某材料實(shí)驗(yàn)室利用 Polos 光刻機(jī)的亞微米級圖案化能力,，在鋁合金表面制備出仿荷葉結(jié)構(gòu)的超疏水涂層。其激光直寫技術(shù)在 20μm 間距的微柱陣列上疊加 500nm 的納米脊,，使材料表面接觸角達(dá) 165°,，滾動(dòng)角小于 3°。該涂層在海水環(huán)境中浸泡 30 天后,，防腐蝕性能較未處理表面提升 10 倍,。其靈活的圖案編輯功能還支持在同一樣品上實(shí)現(xiàn)超疏水與超親水區(qū)域的任意組合,，被用于微流控芯片的液滴定向輸運(yùn),，液滴驅(qū)動(dòng)電壓降低至傳統(tǒng)方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。Polos-BESM XL：130mm×130mm 曝光幅面，STL 模型直接導(dǎo)入,，微流控芯片制備周期縮短 40%,。四川PSP光刻機(jī)光源波長405微米

在制備用于柔性顯示的納米壓印模板時(shí)，Polos 光刻機(jī)的亞微米級定位精度（±50nm）確保了圖案的均勻復(fù)制,。某光電實(shí)驗(yàn)室使用該設(shè)備,，在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透鏡陣列，模板的圖案保真度達(dá) 99.8%,，邊緣缺陷率低于 0.1%,。基于此模板生產(chǎn)的柔性 OLED 背光模組,，亮度均勻性提升至 98%,，厚度減至 50μm，成功應(yīng)用于下一代折疊屏手機(jī),，相關(guān)技術(shù)已授權(quán)給三家面板制造商,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。廣東桌面無掩模光刻機(jī)分辨率1.5微米高頻元件驗(yàn)證：成功開發(fā)射頻器件與IDC電容器，加速國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破,。

德國 Polos 光刻機(jī)系列以其緊湊的設(shè)計(jì),，在有限的空間內(nèi)發(fā)揮著巨大作用。對于研究實(shí)驗(yàn)室,，尤其是空間資源緊張的高校和初創(chuàng)科研機(jī)構(gòu)來說,，設(shè)備的空間占用是重要考量因素。Polos 光刻機(jī)占用空間小的特點(diǎn),，使其能夠輕松融入各類實(shí)驗(yàn)室環(huán)境,。 盡管體積小巧，但它的性能卻毫不遜色,。無掩模激光光刻技術(shù)保障了高精度的圖案制作,，低成本的優(yōu)勢降低了科研投入門檻,。在小型實(shí)驗(yàn)室中，科研人員使用 Polos 光刻機(jī),，在微流體,、電子學(xué)等領(lǐng)域開展研究，成功取得多項(xiàng)成果,。從微納結(jié)構(gòu)制造到新型器件研發(fā),，Polos 光刻機(jī)證明了小空間也能蘊(yùn)藏大能量，為科研創(chuàng)新提供有力支持,。

可編程微流控芯片需要集成電路控制與流體通道,，傳統(tǒng)工藝需多次掩模對準(zhǔn)，良率only 30%,。Polos 光刻機(jī)的多材料同步曝光技術(shù),，支持在同一塊基板上直接制備金屬電極與 PDMS 通道，將良率提升至 85%,。某微系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室利用該特性,，開發(fā)出可實(shí)時(shí)切換流路的生化分析芯片，通過軟件輸入不同圖案,，10 分鐘內(nèi)即可完成從 DNA 擴(kuò)增到蛋白質(zhì)檢測的模塊切換,。該成果應(yīng)用于 POCT 設(shè)備，使現(xiàn)場快速檢測系統(tǒng)的體積縮小 60%,，檢測時(shí)間縮短至傳統(tǒng)方法的 1/3,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。Polos-BESM 光刻機(jī)：無掩模激光技術(shù),，成本降低 50%,，任意圖案輕松輸入，適配實(shí)驗(yàn)室微納加工,。

某分析化學(xué)實(shí)驗(yàn)室采用 Polos 光刻機(jī)開發(fā)了集成電化學(xué)傳感器的微流控芯片,。其多材料同步曝光技術(shù)在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極,，傳感器的檢測限達(dá) 1nM，較傳統(tǒng)電化學(xué)工作站提升 100 倍,。通過軟件輸入不同圖案,，可在 24 小時(shí)內(nèi)完成從葡萄糖檢測到重金屬離子分析的模塊切換。該芯片被用于即時(shí)檢測（POCT）設(shè)備,，使現(xiàn)場水質(zhì)監(jiān)測時(shí)間從 2 小時(shí)縮短至 10 分鐘,，相關(guān)設(shè)備已通過歐盟 CE 認(rèn)證。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。Polos-BESM XL：大尺寸加工空間,，保留緊湊設(shè)計(jì),，科研級精度實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)一次性成型。四川PSP光刻機(jī)光源波長405微米

Polos-BESM XL：加大加工幅面,，滿足中尺寸器件一次性成型需求,。四川PSP光刻機(jī)光源波長405微米

某半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室采用 Polos 光刻機(jī)開發(fā)氮化鎵（GaN）基高電子遷移率晶體管（HEMT）。其激光直寫技術(shù)在藍(lán)寶石襯底上實(shí)現(xiàn)了 50nm 柵極長度的precise曝光,，較傳統(tǒng)光刻工藝線寬偏差降低 60%,。通過自定義多晶硅柵極圖案，器件的電子遷移率達(dá) 2000 cm/(Vs),，擊穿電壓提升至 1200V,，遠(yuǎn)超商用產(chǎn)品水平。該技術(shù)還被用于 SiC 基功率器件的臺(tái)面刻蝕,，刻蝕深度均勻性誤差小于 ±3%,，助力我國新能源汽車電控系統(tǒng)core器件的國產(chǎn)化突破。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。四川PSP光刻機(jī)光源波長405微米