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來源: 發(fā)布時間:2025-06-02

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    本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,,通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑,來改善磷酸的浸潤性和表面張力,,使之均勻蝕刻氮化硅,。背景技術(shù):氮化硅是一種具有很高的化學(xué)穩(wěn)定性的絕緣材料,氫氟酸和熱磷酸能對氮化硅進行緩慢地腐蝕,。在半導(dǎo)體制造工藝中,,一般是采用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻,一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅,。但隨著半導(dǎo)體制程的飛速發(fā)展,,器件的特征尺寸越來越小,集成度越來越高,,對制造工藝中的各工藝節(jié)點要求也越來越高,,如蝕刻工藝中對蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留,、下層薄膜的選擇性等都有要求,。在使用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻時,晶圓表面會出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象,,體現(xiàn)于在蝕刻前后進行相同位置取點的厚度測量時,,檢測點之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題,,通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻,。技術(shù)實現(xiàn)要素:本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,,所述蝕刻液的組成包括:占蝕刻液總重量≥88%的磷酸,、%的醇醚類,、%的表面活性劑。進一步地,,本發(fā)明涉及上述蝕刻液,。

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    此處所描述的具體實施例用以解釋本實用新型,,并不用于限定本實用新型,。參照圖1,本實用新型實施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)包括:電解槽1,、射流器2,、再生液調(diào)配缸3,、液體泵4,,其中,電解槽1具有一出液口和出氣口,,且電解槽1中內(nèi)置有酸性蝕刻液,,電解槽1對該酸性蝕刻液進行電解提銅,產(chǎn)生氯氣,,得到電解后液,,并且,產(chǎn)生的氯氣通過位于上方的出氣口排出,,電解后液通過位于下方的出液口排出,。射流器2包括混氣室21和擴散管22,混氣室21和擴散管22之間為喉管,,混氣室21具有進氣口2a,、進液口2b、出液口2c,,擴散管22連接至出液口2c,,進氣口2a通過導(dǎo)氣管a與電解槽1的出氣口連接以接收氯氣,擴散管22深入到再生液調(diào)配缸3中,。再生液調(diào)配缸3具有進液口和循環(huán)出液口,,進液口通過管道b與電解槽1的出液口連接以接收電解后液。液體泵4的一端通過管道b連接再生液調(diào)配缸3的循環(huán)出液口,,另一端通過管道b連接射流器2的進液口2b,,用于將再生液調(diào)配缸3中的電解后液通過管道b抽取至射流器2的進液口2b。電解槽1電解提銅后,,陽極產(chǎn)生的氯氣通過導(dǎo)氣管a進入到射流裝置2的混氣室21內(nèi),,電解后液通過液體泵4打入到射流裝置2的混氣室21,,在混氣室21形成真空,在喉管處氯氣與電解后液劇烈混合,。河南什么是BOE蝕刻液推薦廠家