Dimension-Labs 為激光設(shè)備與生產(chǎn)企業(yè)推出 Beamhere 光束質(zhì)量管家,。該系統(tǒng)通過(guò)智能檢測(cè)模塊，可快速完成光斑能量分布測(cè)繪,、發(fā)散角計(jì)算及 M2 因子分析,，幫助用戶優(yōu)化光束整形效果、提升聚焦精度,。所有測(cè)試參數(shù)均符合 ISO11146 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn),，包含光斑寬度、質(zhì)心位置等指標(biāo),?？蛇x配的 M2 測(cè)試功能可動(dòng)態(tài)分析光束傳播特性，終由軟件自動(dòng)生成專業(yè)測(cè)試報(bào)告,，將傳統(tǒng)人工檢測(cè)效率提升 80% 以上,。 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)： 滿足測(cè)試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測(cè)試模塊 精心設(shè)計(jì)的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡(jiǎn)單易用,，一鍵輸出測(cè)試報(bào)告,。近場(chǎng)光斑測(cè)試方案，推進(jìn)半導(dǎo)體,，硅光行業(yè)優(yōu)化升級(jí),。狹縫光斑分析儀費(fèi)用是多少

維度光電BeamHere 光斑分析儀系列,，提供全場(chǎng)景激光光束質(zhì)量分析解決方案,。產(chǎn)品覆蓋 190-2700nm 光譜,，包括掃描狹縫式和相機(jī)式技術(shù)，實(shí)現(xiàn)亞微米至毫米級(jí)光斑測(cè)量,。掃描狹縫式支持 2.5μm-10mm 光斑檢測(cè),，具備 0.1μm 分辨率，適用于高功率激光,。相機(jī)式提供 400-1700nm 響應(yīng),，實(shí)現(xiàn) 2D/3D 成像分析，測(cè)量功率范圍 1μW-1W,。M2 因子測(cè)試模塊基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn),，評(píng)估光束質(zhì)量。軟件提供自動(dòng)化分析和標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告,。技術(shù)創(chuàng)新包括正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu)和適應(yīng)復(fù)雜光斑的面陣傳感器,。產(chǎn)品適用于光束整形檢驗(yàn)、光鑷系統(tǒng)檢測(cè)和準(zhǔn)直監(jiān)測(cè),。結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)優(yōu)化,，通過(guò) CE/FCC 認(rèn)證，應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域,，助力光束質(zhì)量分析和工藝優(yōu)化,。大功率光斑分析儀是什么微弱信號(hào)光斑如何檢測(cè)？維度光電動(dòng)態(tài)范圍增強(qiáng)算法,，突破探測(cè)器極限,，同步清晰成像。

Dimension-Labs 針對(duì)高功率激光檢測(cè)難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統(tǒng),，突破傳統(tǒng)面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制,，通過(guò)創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn) 10W 級(jí)激光直接測(cè)量，配合可疊加的單次（DL-LBA-1）與雙次（DL-LBA-2）取樣配件形成多級(jí)衰減方案,，衰減達(dá) 10??,，可測(cè)功率超 1000W。該系統(tǒng)采用 45° 傾斜設(shè)計(jì)的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率,，雙次配件內(nèi)置雙片透鏡實(shí)現(xiàn) 0.16%-0.25% 取樣率,，均配備 C 口通用接口和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu)，支持任意角度入射光束檢測(cè),。其優(yōu)化設(shè)計(jì)的 68mm（單次）和 53mm（雙次）取樣光程確保聚焦光斑完整投射至傳感器,，解決傳統(tǒng)外搭光路光程不足問題，緊湊結(jié)構(gòu)減少 70% 空間占用,。系統(tǒng)覆蓋 190-2500nm 寬光譜范圍,，通過(guò) CE/FCC 認(rèn)證，可在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作，已成功應(yīng)用于工業(yè)激光加工（熱影響區(qū)≤30μm）,、科研超快激光（皮秒脈沖分析）及醫(yī)療設(shè)備校準(zhǔn)（能量均勻性誤差＜2%）,，幫助客戶提升 3 倍檢測(cè)效率并降** 30% 檢測(cè)成本。

