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來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-04-22

    本實(shí)用新型屬于廢液處理領(lǐng)域,,尤其涉及一種酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)。背景技術(shù):酸性蝕刻液是用于印制電路板線路制作和多層板內(nèi)層制作的蝕刻液,,隨著電路板行業(yè)的迅速發(fā)展,,產(chǎn)生的廢液量越來越大,發(fā)掘的污染物種類也越來越多,,對環(huán)境造成巨大的危害,,此類問題也成為社會(huì)的重要課題。為了減少甚至杜絕此類污染的發(fā)生,,我們需要對酸性蝕刻液進(jìn)行回收循環(huán)利用,。目前對于酸性蝕刻廢液的再生利用大多采用化學(xué)或電化學(xué)的方法,但傳統(tǒng)的方法廢液中總銅的含量不斷增大,,比重增加,,必須排掉一部分廢液或者補(bǔ)加子液和水來控制參數(shù),這樣污染大,,影響環(huán)境,,而且還會(huì)造成銅和酸的浪費(fèi)。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題為如何通過簡單,、低成本的技術(shù)實(shí)現(xiàn)種酸性蝕刻液電解后廢液的再生利用。為解決上述技術(shù)問題,,本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的,,一種酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng),包括:電解槽,,具有一出液口和出氣口,,且內(nèi)置有酸性蝕刻液,用于對所述酸性蝕刻液進(jìn)行電解提銅,,產(chǎn)生氯氣,,得到電解后液;再生液調(diào)配缸,,具有進(jìn)液口和循環(huán)出液口,,所述進(jìn)液口通過管道與所述電解槽的出液口連接以接收電解后液;射流器,,其進(jìn)氣口通過導(dǎo)氣管與所述電解槽的出氣口連接以接收所述氯氣,。BOE蝕刻液哪家強(qiáng),蘇州博洋,。福建了解BOE蝕刻液推薦廠家

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    可通過蒸發(fā)或蒸餾或者通過對比給定溫度下的泡點(diǎn)或的蒸氣壓來實(shí)施共沸型化合物的確定,。在工業(yè)應(yīng)用的情況下使用共沸物是特別有利的,以使組合物再生,,例如當(dāng)其飽和有污染物的時(shí)候,。簡單蒸餾可回收初的共沸組合物,,而沒有各組分的任何分餾。而且,,2-甲基四氫呋喃(2-MeTHF)具有得自可再生原料(例如得自纖維素材料的糠醛)的優(yōu)點(diǎn),。因此,半纖維素多糖是含有5個(gè)碳原子的基于糖的聚合物,。當(dāng)在硫酸的存在下加熱半纖維素時(shí),,得到戊糖(含有5個(gè)碳原子的糖),例如木糖,。當(dāng)進(jìn)行木糖的熱脫水時(shí),,該木糖轉(zhuǎn)化為糠醛。除了低的GWP和它們的可生物降解性之外,,根據(jù)本發(fā)明的一些組合物是不可燃的(根據(jù)ASTMD3828標(biāo)準(zhǔn),,閉杯閃點(diǎn)高于55°C)并且特別適合作為清洗溶劑或作為用于加熱和冷卻應(yīng)用的制冷劑。它們也可用作發(fā)泡劑,。實(shí)驗(yàn)部分實(shí)施例1通過使用沸點(diǎn)測定技術(shù)測量液體混合物的沸點(diǎn),。首先,將適量的九氟丁基甲基醚裝料到沸點(diǎn)測定儀中,,然后,,使其沸騰。在達(dá)到平衡狀態(tài)之后,,記錄在大氣壓下的沸點(diǎn),。然后,將甲基四氫呋喃的等分試樣引入到所述沸點(diǎn)測定儀中并且在已達(dá)到平衡狀態(tài)之后再次記錄溫度,。表I給出九氟丁基甲基醚和甲基四氫呋喃的各種混合物在,。浙江應(yīng)用BOE蝕刻液廠家現(xiàn)貨什么制程中需要使用BOE蝕刻液。

