在激光應(yīng)用領(lǐng)域，高功率光束檢測(cè)一直是個(gè)難題,。傳統(tǒng)面陣傳感器十分靈敏，在每平方厘米約 10μW 的功率水平下就會(huì)飽和,，常規(guī)激光器功率遠(yuǎn)超此強(qiáng)度,，不衰減光束不僅無法測(cè)量光斑信息，還可能損壞設(shè)備,。維度光電為此推出 BeamHere 光斑分析儀系列及適配的高功率光束取樣系統(tǒng),。其掃描狹縫式光斑分析儀采用創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制，可直接測(cè)量近 10W 的高功率激光,，無需額外衰減片,。在此基礎(chǔ)上，還推出單次取樣與雙次取樣兩款衰減配件,，可組裝疊加形成多次取樣系統(tǒng)。與合適衰減片搭配,，可測(cè)功率超 1000W,。單次取樣配件型號(hào) DL - LBA - 1，45° 傾斜設(shè)計(jì),，取樣率 4% - 5%,，有 C 口安裝方式和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu)，能測(cè)量任意角度入射激光,；雙次取樣配件型號(hào) DL - LBA - 2，內(nèi)部緊湊安裝兩片取樣透鏡,，取樣率 0.16% - 0.25%,，可應(yīng)對(duì) 400W 功率光束，多面體結(jié)構(gòu)有多個(gè)支撐安裝孔位,。組合安裝配件可進(jìn)一步衰減更高功率激光，大衰減程度達(dá) 10??,。而且其緊湊結(jié)構(gòu)的取樣光程能滿足聚焦光斑測(cè)量需求,，單次取樣 68mm，雙次取樣 53mm,，為各類激光應(yīng)用場(chǎng)景的檢測(cè)提供了方案,。光束質(zhì)量M2怎么測(cè)量,？大靶面光斑分析儀操作

維度光電BeamHere 光斑分析儀系列，提供全場(chǎng)景激光光束質(zhì)量分析解決方案,。產(chǎn)品覆蓋 190-2700nm 光譜，包括掃描狹縫式和相機(jī)式技術(shù),，實(shí)現(xiàn)亞微米至毫米級(jí)光斑測(cè)量,。掃描狹縫式支持 2.5μm-10mm 光斑檢測(cè),，具備 0.1μm 分辨率,，適用于高功率激光,。相機(jī)式提供 400-1700nm 響應(yīng),，實(shí)現(xiàn) 2D/3D 成像分析,，測(cè)量功率范圍 1μW-1W,。M2 因子測(cè)試模塊基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)，評(píng)估光束質(zhì)量,。軟件提供自動(dòng)化分析和標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告,。技術(shù)創(chuàng)新包括正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu)和適應(yīng)復(fù)雜光斑的面陣傳感器,。產(chǎn)品適用于光束整形檢驗(yàn)、光鑷系統(tǒng)檢測(cè)和準(zhǔn)直監(jiān)測(cè),。結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)優(yōu)化,，通過 CE/FCC 認(rèn)證，應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域,，助力光束質(zhì)量分析和工藝優(yōu)化。相機(jī)光斑分析儀原理可用于自動(dòng)化設(shè)備集成的光斑質(zhì)量分析儀,。

維度光電致力于激光領(lǐng)域的應(yīng)用,，將展示一系列針對(duì)千瓦級(jí)高功率,、微米級(jí)小光斑以及脈沖激光的光束質(zhì)量測(cè)量解決方案。在此次展示中,，我們將拆解光斑分析儀的全系列產(chǎn)品,，深度剖析其技術(shù),，從光學(xué)原理到智能算法,，為您層層揭秘,。通過實(shí)際操作演示，直觀展現(xiàn)產(chǎn)品在復(fù)雜工況下的良好的穩(wěn)定性和超高測(cè)量精度,。 我們將詳細(xì)介紹光斑分析儀的工作原理,，包括其光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、信號(hào)處理技術(shù)以及數(shù)據(jù)處理算法等環(huán)節(jié),。同時(shí),，我們還將展示光斑分析儀在不同應(yīng)用場(chǎng)景中的表現(xiàn),，例如在工業(yè)生產(chǎn)、科研探索以及質(zhì)量檢測(cè)等方面的實(shí)際應(yīng)用案例,。通過這些案例,，您可以了解到光斑分析儀如何在各種復(fù)雜環(huán)境下保持高穩(wěn)定性和高測(cè)量精度。 此外,，針對(duì)工業(yè)生產(chǎn)和科研探索的不同需求,，我們還將分享一系列精心打造的一站式完備方案。這些方案不僅包括光斑分析儀,，還涵蓋了其他相關(guān)設(shè)備和軟件,，旨在為您提供專業(yè)的技術(shù)支持和服務(wù)。我們的目標(biāo)是幫助您突破技術(shù)瓶頸,，在激光領(lǐng)域取得新的突破,，從而推動(dòng)整個(gè)行業(yè)的發(fā)展。

