探索LIMS在綜合第三方平臺(tái)建設(shè)
高校實(shí)驗(yàn)室引入LIMS系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì)
高校實(shí)驗(yàn)室中LIMS系統(tǒng)的應(yīng)用現(xiàn)狀
LIMS應(yīng)用在生物醫(yī)療領(lǐng)域的重要性
LIMS系統(tǒng)在醫(yī)藥行業(yè)的應(yīng)用
LIMS:實(shí)驗(yàn)室信息管理系統(tǒng)的模塊組成
如何選擇一款適合的LIMS?簡(jiǎn)單幾步助你輕松解決
LIMS:解決實(shí)驗(yàn)室管理的痛點(diǎn)
實(shí)驗(yàn)室是否需要采用LIMS軟件,?
LIMS系統(tǒng)在化工化學(xué)行業(yè)的發(fā)展趨勢(shì)
根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《2020-2024年中國(guó)剝離液行業(yè)市場(chǎng)供需現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示,,剝離液屬于濕電子化學(xué)品的重要品類,近幾年受新能源,、汽車電子等產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,我國(guó)濕電子化學(xué)品市場(chǎng)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)增,,2019年我國(guó)濕電子化學(xué)品市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到100億元左右,,需求量約為138萬(wàn)噸。隨著剝離液在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用增長(zhǎng),,剝離液產(chǎn)量以及市場(chǎng)規(guī)模隨之?dāng)U大,,2019年我國(guó)半導(dǎo)體用剝離液需求量約為2.1萬(wàn)噸,只占據(jù)濕電子化學(xué)品總需求量的1.5%左右,。從競(jìng)爭(zhēng)方面來(lái)看,,當(dāng)前全球剝離液的生產(chǎn)由濕電子化學(xué)品企業(yè)主導(dǎo),主要集中在歐美、日韓以及中國(guó),,代表性企業(yè)有德國(guó)巴斯夫,、德國(guó)漢高、美國(guó)霍尼韋爾,、美國(guó)ATMI公司,、美國(guó)空氣化工產(chǎn)品公司、三菱化學(xué),、京都化工,、住友化學(xué)、宇部興產(chǎn),、關(guān)東化學(xué),,以及中國(guó)的江陰江化微、蘇州瑞紅,、中國(guó)臺(tái)灣聯(lián)仕電子等企業(yè),。維信諾用的哪家的剝離液?揚(yáng)州中芯國(guó)際用剝離液推薦廠家
本發(fā)明**技術(shù)公開了一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置,,包括主支撐架,、橫向支架、伺服變頻電機(jī),、電機(jī)減速箱,、印刷品放置箱、表面印刷結(jié)構(gòu),、膠面剝離結(jié)構(gòu),,所述主支撐架上方設(shè)置有所述橫向支架,所述橫向支架上方設(shè)置有所述伺服變頻電機(jī),,所述卷邊輥一側(cè)安裝有膠面收卷輥,,所述膠面剝離結(jié)構(gòu)一側(cè)安裝有電加熱箱,所述電加熱箱下方安裝有熱風(fēng)噴頭,,所述熱風(fēng)噴頭下方安裝有干燥度感應(yīng)器,所述干燥度感應(yīng)器下方安裝有電氣控制箱,,所述電氣控制箱上方安裝有液晶操作面板,。有益效果在于:采用黏合方式對(duì)印刷品膠面印刷進(jìn)行剝離,,同時(shí)能夠?qū)τ∷⑵纺z面進(jìn)行回收,節(jié)約了大量材料,,降低了生產(chǎn)成本,。AprintedpeelingcompounddeviceforprintingsurfaceprintingTheinventiondisclosesaprintedpeelingstrippingcompounddevice,whichincludesamainsupportframe,alateralbracket,aservomotor,amotordecelerationbox,aprintingbox,【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置本**技術(shù)涉及印刷品加工設(shè)備領(lǐng)域,本**技術(shù)涉及一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置,。技術(shù)介紹膠面印又稱膠上印,。郵票圖案誤印在涂有背膠的一面。在郵票印刷過程中,不慎將郵票**涂膠紙放反而造成,。郵票膠面印后,。紹興什么剝離液聯(lián)系方式剝離液的主要成分是什么?
