維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性價比光束質(zhì)量檢測解決方案,，涵蓋掃描狹縫式,、相機(jī)式及 M2 測試模塊三大產(chǎn)品線： 掃描狹縫式光斑分析儀采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)，支持 190-2700nm 寬光譜范圍,，可測量 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率實現(xiàn)亞微米級光斑細(xì)節(jié)捕捉,。創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制使其無需外置衰減片即可直接測量近 10W 高功率激光,，適用于激光加工等高能量場景。 相機(jī)式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段,，支持 2D/3D 實時成像與動態(tài)分析,，可測量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）,。獨(dú)特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計實現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展，可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展,。 M2 測試模塊適配全系產(chǎn)品,，通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測量光束傳播參數(shù)（M2 因子、發(fā)散角,、束腰位置等）,，結(jié)合 BeamHere 軟件實現(xiàn)一鍵生成報告、多參數(shù)同步分析,。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計滿足光通信,、醫(yī)療、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測需求,，兼顧實驗室與產(chǎn)線在線監(jiān)測場景,。掃描和狹縫光斑分析儀怎么選？維度光斑分析儀廠家

Dimension-Labs 針對高功率激光檢測難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統(tǒng),，突破傳統(tǒng)面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制,，通過創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制實現(xiàn) 10W 級激光直接測量，配合可疊加的單次（DL-LBA-1）與雙次（DL-LBA-2）取樣配件形成多級衰減方案,，衰減達(dá) 10??,，可測功率超 1000W。該系統(tǒng)采用 45° 傾斜設(shè)計的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率,，雙次配件內(nèi)置雙片透鏡實現(xiàn) 0.16%-0.25% 取樣率,，均配備 C 口通用接口和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu)，支持任意角度入射光束檢測,。其優(yōu)化設(shè)計的 68mm（單次）和 53mm（雙次）取樣光程確保聚焦光斑完整投射至傳感器,，解決傳統(tǒng)外搭光路光程不足問題，緊湊結(jié)構(gòu)減少 70% 空間占用,。系統(tǒng)覆蓋 190-2500nm 寬光譜范圍,，通過 CE/FCC 認(rèn)證，可在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作,，已成功應(yīng)用于工業(yè)激光加工（熱影響區(qū)≤30μm）,、科研超快激光（皮秒脈沖分析）及醫(yī)療設(shè)備校準(zhǔn)（能量均勻性誤差＜2%），幫助客戶提升 3 倍檢測效率并降** 30% 檢測成本,。大功率光斑分析儀要多少錢光束質(zhì)量分析儀推薦,？維度光電 M2 因子測量模塊,；

Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列以國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)為，覆蓋 190-2700nm 全光譜,，可測 2.5μm 至 10mm 光束直徑,。其 0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)設(shè)備極限，捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié),。 技術(shù)優(yōu)勢： 雙模式智能適配：軟件自主切換刀口 / 狹縫模式,，解決 < 20μm 極小光斑與 10mm 大光斑的測量難題 高功率安全檢測：創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制，無需外置衰減片即可直接測量近 10W 激光 超分辨率成像：基于狹縫掃描原理,，完整還原光斑能量分布,，避免特征丟失 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動輪，通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù),，經(jīng)算法處理輸出 20 + 光束參數(shù),。緊湊模塊化設(shè)計適配工業(yè)與實驗室場景，通過 CE/FCC 認(rèn)證,，在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作,，應(yīng)用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,，助力客戶提升檢測精度與效率,。

相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場景的光斑尺寸、功率,、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度： 1. 光斑尺寸 相機(jī)式：受限于 sensor 尺寸（≤10mm）,，小光斑為 55μm（10 倍 5.5μm 像元）。 狹縫式：刀口模式可測小 2.5μm 光斑,，適合亞微米級檢測,。 2. 功率范圍 相機(jī)式： 6 片衰減片（BeamHere 標(biāo)配），可測 1W,，需控制功率 < 10μW/cm2,。 狹縫式：狹縫物理衰減機(jī)制支持近 10W 直接測量，無需外置衰減片,。 3. 脈沖激光 相機(jī)式：觸發(fā)模式同步捕獲完整單脈沖光斑,，兼容性強(qiáng)。 狹縫式：需匹配掃描頻率與激光重頻,，易丟失脈沖信息,。 4. 光斑形態(tài) 相機(jī)式：面陣傳感器保留非高斯光束（如貝塞爾光束）及高階橫模細(xì)節(jié)。 狹縫式：狹縫累加導(dǎo)致復(fù)雜光斑失真,，適合高斯或規(guī)則光斑,。 選擇建議 狹縫式：亞微米光斑、高功率或高斯光斑檢測。 相機(jī)式：大光斑,、脈沖激光或復(fù)雜非高斯光束分析,。 維度光電 BeamHere 系列提供兩種技術(shù)方案，適配實驗室與工業(yè)場景的全場景需求,。光斑的形狀和強(qiáng)度測量,。

維度光電-BeamHere光斑分析儀通過測量光束質(zhì)量參數(shù)，為激光技術(shù)在多領(lǐng)域的高效應(yīng)用提供支撐,。工業(yè)加工中,，其亞微米級光斑校準(zhǔn)能力幫助優(yōu)化切割、焊接與打標(biāo)工藝,，確保光束輪廓一致性,，保障加工質(zhì)量。醫(yī)療領(lǐng)域用于眼科準(zhǔn)分子激光手術(shù)設(shè)備校準(zhǔn),，實時監(jiān)測光束能量分布，確保手術(shù)安全性,?？蒲袌鼍爸兄С制っ爰壝}沖激光測量，為物理與材料提供高精度數(shù)據(jù),，推動新型激光器件,。光通信領(lǐng)域可實現(xiàn)光纖端面光斑形態(tài)分析，保障光信號傳輸穩(wěn)定性,。農(nóng)業(yè)與生命中,，通過分析激光誘變育種光束參數(shù)，優(yōu)化植物生長調(diào)控效率,。全系產(chǎn)品覆蓋200-2600nm寬光譜,，支持千萬級功率測量，結(jié)合M2因子測試模塊與AI分析軟件,，為各行業(yè)提供從光斑形態(tài)到傳播特性的全鏈路檢測方案,，助力客戶提升產(chǎn)品性能與生產(chǎn)效率?？捎糜谧詣踊O(shè)備集成的光斑質(zhì)量分析儀,。相機(jī)光斑分析儀作用

無干涉條紋的光斑質(zhì)量分析儀。維度光斑分析儀廠家

Dimension-Labs 推出的相機(jī)式光斑分析儀系列包含兩個型號,，覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,，實現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實時顯示與分析。其優(yōu)勢如下： 寬光譜覆蓋與動態(tài)分析 單臺設(shè)備即可滿足 400-1700nm 全波段測量需求,，支持 2D 光斑實時成像與 3D 功率分布動態(tài)分析,。高幀率連續(xù)測量模式下，可實時捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖，為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試,、動態(tài)測試及時間監(jiān)控提供直觀數(shù)據(jù)支持,。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器的成像原理，可測量非高斯分布光束（如平頂,、貝塞爾光束）及含高階橫模的復(fù)雜光斑,，突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié)系統(tǒng) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片,，通過獨(dú)特的轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,，可測功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設(shè)計簡化操作流程,，兼顧寬量程與高精度需求,。 科研級功能拓展 采用模塊化可拆卸設(shè)計，光斑分析相機(jī)與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用,。拆卸后的相機(jī)兼容通用驅(qū)動軟件,，支持科研成像、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用,，實現(xiàn)工業(yè)檢測與實驗室的一機(jī)多用,。維度光斑分析儀廠家