在微電子與光電子集成中,，薄膜的形成方法主要有兩大類，及沉積和外延生長(zhǎng),。沉積技術(shù)分為物理沉積,、化學(xué)沉積和混合方法沉積,。蒸發(fā)沉積（熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)）和濺射沉積是典型的物理方法,；化學(xué)氣相沉積是典型的化學(xué)方法,；等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積是物理與化學(xué)方法相結(jié)合的混合方法。薄膜沉積過(guò)程,，通常生成的是非晶膜和多晶膜,，沉積部位和晶態(tài)結(jié)構(gòu)都是隨機(jī)的，而沒(méi)有固定的晶態(tài)結(jié)構(gòu),。外延生長(zhǎng)實(shí)質(zhì)上是材料科學(xué)的薄膜加工方法,，其含義是：在一個(gè)單晶的襯底上，定向地生長(zhǎng)出與基底晶態(tài)結(jié)構(gòu)相同或相似的晶態(tài)薄層,。其他薄膜成膜方法,，如電化學(xué)沉積,、脈沖激光沉積法、溶膠凝膠法、自組裝法等,，也都普遍用于微納制作工藝中,。高精度的微細(xì)結(jié)構(gòu)可以通過(guò)電子束直寫(xiě)或激光直寫(xiě)制作,。泉州電子微納加工

    隨著電子束光刻技術(shù)和電感耦合等離子體(ICP)刻蝕技術(shù)的出現(xiàn),，平面微納加工工藝正在推動(dòng)以單電子器件與自旋電子器件為代標(biāo)的新一代納米電子學(xué)的發(fā)展.當(dāng)微納加工技術(shù)應(yīng)用到光電子領(lǐng)域，就形成了新興的納米光電子技術(shù),，主要研究納米結(jié)構(gòu)中光與電子相互作用及其能量互換的技術(shù).納米光電子技術(shù)在過(guò)去的十多年里,，一方面，以低維結(jié)構(gòu)材料生長(zhǎng)和能帶工程為基礎(chǔ)的納米制造技術(shù)有了長(zhǎng)足的發(fā)展,，包括分子束外延(MBE),、金屬有機(jī)化學(xué)氣相淀積(MOCVD)和化學(xué)束外延(CBE)，使得在晶片表面外延生長(zhǎng)方向(直方向)的外延層精度控制到單個(gè)原子層,，從而獲得了具有量子尺寸效應(yīng)的半導(dǎo)體材料;另一方面,，平面納米加工工藝實(shí)現(xiàn)了納米尺度的光刻和橫向刻蝕，使得人工橫向量子限制的量子線與量子點(diǎn)的制作成為可能.同時(shí),，光子晶體概念的出現(xiàn),，使得納米平面加工工藝廣的地應(yīng)用到光介質(zhì)材料折射率周期性的改變中。 鶴壁激光微納加工微納制造技術(shù)研發(fā)和應(yīng)用標(biāo)志著人類可以在微,、納米尺度認(rèn)識(shí)和改造世界,。

微納制造包括微制造和納制造兩個(gè)方面。(1)微制造有兩種不同的微制造工藝方式，一種是基于半導(dǎo)體制造工藝的光刻技術(shù),、LIGA技術(shù)、鍵合技術(shù),、封裝技術(shù)等,，這些工藝技術(shù)方法較為成熟，但普遍存在加工材料單一,、加工設(shè)備昂貴等問(wèn)題,，且只能加工結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的二維或準(zhǔn)三維微機(jī)械零件，無(wú)法進(jìn)行復(fù)雜的三維微機(jī)械零件的加工,；另一種是機(jī)械微加工,，是指采用機(jī)械加工、特種加工及其他成形技術(shù)等傳統(tǒng)加工技術(shù)形成的微加工技術(shù),，可進(jìn)行三維復(fù)雜曲面零件的加工,，加工材料不受限制，包括微細(xì)磨削,、微細(xì)車削,、微細(xì)銑削、微細(xì)鉆削,、微沖壓,、微成形等。(2)納制造納制造是指具有特定功能的納米尺度的結(jié)構(gòu),、器件和系統(tǒng)的制造技術(shù),，包括納米壓印技術(shù)、刻劃技術(shù),、原子操縱技術(shù)等,。

MEMS工藝離不開(kāi)曝光工藝。光刻曝光系統(tǒng)：接觸式曝光和非接觸式曝光的區(qū)別,，在于曝光時(shí)掩模與晶片間相對(duì)關(guān)系是貼緊還是分開(kāi),。接觸式曝光具有分辨率高、復(fù)印面積大,、復(fù)印精度好,、曝光設(shè)備簡(jiǎn)單、操作方便和生產(chǎn)效率高等特點(diǎn),。但容易損傷和沾污掩模版和晶片上的感光膠涂層,影響成品率和掩模版壽命,對(duì)準(zhǔn)精度的提高也受到較多的限制,。一般認(rèn)為，接觸式曝光只適于分立元件和中,、小規(guī)模集成電路的生產(chǎn),。非接觸式曝光主要指投影曝光。在投影曝光系統(tǒng)中，掩膜圖形經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)成像在感光層上,，掩模與晶片上的感光膠層不接觸,不會(huì)引起損傷和沾污,成品率較高,，對(duì)準(zhǔn)精度也高，能滿足高集成度器件和電路生產(chǎn)的要求,。但投影曝光設(shè)備復(fù)雜,，技術(shù)難度高，因而不適于低檔產(chǎn)品的生產(chǎn)?，F(xiàn)代應(yīng)用較廣的是 1:1倍的全反射掃描曝光系統(tǒng)和x:1倍的在硅片上直接分步重復(fù)曝光系統(tǒng),。微納制造技術(shù)是由零件構(gòu)成的部件或系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、加工,、組裝,、集成與應(yīng)用技術(shù)。