維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列,，整合掃描狹縫式,、相機(jī)式及 M2 測(cè)試模塊三大產(chǎn)品線，為激光光束質(zhì)量檢測(cè)提供全場(chǎng)景解決方案,。 掃描狹縫式光斑分析儀刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),，覆蓋 190-2700nm 寬光譜，支持 2.5μm-10mm 光束直徑測(cè)量,。0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié),，無需外置衰減片即可直接測(cè)量近 10W 高功率激光，適用于激光加工,、醫(yī)療設(shè)備等高能量場(chǎng)景,。 相機(jī)式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段，支持 2D/3D 實(shí)時(shí)成像與動(dòng)態(tài)分析,，可測(cè)量非高斯光束（如平頂,、貝塞爾光束）。獨(dú)特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,，可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展,。 M2 測(cè)試模塊適配全系產(chǎn)品,，通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測(cè)量光束傳播參數(shù)（M2 因子,、發(fā)散角、束腰位置等），結(jié)合 BeamHere 軟件實(shí)現(xiàn)一鍵生成報(bào)告,、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)滿足光通信,、醫(yī)療,、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測(cè)需求,，兼顧實(shí)驗(yàn)室與產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè)場(chǎng)景。如何利用光斑分析儀和 M2 因子測(cè)量模塊評(píng)估激光質(zhì)量,？

Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列以國(guó)內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)為,，覆蓋 190-2700nm 全光譜，可測(cè) 2.5μm 至 10mm 光束直徑,。其 0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)設(shè)備極限,，捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié)。 技術(shù)優(yōu)勢(shì)： 雙模式智能適配：軟件自主切換刀口 / 狹縫模式,，解決 < 20μm 極小光斑與 10mm 大光斑的測(cè)量難題 高功率安全檢測(cè)：創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制,，無需外置衰減片即可直接測(cè)量近 10W 激光 超分辨率成像：基于狹縫掃描原理，完整還原光斑能量分布,，避免特征丟失 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪,，通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出 20 + 光束參數(shù),。緊湊模塊化設(shè)計(jì)適配工業(yè)與實(shí)驗(yàn)室場(chǎng)景,，通過 CE/FCC 認(rèn)證，在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作,，應(yīng)用于激光加工,、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域，助力客戶提升檢測(cè)精度與效率,。掃描狹縫光斑分析儀有國(guó)產(chǎn)的嗎,？國(guó)產(chǎn)光斑分析儀操作

極小光斑測(cè)量的光斑分析儀。大靶面光斑分析儀操作

Dimension-Labs維度光電重磅推出Beamhere光斑分析儀系列產(chǎn)品,配合通用軟件實(shí)現(xiàn)完整的光束質(zhì)量分析功能,。 光斑能量分布與光東發(fā)散角,、M2因子是激光光東質(zhì)量檢測(cè)中的組成部分,高效的測(cè)量與分析是充分利用激光的前提。Beamhere系列產(chǎn)品功能完善,能夠?qū)馐?、聚焦光斑與光束準(zhǔn)直等場(chǎng)景進(jìn)行檢驗(yàn)評(píng)估,并提供符ISO11146標(biāo)準(zhǔn)所規(guī)定的光斑參數(shù),如光東寬度,、峰值中心與橢圓率等。系列產(chǎn)品均可選配M2因子測(cè)試模塊,實(shí)現(xiàn)光東傳播方向上的束腰位置,、光東發(fā)散角與M2因子的測(cè)量,。BeamHere把對(duì)于激光光束的評(píng)價(jià)進(jìn)行量化,并由軟件一鍵輸出測(cè)試報(bào)告,且高效的完成光束分析。大靶面光斑分析儀操作