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    enlasoperacionesquedebanserrealizadas,eintensificadasenlospuntosdeactuacióáánelmododeproteccióndeacuerdoconlaICMIEBT026ydeberánincluirensumarcadolatensiónyfrecuencianominales,lapotenciamáximayeltipodeláóndealumbradoserealizaráconcircuitosseparadosparacadaservicio,alumbradodemarquesina,báculosdealumbrado,alumbradodeedificiodeservicios,tomasdealumbrado,etc.,loscircuitosseránmonofásicos,protegidosconinterruptoresautomáticosunipolares,de15AmáóndelsistemadepuestaatierradeberácumplirconlasICMIEBT008,MIEBT021,MIEBT039delReglamentoElectrotéáunsistemacompletodepuestaatierraentodalainstalación,afindeasegurarunaadecuadaprotecciónpara:1.oSeguridaddelpersonalcontradescargasdelosequiposelé.oProteccióndelosequiposeléctricoscontraaverí.oProteccióncontralainflamacióndemezclascombustiblesporelectricidadestáálicasdelosequiposyaparatoseléctricosseconectaránatierraatravésdelconductordeproteccióás,entodosloscircuitosdefuerza,。

    然后將裝有蝕刻液的石英燒瓶放入加熱套中加熱,,待加熱到確定溫度后,放入氮化硅樣片進(jìn)行蝕刻,;蝕刻完后,,取出樣片采用熱超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊螅褂脵E圓偏振光譜儀對蝕刻前所取位置的6個(gè)點(diǎn)的厚度進(jìn)行測量,,計(jì)算蝕刻前后6個(gè)取點(diǎn)的厚度差值,,對比6個(gè)點(diǎn)之間的厚度差值的差異。與現(xiàn)有的使用磷酸作為蝕刻液相比,,本發(fā)明的有益效果是:醇醚類和表面活性劑的添加能明顯改善磷酸溶液的浸潤性和降低磷酸溶液的表面張力,,有效提高了蝕刻液對氮化硅層的潤濕性和蝕刻均勻性。具體實(shí)施方式下面結(jié)合具體實(shí)施例,,進(jìn)一步闡述本發(fā)明,,對本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)的說明,,但不限于這些實(shí)施例。本發(fā)明的蝕刻液配制時(shí)選擇的磷酸濃度為85%,,蝕刻溫度為160℃,,蝕刻時(shí)間為10min。先對所配制蝕刻液的表面張力進(jìn)行檢測,,然后將氮化硅樣片使用超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊?,進(jìn)行接觸角的測量;蝕刻前使用超純水清洗和氮?dú)獯蹈傻铇悠?,在氮化硅樣片上?個(gè)不同位置的點(diǎn)對其厚度進(jìn)行測量,;蝕刻完成后使用熱超純水清洗和氮?dú)獯蹈傻铇悠螅∨c蝕刻前相同位置的6個(gè)點(diǎn)進(jìn)行厚度測量,。實(shí)施例1本發(fā)明的實(shí)施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進(jìn)行配制,,先稱取濃度為85%的磷酸,然后稱取添加劑加入磷酸中,。選擇BOE蝕刻液,,實(shí)現(xiàn)高精度蝕刻效果。

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    其擴(kuò)散管深入到所述再生液調(diào)配缸中,;液體泵,其一端通過管道連接所述再生液調(diào)配缸的循環(huán)出液口,,另一端通過管道連接所述射流器的進(jìn)液口,用于將所述再生液調(diào)配缸中的電解后液通過所述管道抽取至所述射流器的進(jìn)液口,。進(jìn)一步地,,所述酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)還包括:曝氣裝置,用于向所述再生液調(diào)配缸中的電解后液輸送氣體以進(jìn)行攪拌,。進(jìn)一步地,,所述酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)還包括:后續(xù)處理系統(tǒng),用于向經(jīng)過所述再生液調(diào)配缸處理過的電解后液中加入氯化鈉,、鹽酸并攪拌均勻,。更進(jìn)一步地,所述電解槽的陽極為石墨電極,,陰極為鈦或鈦合金板狀電極,。更進(jìn)一步地,所述電解槽中陰極與陽極之間的距離為55mm,。更進(jìn)一步地,,所述電解槽的電流密度為300a/m2,。本實(shí)用新型所提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)通過簡單的結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了電解后廢液的再生利用,可節(jié)約能耗和藥品,,提高經(jīng)濟(jì)效益,。附圖說明圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖;圖2是本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖,。具體實(shí)施方式為了使本實(shí)用新型的目的,、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合附圖及實(shí)施例,,對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明,。應(yīng)當(dāng)理解。福建了解BOE蝕刻液推薦廠家