EVG ® 720特征：

體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

專有SmartNIL ®技術(shù),，多使用聚合物印模技術(shù)

集成式壓印,，UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式

可選的頂部對準(zhǔn)

可選的迷你環(huán)境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性

系統(tǒng)外殼，可實(shí)現(xiàn)比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

75至150毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準(zhǔn)：可選的頂部對準(zhǔn)

自動分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場**的晶圓鍵合技術(shù),。福建納米壓印廠家

      **的衍射波導(dǎo)設(shè)計(jì)商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group（EVG）進(jìn)行合作,，EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設(shè)備的**供應(yīng)商，以帶來高性能增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)（ AR）波導(dǎo)以當(dāng)今業(yè)界*低的成本進(jìn)入大眾市場,。波導(dǎo)是可穿戴AR的關(guān)鍵光學(xué)組件,。

      WaveOptics首席執(zhí)行官David Hayes評論：“這一合作伙伴關(guān)系標(biāo)志著增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)行業(yè)的轉(zhuǎn)折點(diǎn)，是大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)解決方案的關(guān)鍵步驟,，這是迄今為止尚無法實(shí)現(xiàn)的能力,。” EVG的專業(yè)知識與我們可擴(kuò)展的通用技術(shù)的結(jié)合將使到明年年底,，AR終端用戶產(chǎn)品的市場價(jià)格將低于600美元,?！斑@項(xiàng)合作是釋放AR可穿戴設(shè)備發(fā)展的關(guān)鍵,；我們共同處于有利位置，可以在AR中引入大眾市場創(chuàng)新，以比以往更低的成本開辟了可擴(kuò)展性的新途徑,?！?福建納米壓印廠家納米壓印設(shè)備可用來進(jìn)行熱壓花、加壓加熱,、印章,、聚合物、基板,、附加沖壓成型脫模,。

       通過中心提供的試驗(yàn)生產(chǎn)線基礎(chǔ)設(shè)施，WaveOptics將超越其客戶對下個(gè)季度的預(yù)期需求,，并有一條可靠的途徑將大批量生產(chǎn)工藝和設(shè)備轉(zhuǎn)移至能夠大規(guī)模生產(chǎn)波導(dǎo)的指定設(shè)施適用于全球前列OEM品牌,。

      WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實(shí)現(xiàn)的價(jià)格提供高性能，商用波導(dǎo)來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾,。利用EVG在批量生產(chǎn)設(shè)備和工藝技術(shù)方面的專業(yè)知識,，到2019年，AR終端用戶產(chǎn)品將以不到600美元的價(jià)格進(jìn)入市場,，這是當(dāng)今行業(yè)中的*低價(jià)位,。

IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

應(yīng)用：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進(jìn)行微成型和納米壓印工藝，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡,。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始,，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng),。此外,，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識,。EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力,。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機(jī)制。

高 效,，強(qiáng)大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,，擁有高度均勻圖案層和**少殘留層，易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量,。

EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng),，從碎片到比較大150毫米。

該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,，例如真空,，軟，硬和接近曝光模式,，并且可以選擇背面對準(zhǔn),。此外,，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）,。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間*為幾分鐘,。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求,，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。

EVG先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求,，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇,。福建納米壓印廠家

EVG ? 720是自動SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。福建納米壓印廠家

IQ Aligner UV-NIL特征：

用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用

用于全場納米壓印應(yīng)用

三個(gè)**控制的Z軸,，可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償

三個(gè)**控制的Z軸,，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準(zhǔn)和紫外線粘合功能

IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型

曝光源：汞光源

對準(zhǔn)：≤±0.5微米

自動分離：支持的

前處理：涂層：水坑點(diǎn)膠（可選）

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

福建納米壓印廠家