浸沒光刻：在與浸沒光刻相對的干法光刻中，光刻透鏡與光刻膠之間是空氣,。光刻膠直接吸收光源發(fā)出的紫外輻射并發(fā)生光化學反應。在浸沒光刻中,，光刻鏡頭與光刻膠之間是特定液體,。這些液體可以是純水也可以是別的化合物液體。光刻光源發(fā)出的輻射經(jīng)過這些液體的時候發(fā)生了折射,，波長變短,。這樣，在不改變光源的前提條件下,，更短波長的紫外光被投影光刻膠上,，提高了光刻加工的分辨率。雙重光刻：雙重光刻的意思是通過兩次光刻使得加工分辨率翻倍,。實現(xiàn)這個目的的一種方法是在開始光刻過后平移同一個光罩進行第二次光刻,，以提高加工分辨率。下圖右展示了這樣一個過程,。下圖右中雙重光刻子進行了兩次涂膠,，兩次光刻和兩次刻蝕。隨著光刻膠技術的進步,，只需要一次涂膠,，兩次光刻和一次刻蝕的雙重光刻工藝也成為可能。在平板顯示行業(yè),；主要使用的光刻膠有彩色及黑色光刻膠,、LCD觸摸屏用光刻膠、TFT-LCD正性光刻膠等,。蘇州黑色光刻膠溶劑

中國半導體光刻膠市場規(guī)模增速超過全球,。隨著半導體制程節(jié)點不斷縮小，光刻工藝對光刻膠要求越來越高,，需求量也越來越大,。據(jù)智研咨詢數(shù)據(jù)，2018年全球半導體用光刻膠市場規(guī)模約13億美元,，年復合增速為5.4%,，預計未來5年年均增速約8%-10%；中國半導體用光刻膠市場規(guī)模約23億元人民幣,，年復合增速為9.8%,，預計未來5年年均增速約10%。以前,，光刻膠主要依賴進口,，隨著科技的逐漸發(fā)展，國產(chǎn)化光刻膠趨勢越來越明顯,，相信國內(nèi)光刻膠技術會越來越成熟,，光刻膠國產(chǎn)化是必然趨勢,。LCD觸摸屏用光刻膠顯影光刻膠屬于技術和資本密集型行業(yè)，目前主要技術主要掌握在日,、美等國際大公司手中,，全球供應市場高度集中。

靈敏度即光刻膠上產(chǎn)生一個良好的圖形所需一定波長光的較小能量值（或較小曝光量）,。單位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2,。光刻膠的敏感性對于波長更短的深紫外光（DUV）、極深紫外光（EUV）等尤為重要  ,。負膠通常需5~15 s時間曝光,，正膠較慢，其曝光時間為負膠的3~4倍  ,。靈敏度反映了光刻膠材料對某種波長的光的反應程度,。不同的光刻膠對于不同的波長的光是有選擇性的。比如248 nm波長光刻膠的成膜樹脂中存在苯環(huán)結構,，對193 nm波長的光具有很強的吸收作用,，即對193 nm波長的光是不透明的，因此193 nm光刻膠必須改變樹脂主體,。同時,，高的產(chǎn)出要求短的曝光時間，對光刻膠的靈敏度要求也越來越高,。通常以曝光劑量作為衡量光刻膠靈敏度的指標,，曝光劑量值越小，光刻膠的靈敏度越高,。i線光刻膠材料曝光劑量在數(shù)百mJ/cm2左右,，而KrF和ArF的光刻膠材料，其曝光劑量則在30和20 mJ/cm2左右 ,。靈敏度可以體現(xiàn)于光刻膠的對比度曲線上,。

