光刻膠是集成電路領(lǐng)域微加工的關(guān)鍵性材料,，為推動光刻膠等半導(dǎo)體材料行業(yè)的發(fā)展，近年來,，我國發(fā)布了多項(xiàng)利好政策支持光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展，同時(shí)國內(nèi)企業(yè)也積極研發(fā)產(chǎn)品,，主動尋求光刻膠及其他材料國產(chǎn)化?，F(xiàn)階段，我國光刻膠企業(yè)有晶瑞電材,、彤程新材,、華懋科技、南大光電等,，在國產(chǎn)替代大契機(jī)下,，國內(nèi)光刻膠企業(yè)將迎來發(fā)展良機(jī)。國內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈下游企業(yè)逐漸意識到材料國產(chǎn)化的重要性,，國內(nèi)廠商也在積極研發(fā)產(chǎn)品,、加速客戶和產(chǎn)品導(dǎo)入、擴(kuò)建相關(guān)產(chǎn)能,，在探索中砥礪前行,，從而抓住國產(chǎn)化的契機(jī)。目前已有少數(shù)企業(yè)已開始嶄露頭角,，實(shí)現(xiàn)從0到1的突破,。光刻膠發(fā)展至今已有百年歷史，現(xiàn)已用于集成電路,、顯示,、PCB 等領(lǐng)域，是光刻工藝的重要材料,。普陀TFT-LCD正性光刻膠印刷電路板

光刻膠的產(chǎn)業(yè)鏈中游：為光刻膠制造環(huán)節(jié)，當(dāng)前全球光刻膠生產(chǎn)制造商主要被日本JSR、信越化學(xué),、住友化學(xué),、東京應(yīng)化、美國陶氏化學(xué)等制造商所壟斷,，中國本土企業(yè)在光刻膠市場的份額較低,，與國外光刻膠制造商相比仍存明顯差距。

光刻膠的產(chǎn)業(yè)鏈下游：主要涉及半導(dǎo)體,、平板顯示器,、PCB等領(lǐng)域。伴隨消費(fèi)升級,、應(yīng)用終端產(chǎn)品更新迭代速度加快,，下游應(yīng)用領(lǐng)域企業(yè)對半導(dǎo)體、平板顯示和PCB制造提出愈加精細(xì)化的要求,，將帶動光刻膠行業(yè)持續(xù)發(fā)展,。 昆山負(fù)性光刻膠顯影經(jīng)過多年技術(shù)積累，國內(nèi)已形成一定光刻膠用電子化學(xué)品產(chǎn)能,，國內(nèi)公司市場份額逐步提升,，國產(chǎn)替代正在進(jìn)行。

從90年代后半期開始,，光刻光源就開始采用248nm的KrF激光,；而從2000年代開始，光刻就進(jìn)一步轉(zhuǎn)向使用193nm波長的ArF準(zhǔn)分子激光作為光源,。在那之后一直到目前的約20年里,，193nm波長的ArF準(zhǔn)分子激光一直是半導(dǎo)體制程領(lǐng)域性能可靠，使用較多的光刻光源,。一般而言,，KrF（248nm）光刻膠使用聚對羥基苯乙烯及其衍生物作為成膜樹脂，使用磺酸碘鎓鹽和硫鎓鹽作為光致酸劑,；而ArF（193nm）光刻膠則多使用聚甲基丙烯酸酯衍生物,，環(huán)烯烴-馬來酸酐共聚物，環(huán)形聚合物等作為成膜樹脂,；由于化學(xué)結(jié)構(gòu)上的原因,，Arf(193nm)光刻膠需要比KrF（248nm）光刻膠更加敏感的光致酸劑。

