光刻膠的技術(shù)壁壘包括配方技術(shù),，質(zhì)量控制技術(shù)和原材料技術(shù)。配方技術(shù)是光刻膠實現(xiàn)功能的要點,，質(zhì)量控制技術(shù)能夠保證光刻膠性能的穩(wěn)定性而較好的原材料則是光刻膠性能的基礎(chǔ),。配方技術(shù)：由于光刻膠的下游用戶是IC芯片和FPD面板制造商，不同的客戶會有不同的應(yīng)用需求,，同一個客戶也有不同的光刻應(yīng)用需求,。一般一塊半導(dǎo)體芯片在制造過程中需要進行10-50道光刻過程，由于基板不同,、分辨率要求不同,、蝕刻方式不同等，不同的光刻過程對光刻膠的具體要求也不一樣,，即使類似的光刻過程,，不同的廠商也會有不同的要求。針對以上不同的應(yīng)用需求,，光刻膠的品種非常多,，這些差異主要通過調(diào)整光刻膠的配方來實現(xiàn)。因此,，通過調(diào)整光刻膠的配方,，滿足差異化的應(yīng)用需求，是光刻膠制造商重要的技術(shù),。光刻膠只是一種形象的說法,，因為光刻膠從外觀上呈現(xiàn)為膠狀液體。江浙滬ArF光刻膠曝光

目前國內(nèi)從事半導(dǎo)體光刻膠研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)包括晶瑞股份,、南大光電,、上海新陽、北京科華等,。相關(guān)企業(yè)以i 線,、g線光刻膠生產(chǎn)為主，應(yīng)用集成電路制程為350nm以上,。在KrF光刻膠領(lǐng)域,，北京科華、博康已實現(xiàn)量產(chǎn),。國內(nèi)在ArF光刻膠領(lǐng)域產(chǎn)業(yè)化進程相對較快的企業(yè)為南大光電,，其先后承擔(dān)國家02專項“高分辨率光刻膠與先進封裝光刻膠產(chǎn)品關(guān)鍵技術(shù)研發(fā)項目”和“ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項目”,，公司自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品成為國內(nèi)通過客戶驗證的國產(chǎn)ArF光刻膠，其他國內(nèi)企業(yè)尚處于研發(fā)和驗證階段,。嘉定光刻膠溶劑在PCB行業(yè)：主要使用的光刻膠有干膜光刻膠,、濕膜光刻膠、感光阻焊油墨等,。

離子束光刻技術(shù)可分為聚焦離子束光刻,、離子束投影式光刻。聚焦離子束光刻用途較多,，常以鎵離子修補傳統(tǒng)及相位轉(zhuǎn)移掩膜板,；離子束投影式光刻主要使用150 keV的H+、H2+,、H3+,、He+，以鏤空式模板,，縮小投影（4~5倍） ,。離子束光刻與電子束直寫光刻技術(shù)類似，不需要掩膜板,，應(yīng)用高能離子束直寫,。離子束的散射沒有電子束那么強，因此具有更好的分辨率,。液態(tài)金屬離子源為較簡單的曝光源：在鎢針或鉬針的頂端附上鎵或金硅合金,，加熱融化后經(jīng)由外層為液態(tài)金屬表面產(chǎn)生的場使離子發(fā)射，其發(fā)射面積很?。?lt;10 nm）,，因此利用離子光學(xué)系統(tǒng)可較容易地將發(fā)射的離子聚焦成細(xì)微離子束，從而進行高分辨率的離子束曝光,。

