集成化光刻系統(tǒng)

HERCULES光刻量產(chǎn)軌道系統(tǒng)通過完全集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合了掩模對準和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理功能的高度自動化,，完善了EVG光刻產(chǎn)品系列,。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺，將EVG已建立的光學掩模對準技術(shù)與集成的清潔,，光刻膠涂層,，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合。這使HERCULES平臺變成了“一站式服務(wù)”,，在這里將經(jīng)過預(yù)處理的晶圓裝載到工具中,，然后返回完全結(jié)構(gòu)化的經(jīng)過處理的晶圓。目前可以預(yù)定的型號為：HERCULES,。請訪問官網(wǎng)獲取更多的信息,。

EVG的掩模對準目標是適用于高達300 mm的不同的厚度，尺寸,，形狀的晶圓和基片,。功率器件光刻機可以用于研發(fā)嗎

IQ Aligner® 自動化掩模對準系統(tǒng)

特色：EVG ® IQ定位儀®平臺用于自動非接觸近距離處理而優(yōu)化的用于晶片尺寸高達200毫米。

技術(shù)數(shù)據(jù)：IQ Aligner是具有高度自動化程度的非接觸式接近光刻平臺,，可滿足將生產(chǎn)線中的掩模污染降至**/低并增加掩模壽命和產(chǎn)品良率的需求,。除了多種對準功能外，該系統(tǒng)還通過專門配置進行了廣/泛的安裝和現(xiàn)場驗證,，可自動處理和處理翹曲或變薄的晶圓,。標準的頂側(cè)或底側(cè)對準與集成的IR對準功能之間的混合匹配操作進一步拓寬了應(yīng)用領(lǐng)域，尤其是在與工程或粘合基板對準時,。該系統(tǒng)還通過快速響應(yīng)的溫度控制工具集支持晶片對準跳動控制,。 河北光刻機美元價HERCULES光刻機系統(tǒng)：全自動光刻跟/蹤系統(tǒng)，模塊化設(shè)計,，用于掩模和曝光,，集成了預(yù)處理和后處理能力。

EVG ® 150特征：晶圓尺寸可達300毫米

多達6個過程模塊

可自定義的數(shù)量-多達20個烘烤/冷卻/汽化堆

多達四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載

可用的模塊包括旋轉(zhuǎn)涂層,，噴涂,，NanoCoat?，顯影,，烘烤/冷卻/蒸氣/上等

EV集團專有的OmniSpray ®超聲波霧化技術(shù)提供了****的處理結(jié)果,，當涉及到極端地形的保形涂層

可選的NanoSpray?模塊實現(xiàn)了300微米深圖案的保形涂層,，長寬比**/高為1:10，垂直側(cè)壁

廣/泛的支持材料

烘烤模塊溫度高達250°C

Megasonic技術(shù)用于清潔,，聲波化學處理和顯影,，可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘

EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)附加模塊選項

預(yù)對準：光學/機械

ID讀取器：條形碼，字母數(shù)字,，數(shù)據(jù)矩陣

系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR

分配選項：

各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達52000 cP的粘度

液體底漆/預(yù)濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

EVG光刻機**/新的曝光光學增強功能是對LED燈的設(shè)置。

IQ Aligner®NT曝光設(shè)定：硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式

楔形補償：全自動軟件控制,；非接觸式

IQ Aligner®NT曝光選項：間隔曝光/洪水曝光

先進的對準功能：自動對準

暗場對準功能/完整的明場掩模移動（FCMM）

大間隙對準

跳動控制對準

IQ Aligner®NT系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR

實時遠程訪問,，診斷和故障排除

如果您需要確認準確的產(chǎn)品的信息,，請聯(lián)系我們。如果需要鍵合機,，請看官網(wǎng)信息,。 HERCULES可以配置成處理彎曲，翹曲,，變薄或非SEMI標準形狀的晶片和基片,。上海HVM光刻機

EVG光刻機設(shè)備，可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,，并輔以其用于從上到下側(cè)對準驗證的計量工具,。功率器件光刻機可以用于研發(fā)嗎

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)特征：

生產(chǎn)平臺以**小的占地面積結(jié)合了EVG精密對準和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢；

多功能平臺支持各種形狀,，尺寸,，高度變形的模具晶片甚至托盤的全自動處理；

高達52,000 cP的涂層可制造高度高達300微米的超厚光刻膠特征,；

CoverSpin TM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性,；

OmniSpray ®涂覆用于高地形表面的優(yōu)化的涂層；

納流®涂布,，并通過結(jié)構(gòu)的保護,；

自動面膜處理和存儲；

光學邊緣曝光和/或溶劑清潔以去除邊緣顆粒,；

使用橋接工具系統(tǒng)對多種尺寸的晶圓進行易碎,，薄或翹曲的晶圓處理；

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng),；

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）,。 功率器件光刻機可以用于研發(fā)嗎

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表,，以科技創(chuàng)新實現(xiàn)***管理的追求。公司自創(chuàng)立以來,，投身于磁記錄,，半導體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),，是儀器儀表的主力軍。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終以本分踏實的精神和必勝的信念,，影響并帶動團隊取得成功,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表行業(yè)。滿足市場需求,，提高產(chǎn)品價值,，是我們前行的力量。