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激光發(fā)散角光斑分析儀操作

來源: 發(fā)布時間:2025-04-18

Dimension-Labs 光斑分析儀系列采用差異化設計:掃描狹縫式側重高功率場景(千萬級功率),,通過物理衰減機制實現安全測量,衰減級數達 10?:1,,無需外置衰減片,;相機式則主打寬光譜(200-2600nm)與實時成像功能,支持 100fps 高速連拍。相較于傳統(tǒng)設備,,其 0.1μm 分辨率提升 10 倍以上,,可解析直徑小于 5μm 的亞微米級光斑;M2 測試模塊支持光束傳播特性動態(tài)分析,,通過滑軌式掃描獲取 100 + 測量點數據,。軟件集成 AI 算法,可自動識別光斑模式,,率達 99.7%,,將人工分析效率提升 90%,單組數據處理時間從 20 分鐘縮短至 2 分鐘,。激光發(fā)散角怎么測,,維度光電M2測量系統(tǒng)。激光發(fā)散角光斑分析儀操作

光斑分析儀

維度光電光束質量測量解決方案基于兩大技術平臺: 掃描狹縫式系統(tǒng):采用正交狹縫轉動輪結構,,通過 ±90° 旋轉實現 XY 軸同步掃描,,結合刀口 / 狹縫雙模式切換,突破亞微米級光斑檢測極限,。光學系統(tǒng)集成高靈敏度光電探測器,,配合高斯擬合算法,實現 0.1μm 分辨率與 ±0.8% 測量重復性,。 相機式成像系統(tǒng):搭載背照式 CMOS 傳感器(量子效率 95%@500-1000nm),,結合非球面透鏡組消除畸變,支持皮秒級觸發(fā)同步與全局快門技術,,捕捉單脈沖光斑形態(tài),。算法通過二階矩法計算 M2 因子,測量精度達 ±0.3%,。 創(chuàng)新突破: 狹縫物理衰減機制實現 10W 級激光直接測量 面陣傳感器動態(tài)范圍擴展技術支持 1μW-1W 寬功率檢測 AI 缺陷診斷模型自動識別光斑異常(率 97.2%)可見光光斑分析儀發(fā)展可用于自動化設備集成的光斑質量分析儀。

激光發(fā)散角光斑分析儀操作,光斑分析儀

維度光電-BeamHere 光斑分析儀憑借高精度光束參數測量能力,,為激光技術在各領域的創(chuàng)新應用提供支持,。在工業(yè)制造中,其亞微米級光斑校準功能幫助優(yōu)化激光切割,、焊接與打標工藝,,確保光束能量分布均勻性,提升加工一致性,。醫(yī)療領域中,,BeamHere 用于眼科準分子激光設備的光束形態(tài)監(jiān)測,通過實時分析能量分布與光斑穩(wěn)定性,,保障手術精度與安全性,。科研場景下,該設備支持超短脈沖激光的時空特性,,為新型激光器與光束整形技術突破提供數據支撐,。光通信領域,BeamHere 可檢測光纖端面光斑質量,,優(yōu)化光信號耦合效率,,確保通信系統(tǒng)性能穩(wěn)定。全系產品覆蓋 200-2600nm 寬光譜范圍,,支持千萬級功率測量,,結合 M2 因子分析與 AI 算法,為客戶提供從光束診斷到工藝優(yōu)化的全流程解決方案,。

Dimension-Labs 推出 Beamhere 系列光斑分析儀,,通過配套通用軟件構建完整光束質量評估體系。該系統(tǒng)集成光斑能量分布測繪,、發(fā)散角測量及 M2 因子計算三大功能,,可有效分析光束整形、聚焦及準直效果,。所有參數均符合 ISO11146 標準,,包括光斑寬度、質心偏移量和橢圓率等指標,。用戶可選配 M2 測試模塊,,實現光束傳播方向上的束腰定位、發(fā)散角測量及 M2 因子計算,,終通過軟件一鍵生成標準化測試報告,。BeamHere把對于激光光束的評價進?量化,并由軟件?鍵輸出測試報告,,精確且?效的完成光束分析,。掃描狹縫光斑分析儀有國產的嗎?

激光發(fā)散角光斑分析儀操作,光斑分析儀

維度光電BeamHere 光斑分析儀選型指南: 1. 光束特性分析 光斑尺寸:亞微米用狹縫式(2.5μm 精度),,毫米級用相機式(10mm 量程),。 功率等級:高功率用狹縫式(近 10W),微瓦級用相機式(適配衰減片),。 光束形態(tài):高斯用狹縫式(經濟),,非高斯用相機式(保留細節(jié))。 脈沖特性:單脈沖用相機式(觸發(fā)同步),,連續(xù)/高頻用狹縫式(匹配掃描頻率),。 2. 應用場景適配 工業(yè):高功率用狹縫式,動態(tài)監(jiān)測與校準用相機式,,組合方案覆蓋全流程,。 醫(yī)療:相機式監(jiān)測能量分布,,脈沖激光適配觸發(fā)模式確保精度。 科研:超短脈沖與復雜光束分析用相機式,,材料加工優(yōu)化結合狹縫式,。 光通信:光纖檢測用相機式,激光器表征用狹縫式高靈敏度測量,。 3. 功能擴展規(guī)劃 單一需求:以光斑尺寸與功率為,,如高功率 + 亞微米光斑選狹縫式。 復雜場景:雙技術組合(狹縫式 + 相機式),,實現全場景覆蓋,。 長期規(guī)劃:科研機構選全功能模塊(M2 因子測試、皮秒同步),,工業(yè)用戶選基礎款 + 定制接口,。可用于產線檢測的光斑分析儀,。光通信光斑分析儀

近場光斑測試方案,,推進半導體,硅光行業(yè)優(yōu)化升級,。激光發(fā)散角光斑分析儀操作

Dimension-Labs 推出 Beamhere 光束質量分析系統(tǒng),,針對激光加工、醫(yī)療設備等領域的光束質量評估需求,。該系列產品通過多維度檢測模塊,,可對光束能量分布進行實時可視化分析,同步獲取發(fā)散角,、M2 因子等參數,。支持光束整形效果驗證、聚焦光斑優(yōu)化及準直系統(tǒng)校準三大典型應用場景,,所有測試結果均符合 ISO11146 標準,。可選配的 M2 測試模塊可實現光束傳播特性的全程分析,,終由軟件自動生成量化評估報告,。 產品優(yōu)勢: 滿足測試需求的全系列產品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡單易用,,一鍵輸出測試報告。激光發(fā)散角光斑分析儀操作

標簽: 光斑分析儀