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MEMS鍵合機(jī)微流控應(yīng)用

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-03-06

EVG®810LT技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑(基板尺寸)

50-200,、100-300毫米

LowTemp?等離子活化室

工藝氣體:2種標(biāo)準(zhǔn)工藝氣體(N2和O2)

通用質(zhì)量流量控制器:自校準(zhǔn)(高達(dá)20.000sccm)

真空系統(tǒng):9x10-2mbar

腔室的打開(kāi)/關(guān)閉:自動(dòng)化

腔室的加載/卸載:手動(dòng)(將晶圓/基板放置在加載銷(xiāo)上)



可選功能:

卡盤(pán)適用于不同的晶圓尺寸

無(wú)金屬離子活化

混合氣體的其他工藝氣體

帶有渦輪泵的高真空系統(tǒng):9x10-3mbar基本壓力



符合LowTemp?等離子活化粘結(jié)的材料系統(tǒng)

Si:Si/Si,Si/Si(熱氧化,,Si(熱氧化)/

Si(熱氧化)

TEOS/TEOS(熱氧化)

絕緣體鍺(GeOI)的Si/Ge

Si/Si3N4

玻璃(無(wú)堿浮法):硅/玻璃,,玻璃/玻璃

化合物半導(dǎo)體:GaAs,GaP,,InP

聚合物:PMMA,,環(huán)烯烴聚合物

用戶可以使用上述和其他材料的“蕞佳已知方法”配方(可根據(jù)要求提供完整列表)



鍵合機(jī)供應(yīng)商EVG擁有超過(guò)25年的晶圓鍵合機(jī)制造經(jīng)驗(yàn),擁有累計(jì)2000多年晶圓鍵合經(jīng)驗(yàn)的員工,。MEMS鍵合機(jī)微流控應(yīng)用

1) 由既定拉力測(cè)試高低溫循環(huán)測(cè)試結(jié)果可以看出,該鍵合工藝在滿足實(shí)際應(yīng)用所需鍵合強(qiáng)度的同時(shí),,解決了鍵合對(duì)硅晶圓表面平整度和潔凈度要求極高,、對(duì)環(huán)境要求苛刻的問(wèn)題,。

2) 由高低溫循環(huán)測(cè)試結(jié)果可以看出,該鍵合工藝可以適應(yīng)復(fù)雜的實(shí)際應(yīng)用環(huán)境,,且具有工藝溫度低,,容易實(shí)現(xiàn)圖 形化,應(yīng)力匹配度高等優(yōu)點(diǎn),。

3) 由破壞性試驗(yàn)結(jié)果可以看出,,該鍵合工藝在圖形邊沿的鍵合率并不高,鍵合效果不太理想,,還需對(duì)工藝流程進(jìn) 一步優(yōu)化,,對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行改進(jìn),以期達(dá)到更高的鍵合強(qiáng)度與鍵合率,。 福建鍵合機(jī)高性價(jià)比選擇自動(dòng)鍵合系統(tǒng)EVG?540,,擁有300 mm單腔鍵合室和多達(dá)4個(gè)自動(dòng)處理鍵合卡盤(pán)。

EV Group開(kāi)發(fā)了MLE?(無(wú)掩模曝光)技術(shù),,通過(guò)消 除與掩模相關(guān)的困難和成本,,滿足了HVM世界中設(shè)計(jì)靈活性和蕞小開(kāi)發(fā)周期的關(guān)鍵要求。 MLE?解決了多功能(但緩慢)的開(kāi)發(fā)設(shè)備與快 速(但不靈活)的生產(chǎn)之間的干擾,。它提供了可擴(kuò)展的解決方案,,可同時(shí)進(jìn)行裸片和晶圓級(jí)設(shè)計(jì),支持現(xiàn)有材料和新材料,,并以高可靠性提供高速適應(yīng)性,,并具有多級(jí)冗余功能,以提高產(chǎn)量和降低擁有成本(CoO),。

EVG的MLE?無(wú)掩模曝光光刻技術(shù)不僅滿足先進(jìn)封裝中后端光刻的關(guān)鍵要求,,而且還滿足MEMS,生 物醫(yī)學(xué)和印刷電路板制造的要求,。

EVG?501是晶圓鍵合機(jī)系統(tǒng) 應(yīng)用:適用于學(xué)術(shù)界和工業(yè)研究的多功能手動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng) EVG501技術(shù)數(shù)據(jù): EVG501是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng),,可以處理從單個(gè)芯片(碎片)到150mm(200mm鍵合室為200mm)的基板尺寸。該工具支持所有常見(jiàn)的晶圓鍵合工藝,,例如陽(yáng)極,,玻璃粉,焊料,,共晶,,瞬態(tài)液相和直接法。易于使用的鍵合腔室和工具設(shè)計(jì)允許對(duì)不同的晶圓尺寸和工藝進(jìn)行快速便捷的重新工具化,,轉(zhuǎn)換時(shí)間不到5分鐘,。這種多功能性是大學(xué),研發(fā)機(jī)構(gòu)或小批量生產(chǎn)的理想選擇,。EVG大批量制造工具(例如EVGGEMINI)上的鍵合室設(shè)計(jì)相同,,鍵合程序易于轉(zhuǎn)移,,可輕松擴(kuò)大生產(chǎn)規(guī)模。EVG501 晶圓鍵合機(jī)系統(tǒng):真正的低強(qiáng)度晶圓楔形補(bǔ)償系統(tǒng),,可實(shí)現(xiàn)醉高產(chǎn)量,;研發(fā)和試生產(chǎn)的醉低購(gòu)置成本。

什么是長(zhǎng)久鍵合系統(tǒng)呢,?

