磁控濺射是在陰極靶的表面上方形成一個正交電磁場,。當(dāng)濺射產(chǎn)生的二次電子在陰極位降區(qū)內(nèi)被加速為高能電子后，并不直接飛向陽極,，而是在正交電磁場作用下作來回振蕩的近似擺線的運(yùn)動,。高能電子不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并向后者轉(zhuǎn)移能量，使之電離而本身變成低能電子,。這些低能電子較終沿磁力線漂移到陰極附近的陽極而被吸收,，避免高能電子對極板的強(qiáng)烈轟擊，消除了二極濺射中極板被轟擊加熱和被電子輻照引起的損傷,，體現(xiàn)出磁控濺射中極板“低溫”的特點(diǎn),。由于外加磁場的存在,，電子的復(fù)雜運(yùn)動增加了電離率，實(shí)現(xiàn)了高速濺射,。磁控濺射的技術(shù)特點(diǎn)是要在陰極靶面附件產(chǎn)生與電場方向垂直的磁場,，一般采用永久磁鐵實(shí)現(xiàn)。隨著工業(yè)的需求和表面技術(shù)的發(fā)展,，新型磁控濺射如高速濺射,、自濺射等成為磁控濺射領(lǐng)域新的發(fā)展趨勢。海南智能磁控濺射流程

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下,，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片,，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射,。在濺射粒子中,，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用,，產(chǎn)生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移,，簡稱E×B漂移，其運(yùn)動軌跡近似于一條擺線,。若為環(huán)形磁場,，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運(yùn)動，它們的運(yùn)動路徑不只很長,，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi),，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar來轟擊靶材，從而實(shí)現(xiàn)了高的沉積速率,。隨著碰撞次數(shù)的增加,，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠(yuǎn)離靶表面,，并在電場E的作用下較終沉積在基片上,。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小,，致使基片溫升較低,。海南雙靶材磁控濺射設(shè)備磁控濺射包括很多種類，各有不同工作原理和應(yīng)用對象,。

磁控濺射粉體鍍膜技術(shù)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了銀包銅粉,、銀包鋁粉、鋁包硅粉等多種微納米級粉體的量產(chǎn).由該技術(shù)得到的功能性復(fù)合粉體具有優(yōu)異的分散性,鍍層均勻度較高,鍍層與粉體的結(jié)合緊密度較高,。磁控濺射鍍膜可以賦予超細(xì)粉體新的特性,例如在微米級二氧化硅表面鍍鋁,得到的復(fù)合粉體不但具有良好的分散性,好具有優(yōu)異的光學(xué)性能,可以作為一種特殊效果顏料用于高級塑料制品加工中.相較于傳統(tǒng)的鋁粉顏料,該特殊效果顏料不但有效改善了塑料制品的注塑缺陷(流痕\熔接線),還使得制品外觀質(zhì)感更加高級,。

近年來磁控濺射技能發(fā)展十分迅速,，代表性辦法有平衡平衡磁控濺射、反響磁控濺射,、中頻磁控濺射及高能脈沖磁控濺射等等,。放電發(fā)生的等離子體中，氬氣正離子在電場效果下向陰極移動,，與靶材外表磕碰,，受磕碰而從靶材外表濺射出的靶材原子稱為濺射原子。磁控濺射不只應(yīng)用于科研及工業(yè)范疇,，已延伸到許多日常生活用品,，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相堆積制膜困難的薄膜制備,。磁控濺射技能在制備電子封裝及光學(xué)薄膜方面已有多年,，特別是先進(jìn)的中頻非平衡磁控濺射技能也已在光學(xué)薄膜、通明導(dǎo)電玻璃等方面得到應(yīng)用,。反應(yīng)磁控濺射普遍應(yīng)用于化合物薄膜的大批量生產(chǎn),。

直流磁控濺射所用的電源是直流高壓電源，通常在300～1000V,，特點(diǎn)是濺射速率快,，造價低，后期維修保養(yǎng)廉價,?？墒侵荒転R射金屬靶材，假如靶材是絕緣體,，隨著濺射的深化,，靶材會聚集很多的電荷，導(dǎo)致濺射無法持續(xù),。因而關(guān)于金屬靶材通常用直流磁控濺射,，因?yàn)樵靸r廉價，結(jié)構(gòu)簡略,，目前在工業(yè)上使用普遍,。脈沖磁控濺射是采用脈沖電源或者直流電源與脈沖生成裝置配合，輸出脈沖電流驅(qū)動磁控濺射沉積,。一般使用矩形波電壓,，既容易獲得又有利于研究濺射放電等離子體的變化過程。工作模式與中頻濺射,。磁控濺射設(shè)備一般根據(jù)所采用的電源的不同又可分為直流濺射和射頻濺射兩種,。江蘇多層磁控濺射步驟

相較于蒸發(fā)鍍膜，真空磁控濺射鍍膜的膜更均勻,。海南智能磁控濺射流程

磁控濺射應(yīng)用：（1）磁控濺射技術(shù)在光學(xué)薄膜(如增透膜),、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等方面也得到應(yīng)用,。在透明導(dǎo)電玻璃在玻璃基片或柔性襯底上,濺射制備SiO2薄膜和摻雜ZnO或InSn氧化物(ITO)薄膜，使可見光范圍內(nèi)平均光透過率在90%以上,。（2）在現(xiàn)代機(jī)械加工工業(yè)中,利用磁控濺射技術(shù)制作表面功能膜,、超硬膜,自潤滑薄膜,能有效的提高表面硬度、復(fù)合韌性,、耐磨損性和抗高溫化學(xué)穩(wěn)定性能,從而大幅度地提高涂層產(chǎn)品的使用壽命,。磁控濺射除上述已被大量應(yīng)用的領(lǐng)域,還在高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電體薄膜,、巨磁阻薄膜,、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池,、記憶合金薄膜研究方面發(fā)揮重要作用,。海南智能磁控濺射流程