我們可以根據(jù)您的需求提供進行優(yōu)化的多用途系統(tǒng),。

我們的掩模對準系統(tǒng)設計用于從掩模對準到鍵合對準的快速簡便轉換,。此外，可以使用用于壓印光刻的可選工具集,，例如UV-納米壓印光刻,，熱壓印或微接觸印刷。所有系統(tǒng)均支持原位對準驗證軟件,，以提高手動操作系統(tǒng)的對準精度和可重復性,。EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動基片處理，實現(xiàn)現(xiàn)場升級,。此外,，所有掩模對準器都支持EVG專有的NIL技術。如果您需要納米壓印設備,，請訪問我們的官網(wǎng),，或者直接聯(lián)系我們。 可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤,、曝光后烘烤和硬烘烤操作,。高校光刻機優(yōu)惠價格

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)

所述HERCULES ®是一個高容量的平臺整合整個光刻工藝流在一個系統(tǒng)中，縮小處理工序和操作者支持,。

HERCULES基于模塊化平臺,，將EVG建立的光學掩模對準技術與集成的晶圓清洗，光刻膠涂層,，烘烤和光刻膠顯影模塊相結合,。HERCULES支持各種晶片尺寸的盒到盒處理。HERCULES安全地處理厚,，彎曲度高,，矩形,，小直徑的晶圓，甚至可以處理設備托盤,。精密的頂側和底側對準以及亞微米至超厚（**/大300微米）光刻膠的涂層可用于夾層和鈍化應用。出色的對準臺設計可實現(xiàn)高產(chǎn)量的高精度對準和曝光結果,。

低溫光刻機供應商家可在眾多應用場景中找到EVG的設備應用,，包括高級封裝，化合物半導體,，功率器件,，LED，傳感器和MEMS,。

EVG鍵合機掩模對準系列產(chǎn)品,，使用**/先進的工程技術。

用戶對接近式對準器的主要需求由幾個關鍵參數(shù)決定,。亞微米對準精度,，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙，以及對應于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標準,。此外,，整個晶圓表面的高光強度和均勻性是設計和不斷增強EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關鍵參數(shù)。創(chuàng)新推動了我們的日常業(yè)務的發(fā)展和提升我們的理念,，使我們能夠跳出思維框架,，創(chuàng)造更先進的系統(tǒng)。

EVG620 NT特征2：

自動原點功能,，用于對準鍵的精確居中

具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準功能

支持**/新的UV-LED技術

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)

自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能

可以從半自動版本升級到全自動版本

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

先進的軟件功能以及研發(fā)與全/面生產(chǎn)之間的兼容性

便捷處理和轉換重組

遠程技術支持和SECS / GEM兼容性

EVG620 NT附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻（NIL） EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動的基片處理,，能夠實現(xiàn)現(xiàn)場升級,。

EVG120特征2：

先進且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能，可確保連續(xù)的高產(chǎn)量,；

工藝技術卓/越和開發(fā)服務：

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[Framework SW Platform]

用于過程和機器控制的集成分析功能

設備和過程性能跟/蹤功能,；

并行/排隊任務處理功能,；

智能處理功能；

發(fā)生和警報分析,；

智能維護管理和跟/蹤,；

技術數(shù)據(jù)：

可用模塊；

旋涂/ OmniSpray ® /開發(fā),；

烤/冷,；

晶圓處理選項：

單/雙EE /邊緣處理/晶圓翻轉,；

彎曲/翹曲/薄晶圓處理。

只有以客戶的需求為導向,，研發(fā)才具有價值,，也是我們不斷前進的動力。江蘇光刻機免稅價格

EVG?620 NT / EVG?6200 NT 掩模對準系統(tǒng)（自動化和半自動化）支持的晶圓尺寸 ：150 mm / 200 mm,。高校光刻機優(yōu)惠價格

EVG曝光光學：專門開發(fā)的分辨率增強型光學元件（REO）可提供高出50％的強度,，并顯著提高/分辨率，在接近模式下可達到小于3μm的分辨率,。REO的特殊設計有助于控制干涉效應以獲得分辨率,。EVG**/新的曝光光學增強功能是LED燈設置。低能耗和長壽命是UV-LED光源的**/大優(yōu)勢,，因為不需要預熱或冷卻,。在用戶軟件界面中可以輕松、實際地完成曝光光譜設置,。此外,，LED需要*在曝光期間供電，并且該技術消除了對汞燈經(jīng)常需要的額外設施（廢氣,，冷卻氣體）和更換燈的需要,。這種理想的組合不僅可以**/大限度地降低運行和維護成本，還可以增加操作員的安全性和環(huán)境友好性,。高校光刻機優(yōu)惠價格

岱美儀器技術服務（上海）有限公司致力于儀器儀表,，以科技創(chuàng)新實現(xiàn)***管理的追求。岱美儀器技術服務擁有一支經(jīng)驗豐富,、技術創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團隊,，以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄，半導體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術服務不斷開拓創(chuàng)新,，追求出色,，以技術為先導，以產(chǎn)品為平臺,，以應用為重點,，以服務為保證，不斷為客戶創(chuàng)造更高價值,，提供更優(yōu)服務,。岱美儀器技術服務始終關注自身，在風云變化的時代,，對自身的建設毫不懈怠,，高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術服務在行業(yè)的從容而自信,。