EVG120特征：

晶圓尺寸可達200毫米

超緊湊設(shè)計,，占用空間**小

**多2個涂布/顯影室和10個加熱/冷卻板

用于旋涂和噴涂,，顯影,，烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應用領(lǐng)域提供了巨大的機會

化學柜，用于化學品的外部存儲

EV集團專有的OmniSpray ®超聲波霧化技術(shù)提供了****的處理結(jié)果,，當涉及到極端地形的保形涂層

CoverSpin TM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性

Megasonic技術(shù)用于清潔,，聲波化學處理和顯影,，可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘

EVG光刻機**/新的曝光光學增強功能是對LED燈的設(shè)置,。河南光刻機學校會用嗎

EVG ® 150光刻膠處理系統(tǒng)分配選項：

各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達52000 cP的粘度

液體底漆/預濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

附加模塊選項

預對準：光學/機械

ID讀取器：條形碼,，字母數(shù)字，數(shù)據(jù)矩陣

系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR 山西光刻機技術(shù)支持EVG101是光刻膠處理,，EVG105是光刻膠烘焙機,，EVG120、EVG150是光刻膠處理自動化系統(tǒng),。

EVG620 NT技術(shù)數(shù)據(jù)：

曝光源：

汞光源/紫外線LED光源

先進的對準功能：

手動對準/原位對準驗證

自動對準

動態(tài)對準/自動邊緣對準

對準偏移校正算法

EVG620 NT產(chǎn)量:

全自動：第/一批生產(chǎn)量：每小時180片

全自動：吞吐量對準：每小時140片晶圓

晶圓直徑（基板尺寸）：高達150毫米

對準方式：

上側(cè)對準：≤±0.5 μm

底側(cè)對準：≤±1,0 μm

紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基材

鍵對準：≤±2,0 μm

NIL對準：≤±3.0 μm

曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

楔形補償：全自動軟件控制

曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP，KR

實時遠程訪問,，診斷和故障排除

工業(yè)自動化功能：

盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，彎曲,，翹曲,，邊緣晶圓處理

納米壓印光刻技術(shù)：SmartNIL ®

光刻機處理結(jié)果:EVG在光刻技術(shù)方面的核心競爭力在于其掩模對準系統(tǒng)（EVG6xx和IQ Aligner系列）以及高度集成的涂層平臺（EVG1xx系列）的高吞吐量的接近和接觸曝光能力,。EVG的所有光刻設(shè)備平臺均為300mm，可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,，并輔以其用于從上到下側(cè)對準驗證的計量工具,。高級封裝：在EVG®IQAligner®上結(jié)合NanoSpray?曝光的涂層TSV底部開口 ,；在EVG的IQ

Aligner NT®上進行撞擊40μm厚抗蝕劑；負側(cè)壁,，帶有金屬兼容的剝離抗蝕劑涂層; 金屬墊在結(jié)構(gòu)的中間；用于LIGA結(jié)構(gòu)的高縱橫比結(jié)構(gòu),，用EVG® IQ Aligner®曝光200μm厚的抗蝕劑的結(jié)果,；西門子星狀測試圖暴露在EVG®6200NT上，展示了高/分辨率的厚抗蝕劑圖形處理能力,；MEMS結(jié)構(gòu)在20μm厚的抗蝕劑圖形化的結(jié)果,。 OmniSpray涂層技術(shù)是對高形晶圓表面進行均勻涂層,。

EVG的掩模對準系統(tǒng)含有：EVG610；EVG620 NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng),；EVG6200 NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng),；IQ Aligner 自動掩模對準系統(tǒng)；IQ Aligner NT自動掩模對準系統(tǒng),；

【EVG ® 610掩模對準系統(tǒng)】EVG

® 610是一個緊湊的和多用途R＆d系統(tǒng),，可以處理小基板片和高達200毫米的晶片。

EVG ® 610技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG610支持多種標準光刻工藝,，例如真空,，硬，軟和接近曝光模式,，并可選擇背面對準功能,。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能,，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）,。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，可滿足用戶需求的變化,，轉(zhuǎn)換時間不到幾分鐘,。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求，因此使其非常適合大學和研發(fā)應用,。 我們可以根據(jù)您的需求提供進行優(yōu)化的多用途系統(tǒng),。湖北LED光刻機

EVG100光刻膠處理系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,，直徑從2寸到300 mm。河南光刻機學校會用嗎

IQ Aligner® 自動化掩模對準系統(tǒng)

特色：EVG ® IQ定位儀®平臺用于自動非接觸近距離處理而優(yōu)化的用于晶片尺寸高達200毫米,。

技術(shù)數(shù)據(jù)：IQ Aligner是具有高度自動化程度的非接觸式接近光刻平臺，可滿足將生產(chǎn)線中的掩模污染降至**/低并增加掩模壽命和產(chǎn)品良率的需求,。除了多種對準功能外,，該系統(tǒng)還通過專門配置進行了廣/泛的安裝和現(xiàn)場驗證，可自動處理和處理翹曲或變薄的晶圓,。標準的頂側(cè)或底側(cè)對準與集成的IR對準功能之間的混合匹配操作進一步拓寬了應用領(lǐng)域,，尤其是在與工程或粘合基板對準時。該系統(tǒng)還通過快速響應的溫度控制工具集支持晶片對準跳動控制,。 河南光刻機學校會用嗎

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司是一家磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司，是一家集研發(fā),、設(shè)計,、生產(chǎn)和銷售為一體的專業(yè)化公司,。公司自創(chuàng)立以來，投身于磁記錄,，半導體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)，是儀器儀表的主力軍,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終以本分踏實的精神和必勝的信念,，影響并帶動團隊取得成功。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注自身,，在風云變化的時代,，對自身的建設(shè)毫不懈怠，高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術(shù)服務(wù)在行業(yè)的從容而自信,。