件在真空室內(nèi)冷卻到一定溫度。出爐：取件后,，關(guān)閉真空室,，抽真空至1×10-1Pa，擴(kuò)散泵冷卻到允許溫度,，才可關(guān)閉維持泵和冷卻水,。后處理：涂面漆等。真空鍍膜機(jī)壓鑄技術(shù)用于生產(chǎn)鋁,、鎂,、鋅、銅基合金鑄件,，在機(jī)械制造行業(yè)應(yīng)用已有多年的歷史,。遼寧UV光固化真空鍍膜

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬,、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法,。例如，真空鍍鋁,、真空鍍鉻等,。真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),，利用物理或化學(xué)方法,，并吸收電子束、分子束,、離子束,、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝,。簡(jiǎn)單地說，在真空中把金屬,、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射,，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法,，稱為真空鍍膜,。德陽真空鍍膜機(jī)真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為較具發(fā)展前途的重要技術(shù)之一，并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場(chǎng)前景,。

廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜,。在所有被鍍材料中，以塑料較為常見,，其次,，為紙張鍍膜,。相對(duì)于金屬、陶瓷,、木材等材料,，塑料具有來源充足、性能易于調(diào)控,、加工方便等優(yōu)勢(shì),，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料，大量應(yīng)用于汽車,、家電,、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領(lǐng)域,。但塑料材料大多存在表面硬度不高,、外觀不夠華麗、耐磨性低等缺陷,，如在塑料表面蒸鍍一層極薄的金屬薄膜,，即可賦予塑料程亮的金屬外觀，合適的金屬源還可增加材料表面耐磨性能,，拓寬了塑料的裝飾性和應(yīng)用范圍,。

真空鍍膜：反應(yīng)磁控濺射法：反應(yīng)磁控濺射沉積過程中基板溫度一般不會(huì)有很大的升高，而且成膜過程通常也并不要求對(duì)基板進(jìn)行很高溫度的加熱,，因此對(duì)基板材料的限制較少,。反應(yīng)磁控濺射適于制備大面積均勻薄膜，并能實(shí)現(xiàn)單機(jī)年產(chǎn)上百萬平方米鍍膜的工業(yè)化生產(chǎn),。但是反應(yīng)磁控濺射在20世紀(jì)90年代之前,，通常使用直流濺射電源，因此帶來了一些問題,，主要是靶中毒引起的打火和濺射過程不穩(wěn)定,，沉積速率較低，膜的缺陷密度較高,，這些都限制了它的應(yīng)用發(fā)展,。真空鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn):具有較佳的金屬光澤，光反射率可達(dá)97%,。

真空鍍膜：離子鍍膜法：離子鍍膜技術(shù)是在真空條件下,，應(yīng)用氣體放電實(shí)現(xiàn)鍍膜的，即在真空室中使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)電離,，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下、同時(shí)將蒸發(fā)物或其反應(yīng)產(chǎn)物蒸鍍?cè)诨?。根?jù)不同膜材的氣化方式和離化方式可分為不同類型的離子鍍膜方式,。膜材的氣化方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱,、高頻感應(yīng)加熱,、陰極弧光放電加熱等。氣體分子或原子的離化和啟動(dòng)方式有：輝光放電型,、電子束型,、熱電子型、等離子電子束型,、多弧型及高真空電弧放電型,，以及各種形式的離子源等。不同的蒸發(fā)源與不同的電離或激發(fā)方式可以有多種不同的組合,。目前比較常用的組合方式有：真空鍍膜的操作規(guī)程：在用電子頭鍍膜時(shí),，應(yīng)在鐘罩周圍上鋁板。UV真空鍍膜儀

在建筑和汽車玻璃上使用真空電鍍?cè)O(shè)備技術(shù),，鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧,、防露和自清潔玻璃。遼寧UV光固化真空鍍膜

真空鍍膜：磁控濺射法：濺射鍍膜較初出現(xiàn)的是簡(jiǎn)單的直流二極濺射,，它的優(yōu)點(diǎn)是裝置簡(jiǎn)單,，但是直流二極濺射沉積速率低；為了保持自持放電,，不能在低氣壓(<0,。1Pa)下進(jìn)行；不能濺射絕緣材料等缺點(diǎn)限制了其應(yīng)用,。磁控濺射是由二極濺射基礎(chǔ)上發(fā)展而來,，在靶材表面建立與電場(chǎng)正交磁場(chǎng)，解決了二極濺射沉積速率低,，等離子體離化率低等問題,，成為目前鍍膜工業(yè)主要方法之一。磁控濺射與其它鍍膜技術(shù)相比具有如下特點(diǎn)：可制備成靶的材料廣,，幾乎所有金屬,，合金和陶瓷材料都可以制成靶材；在適當(dāng)條件下多元靶材共濺射方式,，可沉積配比精確恒定的合金,；在濺射的放電氣氛中加入氧、氮或其它活性氣體,，可沉積形成靶材物質(zhì)與氣體分子的化合物薄膜,；通過精確地控制濺射鍍膜過程，容易獲得均勻的高精度的膜厚,；通過離子濺射靶材料物質(zhì)由固態(tài)直接轉(zhuǎn)變?yōu)榈入x子態(tài),，濺射靶的安裝不受限制,，適合于大容積鍍膜室多靶布置設(shè)計(jì)；濺射鍍膜速度快,，膜層致密,，附著性好等特點(diǎn)，很適合于大批量,，高效率工業(yè)生產(chǎn),。近年來磁控濺射技術(shù)發(fā)展很快，具有代表性的方法有射頻濺射,、反應(yīng)磁控濺射,、非平衡磁控濺射、脈沖磁控濺射,、高速濺射等,。遼寧UV光固化真空鍍膜