中美貿(mào)易摩擦：光刻膠國產(chǎn)代替是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的迫切需要,；自從中美貿(mào)易摩擦依賴，中國大陸積極布局集成電路產(chǎn)業(yè),。在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,，光刻膠作為是集成電路制程技術(shù)進步的“燃料”，是國產(chǎn)代替重要環(huán)節(jié),，也是必將國產(chǎn)化的產(chǎn)品,。光刻是半導(dǎo)制程的重要工藝，對制造出更先進,，晶體管密度更大的集成電路起到?jīng)Q定性作用,。每一代新的光刻工藝都需要新一代的光刻膠技術(shù)相匹配。現(xiàn)在,，一塊半導(dǎo)體芯片在制造過程中一般需要進行10-50道光刻過程,。其中不同的光刻過程對于光刻膠也有不一樣的具體需求。光刻膠若性能不達標(biāo)會對芯片成品率造成重大影響,。光刻膠行業(yè)長年被日本和美國專業(yè)公司壟斷,。

目前中國光刻膠國產(chǎn)化水平嚴(yán)重不足，重點技術(shù)差距在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域,，有2-3代差距,，隨著下游半導(dǎo)體行業(yè)、LED及平板顯示行業(yè)的快速發(fā)展,，未來國內(nèi)光刻膠產(chǎn)品國產(chǎn)化替代空間巨大,。當(dāng)今，中國通過國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金（大基金）撬動全社會資源對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進行投資和扶持,。同時,，國內(nèi)光刻膠企業(yè)積極抓住中國晶圓制造擴產(chǎn)的百年機遇，發(fā)展光刻膠業(yè)務(wù),，力爭早日追上國際先進水平,，打進國內(nèi)新建晶圓廠的供應(yīng)鏈。光刻膠的國產(chǎn)化公關(guān)正在展開,，在面板屏顯光刻膠領(lǐng)域,，中國已經(jīng)出現(xiàn)了一批有競爭力的本土企業(yè)。在半導(dǎo)體和面板光刻膠領(lǐng)域,，盡管國產(chǎn)光刻膠距離國際先進水平仍然有差距,，但是在政策的支持和自身的不懈努力之下，中國已經(jīng)有一批光刻膠企業(yè)陸續(xù)實現(xiàn)了技術(shù)突破,。光刻膠生產(chǎn)工藝復(fù)雜,，技術(shù)壁壘高，其研發(fā)和量產(chǎn)對企業(yè)都具有極高要求,。g線光刻膠光致抗蝕劑

目前,，中國本土光刻膠以PCB用光刻膠為主，平板顯示,、半導(dǎo)體用光刻膠供應(yīng)量占比極低,。江浙滬ArF光刻膠曝光

根據(jù)2019年數(shù)據(jù)，全球半導(dǎo)體光刻膠**大廠商占據(jù)全球光刻膠市場87%份額,。其中日本占有四家,，分別是JSR、東京應(yīng)化(TOK),、信越化學(xué)與富士電子材料,，這四家的市場份額達到72%，市場集中度明顯。在半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分領(lǐng)域,，日本廠商在市場中具有較強話語權(quán),。（1）g/i線光刻膠市場：日本的東京應(yīng)化、JSR,、住友化學(xué)和富士膠片分別占據(jù)26%,、15%、15%,、8%的份額,，在全球市場占據(jù)64%份額。（2）KrF光刻膠市場：日本企業(yè)東京應(yīng)化,、信越化學(xué)和JSR在全球KrF光刻膠細(xì)分市場分別占據(jù)34%,、22%和18%份額，合計占比達到74%,。（3）ArF光刻膠市場：日本企業(yè)JSR,、信越化學(xué)、東京應(yīng)化和住友化學(xué)包攬前四,，分別占據(jù)全球ArF光刻膠細(xì)分市場25%,、23%、20%和15%市場份額,，合計市場份額達到83%,。（4）EUV光刻膠市場：較先進的EUV光刻膠領(lǐng)域完全被日本企業(yè)所主導(dǎo)，日本JSR,、東京應(yīng)化,、信越化學(xué)成為EUV光刻膠市場可實現(xiàn)量產(chǎn)的廠商。目前引入EUV工藝的*有三星電子和臺積電兩家公司,。江浙滬ArF光刻膠曝光

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