維度光電 BeamHere 系列為激光光束質(zhì)量檢測(cè)提供高性價(jià)比解決方案： 掃描狹縫式：國(guó)內(nèi)刀口 / 狹縫雙模式切換,，覆蓋 190-2700nm 光譜,，可測(cè) 2.5μm-10mm 光束，0.1μm 分辨率實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)光斑分析,。創(chuàng)新狹縫衰減機(jī)制支持 10W 級(jí)高功率直接測(cè)量,，無(wú)需外置衰減片。 相機(jī)式：400-1700nm 寬譜響應(yīng),，支持實(shí)時(shí) 2D/3D 成像與非高斯光束測(cè)量,。六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)擴(kuò)展功率量程，可拆卸結(jié)構(gòu)兼顧工業(yè)檢測(cè)與科研成像需求,。 M2 測(cè)試模塊：通過(guò) ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法,，測(cè)量 M2 因子、發(fā)散角,、束腰位置等參數(shù),，適配全系產(chǎn)品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面,，支持一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告,，滿足光通信、醫(yī)療,、工業(yè)等多場(chǎng)景需求,。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高精度檢測(cè)，助力客戶提升效率與產(chǎn)品質(zhì)量,。光斑分析儀保修期多長(zhǎng),？維度光電整機(jī) 3 年質(zhì)保，部件 5 年延保,。

Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列采用國(guó)內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),，覆蓋 190-2700nm 寬光譜，可測(cè) 2.5μm-10mm 光束直徑,，0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)檢測(cè)極限,。其創(chuàng)新設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)三大優(yōu)勢(shì)： 雙模式自適應(yīng)檢測(cè) 通過(guò)軟件切換刀口 / 狹縫模式，分析 < 20μm 極小光斑形態(tài)或 10mm 大光斑能量分布,，全量程無(wú)盲區(qū),。 高功率直接測(cè)量 狹縫物理衰減機(jī)制允許單次通過(guò)狹縫區(qū)域光，無(wú)需外置衰減片即可安全測(cè)量近 10W 高功率激光,。 超分辨率成像 基于狹縫掃描原理實(shí)現(xiàn) 0.1μm 分辨率,，完整捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié),，避免能量分布特征丟失。 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪,，通過(guò)旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸功率數(shù)據(jù),，經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等 20 + 參數(shù),。緊湊模塊化設(shè)計(jì)適配多場(chǎng)景安裝,，通過(guò) CE/FCC 認(rèn)證,，適用于激光加工,、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域，助力客戶提升光束質(zhì)量檢測(cè)精度與效率,。如何利用光斑分析儀和 M2 因子測(cè)量模塊評(píng)估激光光束的質(zhì)量,？大功率光斑分析儀原理

如何利用光斑分析儀和 M2 因子測(cè)量模塊評(píng)估激光質(zhì)量？狹縫光斑分析儀費(fèi)用是多少

Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列以國(guó)內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)為,，覆蓋 190-2700nm 全光譜,，可測(cè) 2.5μm 至 10mm 光束直徑。其 0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)設(shè)備極限,，捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié),。 技術(shù)優(yōu)勢(shì)： 雙模式智能適配：軟件自主切換刀口 / 狹縫模式，解決 < 20μm 極小光斑與 10mm 大光斑的測(cè)量難題 高功率安全檢測(cè)：創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制,，無(wú)需外置衰減片即可直接測(cè)量近 10W 激光 超分辨率成像：基于狹縫掃描原理,，完整還原光斑能量分布，避免特征丟失 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪,，通過(guò)旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù),，經(jīng)算法處理輸出 20 + 光束參數(shù)。緊湊模塊化設(shè)計(jì)適配工業(yè)與實(shí)驗(yàn)室場(chǎng)景,，通過(guò) CE/FCC 認(rèn)證,，在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作，應(yīng)用于激光加工,、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,，助力客戶提升檢測(cè)精度與效率。狹縫光斑分析儀費(fèi)用是多少