IQ Aligner®：用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

■用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用

■用于全場納米壓印應(yīng)用

■三個(gè)**控制的Z軸,，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV）,，并在壓模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償

■粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能

紫外線壓印_紫外線固化

印章

防紫外線基材

附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記

用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后,，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián),。

μ-接觸印刷

軟印章

基板上的材料

領(lǐng)取物料，物料轉(zhuǎn)移,，刪除印章

EVG ? 720是自動(dòng)SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng),。晶圓片納米壓印保修期多久

對(duì)于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm,。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外,，還可以包括用于印章的釋放機(jī)構(gòu)。EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可提供均勻的接觸力,，以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印,，該卡盤支持軟性和硬性印模。

EVG610特征：

頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力

高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)

自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

電動(dòng)和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版

附加功能：

鍵對(duì)準(zhǔn)

紅外對(duì)準(zhǔn)

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

四川納米壓印推薦型號(hào)EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線。

EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，從碎片到比較大150毫米,。

該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,，例如真空，軟,，硬和接近曝光模式,，并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外,，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間*為幾分鐘,。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級(jí)別的所有需求,，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統(tǒng),。

用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù),，在100毫米范圍內(nèi)。

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名,，它以**小的占位面積提供了***的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù),。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時(shí)間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動(dòng)批量生產(chǎn)）的理想解決方案,。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,，例如真空，軟,，硬和接近曝光模式,，以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。此外,，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外,，半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù),。

納米壓印設(shè)備可用來進(jìn)行熱壓花、加壓加熱,、印章,、聚合物、基板,、附加沖壓成型脫模,。

IQ Aligner UV-NIL 自動(dòng)化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

應(yīng)用：用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進(jìn)行微成型和納米壓印工藝，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始,，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng)。此外,，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識(shí)。EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力,。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機(jī)制,。

EVG ? 7200是自動(dòng)SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。襯底納米壓印可以免稅嗎

EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng),。晶圓片納米壓印保修期多久

UV納米壓印光刻系統(tǒng)

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

■高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)

■自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

■電動(dòng)和程序控制的曝光間隙

■支持***的UV-LED技術(shù)

■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA：自動(dòng)化的全場納米壓印解決方案,，適用于第3代基材

■體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)

■集成式壓印,，UV固化,，脫模和工作印模制作

■盒帶間自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式

■適用于所有市售壓印材料的開放平臺(tái)

晶圓片納米壓印保修期多久

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型的公司,。公司自成立以來,，以質(zhì)量為發(fā)展，讓匠心彌散在每個(gè)細(xì)節(jié),，公司旗下磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛,。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競爭力，努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識(shí),，遵守行業(yè)規(guī)范,，植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊,、服務(wù)為榮,、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營理念,，全力打造公司的重點(diǎn)競爭力,。