實(shí)施例1~6:按照表1配方將二甲基亞砜,、一乙醇胺,、四甲基氫氧化銨、硫脲類緩蝕劑,、聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑,、n-甲基吡咯烷酮和去離子水混合,得到用于疊層晶圓的光刻膠剝離液,。表1:注:含量中不滿100wt%的部分由去離子水補(bǔ)足余量,。以cna披露的光刻膠剝離液作為對(duì)照例,與實(shí)施例1~6所得用于疊層晶圓的光刻膠剝離液進(jìn)行比較試驗(yàn),,對(duì)面積均為300cm2的疊層晶圓上的光刻膠進(jìn)行剝離并分別測(cè)定剝離周期,、金屬鍍層的腐蝕率和過片量(剝離的面壁數(shù)量)。對(duì)比情況見表2:表2:剝離周期/s金屬腐蝕率/ppm過片量/片實(shí)施例1130~15015376實(shí)施例2130~15016583實(shí)施例3130~15017279實(shí)施例4130~15015675實(shí)施例5130~15016372實(shí)施例6130~15017681對(duì)照例180~20022664由表2可知,,本用于疊層晶圓的光刻膠剝離液通過加入硫脲類緩蝕劑和聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑,,使剝離效率有明顯的提升,對(duì)金屬腐蝕率降低20%以上,,而且讓過片量提高10%以上,。以上所述的*是本發(fā)明的一些實(shí)施方式。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說,,在不脫離本發(fā)明創(chuàng)造構(gòu)思的前提下,,還可以做出若干變形和改進(jìn),這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍,。
常在印刷電路板,,液晶顯示面板,半導(dǎo)體集成電路等工藝制造過程中,,需要通過多次圖形掩膜照射曝光及蝕刻等工序在硅晶圓或玻璃基片上形成多層精密的微電路,,形成微電路之后,進(jìn)一步用剝離液將涂覆在微電路保護(hù)區(qū)域上作為掩膜的光刻膠除去,。比如光電TFT-LCD生產(chǎn)工藝主要包含光阻涂布,、顯影、去光阻,、相關(guān)清洗作業(yè)四大階段,,其中在去光阻階段會(huì)產(chǎn)生部分剝離液。印制電路板生產(chǎn)工藝相當(dāng)復(fù)雜,。不僅設(shè)備和制造工藝的科技含量高,,工藝流程長(zhǎng),,用水量大,而且所用的化學(xué)藥品(包括各種添加劑)種類多,、用量大,。因此,在用減成法生產(chǎn)印刷線路板的過程中,,產(chǎn)污環(huán)節(jié)多,,種類繁雜,物料損耗大,??煞譃楦煞庸?設(shè)計(jì)和布線、模版制作,、鉆孔,、貼膜、曝光和外形加工等)和濕法加工(內(nèi)層板黑膜氧化,、去孔壁樹脂膩污,、沉銅、電鍍,、顯影,、蝕刻、脫膜,、絲印,、熱風(fēng)整平等)過程。其中在脫模(剝膜)工序?yàn)榱嗣摮龔U舊電路板表面殘留焊錫,,需用硝酸為氧化劑,氨基磺酸為穩(wěn)定劑,苯并三氮唑?yàn)殂~的緩蝕劑進(jìn)行操作,,整個(gè)工序中會(huì)產(chǎn)生大量的剝離液,有機(jī)溶劑成分較大,。如何選擇一家好的做剝離液的公司,。
