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安徽工業(yè)級BOE蝕刻液圖片

來源: 發(fā)布時間:2025-06-03

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    本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑,,來改善磷酸的浸潤性和表面張力,使之均勻蝕刻氮化硅,。背景技術(shù):氮化硅是一種具有很高的化學穩(wěn)定性的絕緣材料,,氫氟酸和熱磷酸能對氮化硅進行緩慢地腐蝕。在半導體制造工藝中,,一般是采用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻,,一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅。但隨著半導體制程的飛速發(fā)展,,器件的特征尺寸越來越小,,集成度越來越高,對制造工藝中的各工藝節(jié)點要求也越來越高,,如蝕刻工藝中對蝕刻后晶圓表面的均勻性,、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求,。在使用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻時,,晶圓表面會出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象,體現(xiàn)于在蝕刻前后進行相同位置取點的厚度測量時,,檢測點之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異,。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題,通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻,。技術(shù)實現(xiàn)要素:本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液,。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,所述蝕刻液的組成包括:占蝕刻液總重量≥88%的磷酸,、%的醇醚類,、%的表面活性劑。進一步地,,本發(fā)明涉及上述蝕刻液,。浙江一種BOE蝕刻液推薦貨源博洋 BOE 蝕刻液,,為微電子行業(yè)的發(fā)展提供獨具特色的個性化解決方案。

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    表%九氟丁基甲基醚和50重量%甲基四氫呋喃的液體混合物的分餾顯示出92重量%九氟丁基甲基醚和8重量%甲基四氫呋喃的共沸組合物,,其在°C的沸點,。實施例2如實施例1所述進行沸點測定方法。表II給出九氟丁基乙基醚和甲基四氫呋喃的各種混合物在,。表II九氟丁基乙基醚的重量%甲基四氫呋喃的重量%(°C)%九氟丁基乙基醚和50重量%甲基四氫呋喃的液體混合物的分餾顯示出%九氟丁基乙基醚和%甲基四氫呋喃的共沸組合物,,其在°C的沸點。清洗試驗的總體過程首先,,用FORANE141b對2X5cm的不銹鋼片材進行脫脂。這些片材各自在測試之前稱重,,其構(gòu)成皮重,。然后,在這些片材的單側(cè)上涂布油REDUCTELFSP460,。對該涂布有油的片材進行稱重,,并由與皮重的差值推算出涂布的油的量。接下來,,將該涂布有油的片材浸5入到含有100ml待評價組合物的燒杯中5分鐘,,不進行攪拌且無超聲。該片材一移出,,就在通風的情況下進行15分鐘的滴干(dripdry),,并且,在該15分鐘結(jié)束時,,通過稱重測定油的殘留量,。與油的初始量相比,計算移除的油的百分數(shù),。實施例3在使用九氟丁基甲基醚的組合物的情況下,,得到0%的油移除率。實施例4在使用包含8重量%的2-MeTHF和92重量%的九氟丁基甲基醚的組合物的情況下,。

    conunanormaeuropeaENoconunarecomendaciónCEIparaalgunosdelosmodosdeprotecciónsiguientes:1.oInmersiónenaceite?o?.2.oSobrepresióninterna?p?.3.oRellenopulverulento?q?.4.oEnvolventeantideflagrante?d?.5.oSeguridadaumentada?e?.6.oSeguridadintrínseca?i?.7.oEncapsulado?m?.orespaldadosporcertificadosdecontrolparaotrosmodosdeprotecciónaúnnonormalizadosenEspa?a,comoporejemplo:aparatosparazona2,tipo?n?,yaparatoseléctricosconmodosdeproteccióóódigodemarcadoserá?s?.Esmuyimportantetenerencuentaqueauncuandoatítuloindividualcualquiermaterialeléctricodispongadeloscertificadoscorrespondientes,perovayanposteriormentemontadosyformandopartedeunconjuntooequipoconcreto,dichoscertificadosnoseránválidos;anoserqueseinstalendeacuerdoconlasnormas,criterios,prescripcionesyrecomendacionesexigidasparaeláreadeinstalacióáuncertificadoglobalparacadaaparato,dondeseincluyenloscertificadosdeconformidaddecadaunodeloscomponenteseléctricos,。蘇州博洋專業(yè)生產(chǎn)BOE蝕刻液歡迎詢價。

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    該實施例中所含成分及各成分稱取的質(zhì)量顯示于表1,。添加劑為丙二醇丁醚,、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p,添加量分別為總質(zhì)量的%,、%,。實施例2本發(fā)明的實施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進行配制,先稱取濃度為85%的磷酸,,然后稱取添加劑加入磷酸中,,該實施例中所含成分及各成分稱取的質(zhì)量顯示于表1,。添加劑為三乙二醇乙醚、月桂酰氨乙基硫酸鈉,,添加量分別為總質(zhì)量的%,、%。實施例3本發(fā)明的實施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進行配制,,先稱取濃度為85%的磷酸,,然后稱取添加劑加入磷酸中,該實施例中所含成分及各成分稱取的質(zhì)量顯示于表1,。添加劑為三甘醇單丁醚,、月桂酰氨乙基硫酸鈉,添加量分別為總質(zhì)量的%,、%,。實施例4本發(fā)明的實施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進行配制,先稱取濃度為85%的磷酸,,然后稱取添加劑加入磷酸中,,該實施例中所含成分及各成分稱取的質(zhì)量顯示于表1。添加劑為二乙二醇單甲醚,、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p,,添加量分別為總質(zhì)量的%、%,。實施例5本發(fā)明的實施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進行配制,,先稱取濃度為85%的磷酸,然后稱取添加劑加入磷酸中,,該實施例中所含成分及各成分稱取的質(zhì)量顯示于表1,。BOE 蝕刻液(Buffered Oxide Etch)是一種在微加工和半導體制造過程中常用的蝕刻溶液。湖北電子級BOE蝕刻液訂做價格

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