高精度的微細(xì)結(jié)構(gòu)可以通過(guò)電子束直寫(xiě)或激光直寫(xiě)制作,，這類光刻技術(shù),，像“寫(xiě)字”一樣，通過(guò)控制聚焦電子束（光束）移動(dòng)書(shū)寫(xiě)圖案進(jìn)行曝光,，具有比較高的曝光精度,，但這兩種方法制作效率極低，尤其在大面積制作方面捉襟見(jiàn)肘,，目前直寫(xiě)光刻技術(shù)*適用于小面積的微納結(jié)構(gòu)制作,。近年來(lái)，三維浮雕微納結(jié)構(gòu)的需求越來(lái)越大,，如閃耀光柵,、菲涅爾透鏡、多臺(tái)階微光學(xué)元件等,。據(jù)悉,，某公司新上市的手機(jī)產(chǎn)品中人臉識(shí)別模塊就采用了多臺(tái)階微光學(xué)元件，以及當(dāng)下如火如荼的無(wú)人駕駛技術(shù)中激光雷達(dá)光學(xué)系統(tǒng)也用到了復(fù)雜的微光學(xué)元件,。這類精密的微納結(jié)構(gòu)光學(xué)元件需采用灰度光刻技術(shù)進(jìn)行制作,。直寫(xiě)技術(shù)，通過(guò)在光束移動(dòng)過(guò)程中進(jìn)行相應(yīng)的曝光能量調(diào)節(jié),，可以實(shí)現(xiàn)良好的灰度光刻能力,。微納加工設(shè)備主要有：光刻、刻蝕,、成膜,、離子注入、晶圓鍵合等,。韶關(guān)微納加工器件

微納加工技術(shù)具有高精度,、科技含量高,、產(chǎn)品附加值高等特點(diǎn)。泉州電子微納加工

新型顯示,、智能終端,、人工智能、汽車電子,、互聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用產(chǎn)品,、移動(dòng)通信、智慧家庭,、5G等領(lǐng)域成為中國(guó)電子元器件市場(chǎng)發(fā)展的源源不斷的動(dòng)力，帶動(dòng)了電子元器件的市場(chǎng)需求,，也加快電子元器件更迭換代的速度,，從下游需求層面來(lái)看，電子元器件市場(chǎng)的發(fā)展前景極為可觀,。面向半導(dǎo)體光電子器件,、功率電子器件、MEMS,、生物芯片等前沿領(lǐng)域,，致力于打造***的公益性、開(kāi)放性,、支撐性樞紐中心,。平臺(tái)擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備，建立了一條實(shí)驗(yàn)室研發(fā)線和一條中試線,，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸）,，同時(shí)形成了一支與硬件有機(jī)結(jié)合的專業(yè)人才隊(duì)伍。平臺(tái)當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù),，面向國(guó)內(nèi)外高校,、科研院所以及企業(yè)提供開(kāi)放共享，為技術(shù)咨詢,、創(chuàng)新研發(fā),、技術(shù)驗(yàn)證以及產(chǎn)品中試提供支持。將迎來(lái)新一輪的創(chuàng)新周期,，在新一輪創(chuàng)新周期中,，國(guó)產(chǎn)替代趨勢(shì)有望進(jìn)一步加強(qiáng)。公司所處的本土電子元器件授權(quán)分銷行業(yè),，近年來(lái)進(jìn)入飛速整合發(fā)展期,，產(chǎn)業(yè)集中度不斷提升，規(guī)?；?、平臺(tái)化趨勢(shì)加強(qiáng),。在一些客觀因素如服務(wù)型的推動(dòng)下，部分老舊,、落后的產(chǎn)能先后退出市場(chǎng),，非重點(diǎn)品種的短缺已經(jīng)非常明顯。在這樣的市場(chǎng)背景下,，電子元器件產(chǎn)業(yè)有望迎來(lái)高速增長(zhǎng)周期,，如何填補(bǔ)這一片市場(chǎng)空白，需要理財(cái)者把握時(shí)勢(shì),，精確入局,。目前，我們的生活充斥著各種電子產(chǎn)品,，無(wú)論是智能設(shè)備還是非智能設(shè)備,，都離不開(kāi)電子元器件的身影。智能化發(fā)展帶來(lái)的經(jīng)濟(jì)化效益無(wú)疑是**為明顯的,，但是在它身后的微納加工技術(shù)服務(wù),，真空鍍膜技術(shù)服務(wù)，紫外光刻技術(shù)服務(wù),，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)前景廣闊,。泉州電子微納加工