IQ Aligner®NT曝光設(shè)定：硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式

楔形補償：全自動軟件控制,；非接觸式

IQ Aligner®NT曝光選項：間隔曝光/洪水曝光

先進(jìn)的對準(zhǔn)功能：自動對準(zhǔn)

暗場對準(zhǔn)功能/完整的明場掩模移動（FCMM）

大間隙對準(zhǔn)

跳動控制對準(zhǔn)

IQ Aligner®NT系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR

實時遠(yuǎn)程訪問,，診斷和故障排除

如果您需要確認(rèn)準(zhǔn)確的產(chǎn)品的信息,，請聯(lián)系我們。如果需要鍵合機,，請看官網(wǎng)信息,。 IQ Aligner NT 光刻機系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片，支持200mm和300mm尺寸的晶圓,。高精密儀器光刻機技術(shù)服務(wù)

EVG鍵合機掩模對準(zhǔn)系列產(chǎn)品,，使用**/先進(jìn)的工程技術(shù)。

用戶對接近式對準(zhǔn)器的主要需求由幾個關(guān)鍵參數(shù)決定,。亞微米對準(zhǔn)精度,，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙，以及對應(yīng)于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標(biāo)準(zhǔn),。此外,，整個晶圓表面的高光強度和均勻性是設(shè)計和不斷增強EVG掩模對準(zhǔn)器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù)。創(chuàng)新推動了我們的日常業(yè)務(wù)的發(fā)展和提升我們的理念,，使我們能夠跳出思維框架,，創(chuàng)造更先進(jìn)的系統(tǒng)。 重慶HERCULES光刻機HERCULES 全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時,、大間隙,、晶圓平面或紅外對準(zhǔn),，在可編程位置自動定位。

EVG ® 610曝光源：

汞光源/紫外線LED光源

楔形補償

全自動軟件控制

晶圓直徑（基板尺寸）

高達(dá)100/150/200毫米

曝光設(shè)定：

真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式

曝光選項：

間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

先進(jìn)的對準(zhǔn)功能：

手動對準(zhǔn)/原位對準(zhǔn)驗證

手動交叉校正

大間隙對準(zhǔn)

EVG ® 610光刻機系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR

實時遠(yuǎn)程訪問，診斷和故障排除

使用的納米壓印光刻技術(shù)為“無紫外線”

EVG770自動UV-NIL納米壓印步進(jìn)機,，用于制作主圖章。母模是晶圓大小的模板,，里面完全裝有微透鏡模具,，每個模具都采用分步重復(fù)的方法從一個透鏡模板中復(fù)制。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開始,，提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程,，具有****的鏡片位置精度和**鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復(fù)性晶圓級相機模塊。

IQ Aligner自動UV-NIL納米壓印系統(tǒng),，用于UV微透鏡成型,。軟UV壓印光刻技術(shù)是用于制造聚合物微透鏡（WLO系統(tǒng)的關(guān)鍵要素）的高度并行技術(shù)。EVG從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始,，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,，可以輕松地將其應(yīng)用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合。此外,，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識。

EVG40 NT自動測量系統(tǒng),。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測量,，計量對于驗證是否符合嚴(yán)格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關(guān)重要。在WLO制造中,，EVG的度量衡解決方案可用于關(guān)鍵尺寸（CD）測量和透鏡疊層對準(zhǔn)驗證,，以及許多其他應(yīng)用。 EVG101是光刻膠處理,，EVG105是光刻膠烘焙機,，EVG120、EVG150是光刻膠處理自動化系統(tǒng),。

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)技術(shù)數(shù)據(jù)：

對準(zhǔn)方式：

上側(cè)對準(zhǔn)：≤±0.5 μm,；

底側(cè)對準(zhǔn)：≤±1,0 μm；

紅外校準(zhǔn)：≤±2,0 μm /具體取決于基材

先進(jìn)的對準(zhǔn)功能：

手動對準(zhǔn),；

自動對準(zhǔn),；

動態(tài)對準(zhǔn),。

對準(zhǔn)偏移校正：

自動交叉校正/手動交叉校正；

大間隙對準(zhǔn),。

工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲，翹曲,，邊緣晶圓處理

曝光源：汞光源/紫外線LED光源

曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

楔形補償：全自動軟件控制,；非接觸式

曝光選項：

間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

系統(tǒng)控制

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR

實時遠(yuǎn)程訪問,，診斷和故障排除 只有接近客戶，才能得知客戶**真實的需求,，這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一,。實驗室光刻機美元價格

可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤、曝光后烘烤和硬烘烤操作,。高精密儀器光刻機技術(shù)服務(wù)

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的特征：

晶圓尺寸可達(dá)300毫米,；

自動旋轉(zhuǎn)或噴涂或通過手動晶圓加載/卸載進(jìn)行顯影；

利用成熟的模塊化設(shè)計和標(biāo)準(zhǔn)化軟件,，快速輕松地將過程從研究轉(zhuǎn)移到生產(chǎn),；

注射器分配系統(tǒng)，用于利用小體積的光刻膠,，包括高粘度光刻膠,；

占地面積小，同時保持較高的人身和流程安全性,；

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）,。

選項功能：

使用OmniSpray®涂層技術(shù)對高形晶圓表面進(jìn)行均勻涂層,；

蠟和環(huán)氧涂層，用于后續(xù)粘合工藝,；

玻璃旋涂（SOG）涂層,。

高精密儀器光刻機技術(shù)服務(wù)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位，是一家磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)作為磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】的企業(yè)之一,，為客戶提供良好的磁記錄，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終以本分踏實的精神和必勝的信念，影響并帶動團隊取得成功,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注自身,，在風(fēng)云變化的時代，對自身的建設(shè)毫不懈怠,，高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術(shù)服務(wù)在行業(yè)的從容而自信,。