光電行業(yè)的大力發(fā)展,致使剝離液被國(guó)內(nèi)外研究人員所關(guān)注及研究,,雖然在**網(wǎng)及技術(shù)網(wǎng)上對(duì)剝離液的闡述較少,,但當(dāng)前國(guó)內(nèi)與國(guó)外均在剝離液廢液如何利用及處置方面有了一定的成果,,。美國(guó)專利US7273560公布了包含單乙醇胺與二乙二醇單丁醚組合的光刻膠剝離液廢液中含有,、77%的二乙二醇單丁醚、3%的光刻膠和?,F(xiàn)有技術(shù)***采用的光刻膠剝離液廢液回收方法通常是通過薄膜蒸發(fā)器回收大部分的有機(jī)成分,,回收得到的有機(jī)組分或再經(jīng)脫色脫水等處理后可再次作為光刻膠剝離液應(yīng)用,。這種方法雖然流程簡(jiǎn)便,,但在使用薄膜蒸發(fā)器蒸發(fā)溶劑過程中,,光刻膠濃度達(dá)到一定程度后其傳熱傳質(zhì)效率快速下降,使溶劑回收效率大為降低,,處理能耗***升高,。且除去溶劑后殘留的光刻膠等物質(zhì)需要定期將其***干凈,進(jìn)而影響工藝操作效率,。另外,,美國(guó)專利US公布了在蝕刻產(chǎn)線上設(shè)置過濾回收裝置,通過粗孔和細(xì)孔過濾器的兩步組合過濾法除去光刻膠,,將光刻膠剝離液在產(chǎn)線上循環(huán)使用,。 哪家的剝離液比較好用點(diǎn)?紹興什么剝離液聯(lián)系方式
蘇州性價(jià)比高的剝離液,。揚(yáng)州中芯國(guó)際用剝離液推薦廠家
本發(fā)明涉及剝離液技術(shù)領(lǐng)域:,,更具體的說是涉及一種光刻膠剝離液再生方法。背景技術(shù)::電子行業(yè)飛速發(fā)展,,光刻膠應(yīng)用也越來(lái)越***,。在半導(dǎo)體元器件制造過程中,經(jīng)過涂敷-顯影-蝕刻過程,,在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后,,必須在除去殘余光刻膠的同時(shí)不能損傷任何基材,才能再進(jìn)行下道工序,。因此,,光刻膠的剝離質(zhì)量也有直接影響著產(chǎn)品的質(zhì)量。而隨著電子行業(yè)的發(fā)展以及高世代面板的面世,,光刻膠剝離液的使用越來(lái)越多,。剝離液廢液中含有光刻膠樹脂、水和某些金屬雜質(zhì),,而剝離液廢液的處理主要是通過焚燒或者低水平回收,,其大量的使用但不能夠有效地回收,對(duì)環(huán)境,、資源等都造成了比較大的影響,。有鑒于此,申請(qǐng)人研發(fā)出以下的對(duì)使用后的光刻膠剝離液回收及再生方法,。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的是提供一種光刻膠剝離液再生方法,。為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:本申請(qǐng)公開了一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液,,包括以下質(zhì)量組分:光刻膠剝離液再生方法,,包括以下步驟:s1:回收剝離液新液使用后的剝離液廢液,將剝離液廢液經(jīng)過蒸餾,、加壓工序,,得出剝離液廢液的純化液體,;純化液體中含有酰胺化合物、醇醚化合物以及胺化合物,;s2:制備添加劑,。揚(yáng)州中芯國(guó)際用剝離液推薦廠家
蘇州博洋化學(xué)股份有限公司致力于精細(xì)化學(xué)品,是一家生產(chǎn)型公司,。博洋化學(xué)致力于為客戶提供良好的高純雙氧水,,高純異丙醇,蝕刻液,,剝離液,,一切以用戶需求為中心,深受廣大客戶的歡迎,。公司注重以質(zhì)量為中心,,以服務(wù)為理念,秉持誠(chéng)信為本的理念,,打造精細(xì)化學(xué)品良好品牌,。博洋化學(xué)立足于全國(guó)市場(chǎng),依托強(qiáng)大的研發(fā)實(shí)力,,融合前沿的技術(shù)理念,,及時(shí)響應(yīng)客戶的需求。