中美貿易摩擦：光刻膠國產代替是中國半導體產業(yè)的迫切需要；自從中美貿易摩擦依賴,，中國大陸積極布局集成電路產業(yè),。在半導體材料領域，光刻膠作為是集成電路制程技術進步的“燃料”,，是國產代替重要環(huán)節(jié),，也是必將國產化的產品。光刻是半導制程的重要工藝,，對制造出更先進,，晶體管密度更大的集成電路起到決定性作用。每一代新的光刻工藝都需要新一代的光刻膠技術相匹配?，F(xiàn)在,，一塊半導體芯片在制造過程中一般需要進行10-50道光刻過程。其中不同的光刻過程對于光刻膠也有不一樣的具體需求,。光刻膠若性能不達標會對芯片成品率造成重大影響,。光刻膠行業(yè)長年被日本和美國專業(yè)公司壟斷。江蘇干膜光刻膠顯影
在雙重曝光工藝中,，若光刻膠可以接受多次光刻曝光而不在光罩遮擋的區(qū)域發(fā)生光化學反應,，就可以節(jié)省一次刻蝕，一次涂膠和一次光刻膠清洗流程,。由于在非曝光區(qū)域光刻膠仍然會接受到相對少量的光刻輻射,，在兩次曝光過程后,，非曝光區(qū)域接受到的輻射有可能超過光刻膠的曝光閾值E0，而發(fā)生錯誤的光刻反應,。如果非曝光區(qū)域的光刻膠在兩次曝光后接受到的輻射能量仍然小于其曝光閾值E0,，那么就是一次合格的雙重曝光。從這個例子可以看出,，與單次曝光不同,，雙重曝光要求光刻膠的曝光閾值和光刻光源的照射強度之間的權衡。江蘇負性光刻膠集成電路材料光刻膠屬于技術和資本密集型行業(yè),，目前主要技術主要掌握在日,、美等國際大公司手中，全球供應市場高度集中,。
根據2019年數(shù)據,，全球半導體光刻膠**大廠商占據全球光刻膠市場87%份額。其中日本占有四家,，分別是JSR,、東京應化(TOK)、信越化學與富士電子材料,，這四家的市場份額達到72%,，市場集中度明顯。在半導體光刻膠細分領域,，日本廠商在市場中具有較強話語權,。（1）g/i線光刻膠市場：日本的東京應化、JSR,、住友化學和富士膠片分別占據26%,、15%、15%,、8%的份額,，在全球市場占據64%份額。（2）KrF光刻膠市場：日本企業(yè)東京應化,、信越化學和JSR在全球KrF光刻膠細分市場分別占據34%,、22%和18%份額，合計占比達到74%,。（3）ArF光刻膠市場：日本企業(yè)JSR,、信越化學、東京應化和住友化學包攬前四,，分別占據全球ArF光刻膠細分市場25%,、23%、20%和15%市場份額,，合計市場份額達到83%,。（4）EUV光刻膠市場：較先進的EUV光刻膠領域完全被日本企業(yè)所主導，日本JSR,、東京應化,、信越化學成為EUV光刻膠市場可實現(xiàn)量產的廠商。目前引入EUV工藝的*有三星電子和臺積電兩家公司,。
抗蝕性即光刻膠材料在刻蝕過程中的抵抗力,。在圖形從光刻膠轉移到晶片的過程中，光刻膠材料必須能夠抵抗高能和高溫（>150℃）而不改變其原有特性 ,。在后續(xù)的刻蝕工序中保護襯底表面,。耐熱穩(wěn)定性、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力 ,。在濕法刻蝕中,，印有電路圖形的光刻膠需要連同硅片一同置入化學刻蝕液中，進行很多次的濕法腐蝕,。只有光刻膠具有很強的抗蝕性,，才能保證刻蝕液按照所希望的選擇比刻蝕出曝光所得圖形，更好體現(xiàn)器件性能,。在干法刻蝕中,，例如集成電路工藝中在進行阱區(qū)和源漏區(qū)離子注入時，需要有較好的保護電路圖形的能力,，否則光刻膠會因為在注入環(huán)境中揮發(fā)而影響到注入腔的真空度,。此時注入的離子將不會起到其在電路制造工藝中應起到的作用，器件的電路性能受阻,。我國光刻膠行業(yè)起步較晚,，生產能力主要集中在 PCB 光刻膠、TN/STN-LCD 光刻膠等中低端產品,。
質量控制技術：由于用戶對光刻膠的穩(wěn)定性,、一致性要求高，包括不同批次間的一致性,，通常希望對感光靈敏度,、膜厚的一致性保持在較高水平，因此,，光刻膠生產商不僅要配備齊全的測試儀器,，還需要建立一套嚴格的QA體系以保證產品的質量穩(wěn)定。原材料技術：光刻膠是一種經過嚴格設計的復雜,、精密的配方產品,，由成膜劑、光敏劑,、溶劑和添加劑等不同性質的原料,，通過不同的排列組合,，經過復雜、精密的加工工藝而制成,。因此,，光刻膠原材料的品質對光刻膠的質量起著關鍵作用。對于半導體化學化學試劑的純度,，際半導體設備和材料組織（SEMI）制定了國際統(tǒng)一標準,。光刻膠是集成電路制造的重要材料：光刻膠的質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素,。昆山i線光刻膠樹脂
碳酸甲酯型光刻膠：這種類型的光刻膠在制造高分辨率電路元件方面非常有用,。江蘇干膜光刻膠顯影
目前國內從事半導體光刻膠研發(fā)和生產的企業(yè)包括晶瑞股份、南大光電,、上海新陽,、北京科華等。相關企業(yè)以i 線,、g線光刻膠生產為主,，應用集成電路制程為350nm以上。在KrF光刻膠領域,，北京科華,、博康已實現(xiàn)量產。國內在ArF光刻膠領域產業(yè)化進程相對較快的企業(yè)為南大光電,，其先后承擔國家02專項“高分辨率光刻膠與先進封裝光刻膠產品關鍵技術研發(fā)項目”和“ArF光刻膠產品的開發(fā)和產業(yè)化項目”,，公司自主研發(fā)的ArF光刻膠產品成為國內通過客戶驗證的國產ArF光刻膠，其他國內企業(yè)尚處于研發(fā)和驗證階段,。江蘇干膜光刻膠顯影