分辨率即光刻工藝中所能形成較小尺寸的有用圖像。是區(qū)別硅片表面相鄰圖形特征的能力,。一般用關鍵尺寸（CD,，Critical Dimension）來衡量分辨率。形成的關鍵尺寸越小,，光刻膠的分辨率越好 ,。此性質(zhì)深受光刻膠材質(zhì)本身物理化學性質(zhì)的影響，必須避免光刻膠材料在顯影過程中收縮或在硬烤中流動,。因此,，若要使光刻材料擁有良好的分辨能力，需謹慎選擇高分子基材及所用的顯影劑,。分辨率和焦深都是光刻中圖像質(zhì)量的關鍵因素,。在光刻中既要獲得更好的分辨率來形成關鍵尺寸圖形,，又要保持合適的焦深是非常矛盾的。雖然分辨率非常依賴于曝光設備,，但是高性能的曝光工具需要與之相配套的高性能的光刻膠才能真正獲得高分辨率的加工能力。我國光刻膠行業(yè)起步較晚,，生產(chǎn)能力主要集中在 PCB 光刻膠,、TN/STN-LCD 光刻膠等中低端產(chǎn)品。

    光刻膠按應用領域分類,，可分為 PCB 光刻膠,、顯示面板光刻膠、半導體光刻膠及其他光刻膠,。全球市場上不同種類光刻膠的市場結構較為均衡,。智研咨詢的數(shù)據(jù)還顯示，受益于半導體,、顯示面板,、PCB產(chǎn)業(yè)東移的趨勢，自 2011年至今,，光刻膠中國本土供應規(guī)模年華增長率達到11%,，高于全球平均 5%的增速。2019年中國光刻膠市場本土企業(yè)銷售規(guī)模約70億元,，全球占比約 10%,，發(fā)展空間巨大。目前,，中國本土光刻膠以PCB用光刻膠為主,，平板顯示、半導體用光刻膠供應量占比極低,。半導體光刻膠的涂敷方法主要是旋轉(zhuǎn)涂膠法,，具體可以分為靜態(tài)旋轉(zhuǎn)法和動態(tài)噴灑法。蘇州黑色光刻膠溶劑

光刻膠所屬的微電子化學品是電子行業(yè)與化工行業(yè)交叉的領域,，是典型的技術密集行業(yè),。蘇州黑色光刻膠溶劑

光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光,、電子束,、離子束、X射線等的照射或輻射,，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料,。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體,。在光刻工藝過程中,，用作抗腐蝕涂層材料,。半導體材料在表面加工時，若采用適當?shù)挠羞x擇性的光刻膠,，可在表面上得到所需的圖像,。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類,。在光刻膠工藝過程中,，涂層曝光、顯影后,，曝光部分被溶解,，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠,。如果曝光部分被保留下來,，而未曝光被溶解，該涂層材料為負性光刻膠,。按曝光光源和輻射源的不同,，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負性光刻膠）,、深紫外光刻膠,、X-射線膠、電子束膠,、離子束膠等,。光刻膠主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè) ,。光刻膠生產(chǎn)技術較為復雜,，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中,，對所使用光刻膠有嚴格的要求,。蘇州黑色光刻膠溶劑

上海蔚云化工有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才，集企業(yè)奇思,，創(chuàng)經(jīng)濟奇跡,，一群有夢想有朝氣的團隊不斷在前進的道路上開創(chuàng)新天地，繪畫新藍圖,，在上海市等地區(qū)的化工中始終保持良好的信譽,，信奉著“爭取每一個客戶不容易，失去每一個用戶很簡單”的理念,，市場是企業(yè)的方向,，質(zhì)量是企業(yè)的生命，在公司有效方針的領導下，全體上下,，團結一致,，共同進退，**協(xié)力把各方面工作做得更好,，努力開創(chuàng)工作的新局面,，公司的新高度，未來上海市蔚云化工供應和您一起奔向更美好的未來,，即使現(xiàn)在有一點小小的成績,，也不足以驕傲，過去的種種都已成為昨日我們只有總結經(jīng)驗,，才能繼續(xù)上路，讓我們一起點燃新的希望,，放飛新的夢想,！