浸沒光刻：在與浸沒光刻相對的干法光刻中,，光刻透鏡與光刻膠之間是空氣,。光刻膠直接吸收光源發(fā)出的紫外輻射并發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。在浸沒光刻中,，光刻鏡頭與光刻膠之間是特定液體,。這些液體可以是純水也可以是別的化合物液體,。光刻光源發(fā)出的輻射經(jīng)過這些液體的時(shí)候發(fā)生了折射，波長變短,。這樣,，在不改變光源的前提條件下，更短波長的紫外光被投影光刻膠上,，提高了光刻加工的分辨率,。雙重光刻：雙重光刻的意思是通過兩次光刻使得加工分辨率翻倍。實(shí)現(xiàn)這個(gè)目的的一種方法是在開始光刻過后平移同一個(gè)光罩進(jìn)行第二次光刻,，以提高加工分辨率,。下圖右展示了這樣一個(gè)過程。下圖右中雙重光刻子進(jìn)行了兩次涂膠,，兩次光刻和兩次刻蝕,。隨著光刻膠技術(shù)的進(jìn)步，只需要一次涂膠,，兩次光刻和一次刻蝕的雙重光刻工藝也成為可能,。彩色光刻膠及黑色光刻膠市場也呈現(xiàn)日韓企業(yè)主導(dǎo)的格局，國內(nèi)企業(yè)有雅克科技,、飛凱材料,、彤程新材等。

按顯示效果分類,；光刻膠可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠,。負(fù)性光刻膠顯影時(shí)形成的圖形與光罩（掩膜版）相反；正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同,。兩者的生產(chǎn)工藝流程基本一致,，區(qū)別在于主要原材料不同。

按照化學(xué)結(jié)構(gòu)分類,；光刻膠可以分為光聚合型,，光分解型，光交聯(lián)型和化學(xué)放大型,。光聚合型光刻膠采用烯類單體,，在光作用下生成自由基，進(jìn)一步引發(fā)單體聚合,，生成聚合物,；光分解型光刻膠，采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑,，其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應(yīng),，可以制成正性光刻膠；光交聯(lián)型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,，在光的作用下,，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),，而起到抗蝕作用，可以制成負(fù)性光刻膠,。 光刻膠的組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑,、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹脂,、單體、溶劑和其他助劑,。浙江半導(dǎo)體光刻膠顯影

金屬氧化物光刻膠使用金屬離子及有機(jī)配體構(gòu)建其主體結(jié)構(gòu),，借助光敏基團(tuán)實(shí)現(xiàn)光刻膠所需的性能。普陀TFT-LCD正性光刻膠印刷電路板

包括光刻膠在內(nèi)的微電子化學(xué)品有技術(shù)要求高,、功能性強(qiáng),、產(chǎn)品更新快等特點(diǎn)，其產(chǎn)品品質(zhì)對下游電子產(chǎn)品的質(zhì)量和效率有非常大的影響,。因此,，下游企業(yè)對微電子化學(xué)品供應(yīng)商的質(zhì)量和供貨能力十分重視，常采用認(rèn)證采購的模式,，需要通過送樣檢驗(yàn),、技術(shù)研討、信息回饋,、技術(shù)改進(jìn),、小批試做、大批量供貨,、售后服務(wù)評價(jià)等嚴(yán)格的篩選流程,。認(rèn)證時(shí)間久，要求嚴(yán)苛,；一般產(chǎn)品得到下游客戶的認(rèn)證需要較長的時(shí)間周期,。顯示面板行業(yè)通常為1-2年，集成電路行業(yè)由于要求較高,，認(rèn)證周期能達(dá)到2-3年時(shí)間,；認(rèn)證階段內(nèi)，光刻膠供應(yīng)商沒有該客戶的收入,，這需要供應(yīng)收有足夠的資金實(shí)力,。光刻膠供應(yīng)商與客戶粘性大；一般情況下,，為了保持光刻膠供應(yīng)和效果的穩(wěn)定,，下游客戶與光刻膠供應(yīng)商一旦建立供應(yīng)關(guān)系后，不會輕易更換,。通過建立反饋機(jī)制,，滿足個(gè)性化需求,，光刻膠供應(yīng)商與客戶的粘性不斷增加。后來者想要加入到供應(yīng)商行列,，往往需要滿足比現(xiàn)有供應(yīng)商更高的要求,。所以光刻膠行業(yè)對新進(jìn)入者壁壘較高。普陀TFT-LCD正性光刻膠印刷電路板

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