全自動金相切割機的切割精度與穩(wěn)定性分析-全自動金相切割機
全自動顯微維氏硬度計在電子元器件檢測中的重要作用
全自動顯微維氏硬度計:提高材料質(zhì)量評估的關(guān)鍵工具
全自動維氏硬度計對現(xiàn)代制造業(yè)的影響?-全自動維氏硬度計
跨越傳統(tǒng)界限:全自動顯微維氏硬度計在復合材料檢測中的應用探索
從原理到實踐:深入了解全自動顯微維氏硬度計的工作原理
全自動金相切割機在半導體行業(yè)的應用前景-全自動金相切割機
全自動金相切割機的工作原理及優(yōu)勢解析-全自動金相切割機
全自動洛氏硬度計在材料科學研究中的應用?-全自動洛氏硬度計
全自動維氏硬度計在我國市場的發(fā)展現(xiàn)狀及展望-全自動維氏硬度計
技術(shù)介紹:
紅外干涉測量技術(shù), 非接觸式測量,。采用Michaelson干涉方法,,紅外波段的激光能更好的穿透被測物體,準確的得到測試結(jié)果,。
產(chǎn)品簡介:FSM 413EC 紅外干涉測量設(shè)備
適用于所有可讓紅外線通過的材料:硅,、藍寶石、砷化鎵,、磷化銦,、碳化硅、玻璃,、石 英,、聚合物…………
應用:
襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶,、凹凸或者粘合硅片影響)
平整度
溝槽深度
過孔尺寸,、深度、側(cè)壁角度
粗糙度
薄膜厚度
硅片厚度
環(huán)氧樹脂厚度
襯底翹曲度
晶圓凸點高度(bump height)
MEMS 薄膜測量
TSV 深度,、側(cè)壁角度...
當測量斑點只有1微米(μm)時,,需要用您自己的顯微鏡或者用我們提供的整個系統(tǒng)。光干涉膜厚儀芯片行業(yè)
濾光片整平光譜響應,。
ND#0.5 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#0.5 衰減整平濾波器.
ND#1 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#1 衰減整平濾波器.
ND#2 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#2 衰減整平濾波器.
420nm 高通濾波器.420nm 高通濾波器於濾波器架.
515nm 高通濾波器.515nm 高通濾波器於濾波器架.
520nm 高通濾波器 +ND1.520nm 高通濾波器 + ND#1 十倍衰減整平濾波器.
520nm 高通濾波器 + ND#2520nm 高通濾波器 + ND#2 一百倍衰減整平濾波器.
550nm 高通濾波器550nm 高通濾波器於濾波器架. Filmetrics F10-AR膜厚儀推薦產(chǎn)品紫外光可測試的深度:***的薄膜(SOI 或 Si-SiGe)或者厚樣的近表面局部應力,。
生物醫(yī)療設(shè)備涂層應用生物醫(yī)療器械應用中的涂層生物醫(yī)療器械的制造和準備方面會用到許多類型的涂層。 有些涂層是為了保護設(shè)備免受腐蝕,,而其他的則是為了預防組 織損傷,、***或者是排異反應。 藥 物傳輸涂層也變得日益普通,。 其它生物醫(yī)學器械,,如血管成型球囊,,具有**的隔膜,必須具有均勻和固定的厚度才能正常工作,。
這些涂層厚度的測量方法各不相同,,但有一件事是確定的。使用普通方法 (例如,,在涂層前后稱某一部分的重量),, 無法檢測到會導致器械故障的涂層不完全覆蓋或涂層的不均勻性。
FSM 413MOT 紅外干涉測量設(shè)備:
適用于所有可讓紅外線通過的材料:硅,、藍寶石,、砷化鎵、磷化銦,、碳化硅,、玻璃、石 英,、聚合物…………
應用:
襯底厚度(不受圖案硅片,、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)
平整度
厚度變化 (TTV)
溝槽深度
過孔尺寸,、深度,、側(cè)壁角度
粗糙度
薄膜厚度
不同半導體材料的厚度
環(huán)氧樹脂厚度
襯底翹曲度
晶圓凸點高度(bump height)
MEMS 薄膜測量
TSV 深度、側(cè)壁角度...
如果您想了解更多關(guān)于FSM膜厚儀的技術(shù)問題,,請聯(lián)系我們岱美儀器。 產(chǎn)品名稱:紅外干涉厚度測量設(shè)備,。
更可加裝至三個探頭,,同時測量三個樣品,具紫外線區(qū)或標準波長可供選擇,。F40:這型號安裝在任何顯微鏡外,,可提供*小5um光點(100倍放大倍數(shù))來測量微小樣品。F50:這型號配備全自動XY工作臺,,由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可,。通過快速掃瞄功能,可取得整片樣品厚度分布情況(mapping),。F70:*通過在F20基本平臺上增加鏡頭,,使用Filmetrics*新的顏色編碼厚度測量法(CTM),把設(shè)備的測量范圍極大的拓展至,。F10-RT:在F20實現(xiàn)反射率跟穿透率的同時測量,,特殊光源設(shè)計特別適用于透明基底樣品的測量。PARTS:在垂直入射光源基礎(chǔ)上增加70o光源,,特別適用于超薄膜層厚度和n,、k值測量,。**膜厚測量儀系統(tǒng)F20使用F20**分光計系統(tǒng)可以簡便快速的測量厚度和光學參數(shù)(n和k)。您可以在幾秒鐘內(nèi)通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度,、折射率和消光系數(shù),。任何具備基本電腦技術(shù)的人都能在幾分鐘內(nèi)將整個桌面系統(tǒng)組裝起來。F20包括所有測量需要的部件:分光計,、光源,、光纖導線、鏡頭**和Windows下運行的軟件,。您需要的只是接上您的電腦,。膜層實例幾乎任何光滑、半透明,、低吸收的膜都能測,。包括:sio2(二氧化硅)sinx(氮化硅)dlc(類金剛石碳)photoresist。F20-UV測厚范圍:1nm - 40μm,;波長:190-1100nm,。中芯國際膜厚儀值得買
F3-s980 是波長為980奈米的版本,是為了針對成本敏銳的應用而設(shè)計,。光干涉膜厚儀芯片行業(yè)
不管您參與對顯示器的基礎(chǔ)研究還是制造,,F(xiàn)ilmetrics 都能夠提供您所需要的...測量液晶層- 聚酰亞胺、硬涂層,、液晶,、間隙測量有機發(fā)光二極管層- 發(fā)光、電注入,、緩沖墊,、封裝對于空白樣品,我們建議使用 F20 系列儀器,。 對于圖案片,,F(xiàn)ilmetrics的F40用于測量薄膜厚度已經(jīng)找到了顯示器應用***使用。
測量范例此案例中,,我們成功地測量了藍寶石和硼硅玻璃基底上銦錫氧化物薄膜厚度,。與Filmetrics專有的ITO擴散模型結(jié)合的F10-RTA-EXR儀器,可以很容易地在380納米到1700納米內(nèi)同時測量透射率和反射率以確定厚度,,折射率,,消光系數(shù)。由于ITO薄膜在各種基底上不同尋常的的擴散,,這個擴展的波長范圍是必要的,。 光干涉膜厚儀芯片行業(yè)
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司致力于儀器儀表,是一家其他型公司,。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄,,半導體,,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)等,,目前不斷進行創(chuàng)新和服務(wù)改進,,為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司將不斷增強企業(yè)重點競爭力,,努力學習行業(yè)知識,,遵守行業(yè)規(guī)范,植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊,、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先,、技術(shù)為實”的經(jīng)營理念,,全力打造公司的重點競爭力。