磁控濺射的基本原理是利用Ar一O2混合氣體中的等離子體在電場和交變磁場的作用下，被加速的高能粒子轟擊靶材表面,，能量交換后,，靶材表面的原子脫離原晶格而逸出，轉(zhuǎn)移到基體表面而成膜,。磁控濺射的特點(diǎn)是成膜速率高,，基片溫度低，膜的粘附性好,，可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜,。該技術(shù)可以分為直流磁控濺射法和射頻磁控濺射法。磁控濺射設(shè)備一般根據(jù)所采用的電源的不同又可分為直流濺射和射頻濺射兩種,。直流磁控濺射的特點(diǎn)是在陽極基片和陰極靶之間加一個(gè)直流電壓,，陽離子在電場的作用下轟擊靶材，它的濺射速率一般都比較大,。但是直流濺射一般只能用于金屬靶材,，因?yàn)槿绻墙^緣體靶材，則由于陽粒子在靶表面積累,，造成所謂的“靶中毒”,，濺射率越來越低。磁控濺射所利用的環(huán)狀磁場迫使二次電子跳欄式地沿著環(huán)狀磁場轉(zhuǎn)圈,。廣州單靶磁控濺射設(shè)備

磁控濺射的優(yōu)點(diǎn)：（1）基板有低溫性,。相對于二級濺射和熱蒸發(fā)來說，磁控濺射加熱少,。（2）有很高的沉積率,。可濺射鎢,、鋁薄膜和反應(yīng)濺射TiO2,、ZrO2薄膜（3）環(huán)保工藝。磁控濺射鍍膜法生產(chǎn)效率高,，沒有環(huán)境污染,。（4）涂層很好的牢固性，濺射薄膜與基板，機(jī)械強(qiáng)度得到了改善,，更好的附著力,。（5）操作容易控制。鍍膜過程,，只要保持壓強(qiáng),、電功率濺射條件穩(wěn)定，就能獲得比較穩(wěn)定的沉積速率,。（6）成膜均勻,。濺射的薄膜密度普遍提高。（7）濺射的金屬膜通常能獲得良好的光學(xué)性能,、電學(xué)性能及某些特殊性能,。（8）濺射可連續(xù)工作，鍍膜過程容易自動控制,，工業(yè)上流水線作業(yè),。廣東非金屬磁控濺射特點(diǎn)磁控濺射設(shè)備一般根據(jù)所采用的電源的不同又可分為直流濺射和射頻濺射兩種。

磁控濺射技術(shù)不只是科學(xué)研究和精密電子制造中常用的薄膜制備工藝技術(shù),，經(jīng)過多年的不斷完善和發(fā)展,，該技術(shù)也已經(jīng)成為重要的工業(yè)化大面積真空鍍膜技術(shù)之一，普遍應(yīng)用于玻璃,、汽車,、醫(yī)療衛(wèi)生、電子工業(yè)等工業(yè)和民生領(lǐng)域,。例如,，采用磁控濺射工藝生產(chǎn)鍍膜玻璃，其膜層可以由多層金屬或金屬氧化物祖成,，允許任意調(diào)節(jié)能量通過率,、反射率，具有良好的美觀效果,，被越來越多的被應(yīng)用于現(xiàn)代建筑領(lǐng)域,。再比如，磁控濺射技術(shù)也能夠應(yīng)用于織物涂層,，這些織物涂層可以應(yīng)用于安全領(lǐng)域,，如防電擊、電磁屏蔽和機(jī)器人防護(hù)面料等,，也可用于染料制作,。這樣的涂層織物在醫(yī)療衛(wèi)生、環(huán)境保護(hù),、電子工業(yè)等領(lǐng)域都有重要的應(yīng)用,。

真空磁控濺射鍍膜技術(shù)所鍍玻璃多用于建筑玻璃和汽車玻璃這兩大用處,。一般來說這些介質(zhì)膜多是氧化鋅、二氧化錫,、二氧化鈦,、二氧化硅之類的可鍍于玻璃上。真空磁控濺射鍍膜技術(shù)在車窗玻璃上的用處,。用真空磁控濺射鍍膜設(shè)備可在車窗玻璃鍍涂二氧化鈦,，這個(gè)鍍層可以賦予車窗自清潔效果，有一定的防霧,、防露水的效用。磁控濺射工藝的主要優(yōu)點(diǎn)是可以使用反應(yīng)性或非反應(yīng)性鍍膜工藝來沉積這些材料的膜層,，并且可以很好地控制膜層成分,、膜厚、膜厚均勻性和膜層機(jī)械性能等,。磁控濺射設(shè)備的主要用途：各種功能性薄膜：如具有吸收,、透射、反射,、折射,、偏光等作用的薄膜。

磁控濺射屬于輝光放電范疇,，利用陰極濺射原理進(jìn)行鍍膜,。膜層粒子來源于輝光放電中，氬離子對陰極靶材產(chǎn)生的陰極濺射作用,。氬離子將靶材原子濺射下來后,，沉積到元件表面形成所需膜層。磁控原理就是采用正交電磁場的特殊分布控制電場中的電子運(yùn)動軌跡,，使得電子在正交電磁場中變成了擺線運(yùn)動,，因而大幅度增加了與氣體分子碰撞的幾率。磁控濺射目前是一種應(yīng)用十分普遍的薄膜沉積技術(shù),濺射技術(shù)上的不斷發(fā)展和對新功能薄膜的探索研究,使磁控濺射應(yīng)用延伸到許多生產(chǎn)和科研領(lǐng)域,。真空磁控濺射技術(shù)是指一種利用陰極表面配合的磁場形成電子陷阱,。江蘇陶瓷靶材磁控濺射實(shí)驗(yàn)室

磁控濺射是眾多獲得高質(zhì)量的薄膜技術(shù)當(dāng)中使用較普遍的一種鍍膜工藝。廣州單靶磁控濺射設(shè)備

磁控濺射鍍膜是現(xiàn)代工業(yè)中不可缺少的技術(shù)之一,，磁控濺射鍍膜技術(shù)正普遍應(yīng)用于透明導(dǎo)電膜,、光學(xué)膜、超硬膜,、抗腐蝕膜,、磁性膜、增透膜,、減反膜以及各種裝飾膜,，在**和國民經(jīng)濟(jì)生產(chǎn)中的作用和地位日益強(qiáng)大,。鍍膜工藝中的薄膜厚度均勻性，沉積速率,，靶材利用率等方面的問題是實(shí)際生產(chǎn)中十分關(guān)注的,。解決這些實(shí)際問題的方法是對涉及濺射沉積過程的全部因素進(jìn)行整體的優(yōu)化設(shè)計(jì)，建立一個(gè)濺射鍍膜的綜合設(shè)計(jì)系統(tǒng),。薄膜厚度均勻性是檢驗(yàn)濺射沉積過程的較重要參數(shù)之一,，因此對膜厚均勻性綜合設(shè)計(jì)的研究具有重要的理論和應(yīng)用價(jià)值。廣州單靶磁控濺射設(shè)備