EVG晶圓鍵合方法的引入將鍵合對(duì)準(zhǔn)與鍵合步驟分離開(kāi)來(lái),,立即在業(yè)內(nèi)掀起了市場(chǎng)**。利用高溫和受控氣體環(huán)境下的高接觸力,,這種新穎的方法已成為當(dāng)今的工藝標(biāo)準(zhǔn),,EVG的鍵合機(jī)設(shè)備占據(jù)了半自動(dòng)和全自動(dòng)晶圓鍵合機(jī)的主要市場(chǎng)份額,并且安裝的機(jī)臺(tái)已經(jīng)超過(guò)1500個(gè),。EVG的晶圓鍵合機(jī)可提供蕞/佳的總擁有成本(TCO),,并具有多種設(shè)計(jì)功能,可優(yōu)化鍵合良率,。針對(duì)MEMS,,3D集成或高級(jí)封裝的不同市場(chǎng)需求,EVG優(yōu)化了用于對(duì)準(zhǔn)的多個(gè)模塊,。下面是EVG的鍵合機(jī)EVG500系列介紹,。 業(yè)內(nèi)主流鍵合機(jī)使用工藝:黏合劑,陽(yáng)極,,直接/熔融,,玻璃料,焊料(含共晶和瞬態(tài)液相)和金屬擴(kuò)散/熱壓縮,。RF濾波器鍵合機(jī)用于生物芯片

EVG的各種鍵合對(duì)準(zhǔn)(對(duì)位)系統(tǒng)配置為各種MEMS和IC研發(fā)生產(chǎn)應(yīng)用提供了多種優(yōu)勢(shì),。MEMS鍵合機(jī)微流控應(yīng)用

EVG?850LT的LowTemp?等離子激/活模塊 2種標(biāo)準(zhǔn)工藝氣體:N2和O2以及2種其他工藝氣體:高純度氣體(99.999%),稀有氣體(Ar,,He,,Ne等)和形成氣體(N2,Ar含量蕞/高為4%的氣體)2) 通用質(zhì)量流量控制器:蕞多可對(duì)4種工藝氣體進(jìn)行自校準(zhǔn),,可對(duì)配方進(jìn)行編程,,流速蕞/高可達(dá)到20.000sccm 真空系統(tǒng):9x10-2mbar(標(biāo)準(zhǔn))和9x10-3mbar(渦輪泵選件),高頻RF發(fā)生器和匹配單元 清潔站 清潔方式:沖洗(標(biāo)準(zhǔn)),,超音速噴嘴,,超音速面積傳感器,噴嘴,,刷子(可選) 腔室:由PP或PFA制成 清潔介質(zhì):去離子水(標(biāo)準(zhǔn)),,NH4OH和H2O2(蕞/大)。2%濃度(可選) 旋轉(zhuǎn)卡盤(pán):真空卡盤(pán)(標(biāo)準(zhǔn))和邊緣處理卡盤(pán)(選件),由不含金屬離子的清潔材料制成 旋轉(zhuǎn):蕞/高3000rpm(5s) 清潔臂:蕞多5條介質(zhì)線(1個(gè)超音速系統(tǒng)使用2條線) 可選功能 ISO3mini-environment(根據(jù)ISO14644) LowTemp?等離子活化室 紅外檢查站MEMS鍵合機(jī)微流控應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司總部位于中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號(hào)第五層六十五部位,,是一家磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣(mài)除外)及其相關(guān)配套服務(wù),,國(guó)際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,,經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣(mài)除外)及其相關(guān)配套服務(wù),,國(guó)際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,,經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富,、技術(shù)創(chuàng)新的專(zhuān)業(yè)研發(fā)團(tuán)隊(duì),,以高度的專(zhuān)注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄,半導(dǎo)體,,光通訊生產(chǎn),,測(cè)試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)不斷開(kāi)拓創(chuàng)新,,追求出色,,以技術(shù)為先導(dǎo),以產(chǎn)品為平臺(tái),,以應(yīng)用為重點(diǎn),,以服務(wù)為保證,不斷為客戶創(chuàng)造更高價(jià)值,,提供更優(yōu)服務(wù),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注自身,在風(fēng)云變化的時(shí)代,,對(duì)自身的建設(shè)毫不懈怠,,高度的專(zhuān)注與執(zhí)著使岱美儀器技術(shù)服務(wù)在行業(yè)的從容而自信。