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RPS遠(yuǎn)程等離子源技術(shù)的優(yōu)勢與應(yīng)用
一,、RPS遠(yuǎn)程等離子源工作原理
RPS遠(yuǎn)程等離子源是一款基于電感耦合等離子體技術(shù)的自成一體的原子發(fā)生器，它的功能是用于半導(dǎo)體設(shè)備工藝腔體原子級別的清潔,，使用工藝氣體三氟化氮（NF3）/O2,，在交變電場和磁場作用下，原材料氣體會被解離,，從而釋放出自由基,，活性離子進(jìn)入工藝室與工藝室上沉積的污染材料（SIO/SIN）或者殘余氣體（H2O、O2,、H2,、N2）等物質(zhì)產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，聚合為高活性氣態(tài)分子經(jīng)過真空泵組抽出處理腔室,，提高處理腔室內(nèi)部潔凈度,；
利用原子的高活性強(qiáng)氧化特性，達(dá)到清洗CVD或其他腔室后生產(chǎn)工藝的目的,，為了避免不必要的污染和工作人員的高風(fēng)險(xiǎn)的濕式清洗工作,，提高生產(chǎn)效率。
二,、RPS遠(yuǎn)程等離子源應(yīng)用原理
1.遠(yuǎn)程等離子的處理作用,，是非常輕微的刻蝕，有一定的活性作用,，主要與腔室內(nèi)部的殘余氣體發(fā)生作用,。但是對腔室內(nèi)部的固體物質(zhì)，例如：腔室內(nèi)壁的金屬材料與腔室內(nèi)部的零配件,，在工作時(shí)間較短（幾十分鐘）的情況下,，一般只會發(fā)生淺表層的反應(yīng)，幾十納米至幾微米,，因?yàn)榍皇覂?nèi)部的材質(zhì)一般是鋁合金,、不銹鋼等，不容易被氧離子所刻蝕。
2.遠(yuǎn)程等離子工作時(shí),，用戶本身的鍍膜工藝是不工作的,，所有沒有直接接觸到有機(jī)發(fā)光材料，就不會對有機(jī)發(fā)光材質(zhì)造成損傷,。即使是直接接觸,，其發(fā)生的輕微的表面作用，也不會造成損傷,。
三、晟鼎RPS的九大優(yōu)勢
四、應(yīng)用領(lǐng)域與典型案例
1.CVD腔室清潔
①清潔HDP-CVD腔（使用F原子）
②清潔PECVD腔（使用F原子）
③清潔Low-k CVD腔（使用O原子,、F原子）
④清潔WCVD腔（使用F原子）
2.表面處理,、反應(yīng)性刻蝕和等離子體輔助沉積
①通過反應(yīng)替代 （表 面氧化）進(jìn)行表面改性
②輔助PECVD
③使用預(yù)活化氧氣和氮?dú)廨o助低壓反應(yīng)性濺射沉積
④使用預(yù)活化氧氣和氮?dú)膺M(jìn)行反應(yīng)性蒸發(fā)沉積
⑤等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）
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